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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
含氟涂布剂和用该涂布剂处理过的物品制造技术
本发明提供能够稳定地形成即使膜厚变厚也不损害基材的可视性的防水防油膜的含氟涂布剂和用该涂布剂涂布的物品。含氟涂布剂,是包含(A)用含有氟代氧亚烷基的聚合物改性的在单末端具有水解性基团的硅烷和/或其部分水解缩合物和(B)用含有氟代氧亚烷基...
化妆品制造技术
本发明的课题在于提供一种化妆品,所述化妆品附着性优异,可形成均匀的化妆膜,不会随时间而发生妆容凌乱,无发粘感,使用感良好,而且,粉末的分散性稳定,随时间的变化少。为了解决该课题,提供一种利用下述通式(1)所示化合物的至少一种进行了表面处...
防尘薄膜组件制造技术
本发明的目的为提供一种通气孔开口部以及过滤器的大小由于防尘薄膜组件的高度而被限制,但是即使在防尘薄膜组件的高度被限制为低的场合,也会使过滤器的有效面积充分大,防尘薄膜组件封闭空间的内外的压力差得以很快地缓和的防尘薄膜组件。本发明防尘薄膜...
制备半色调相移光掩模坯的方法技术
本发明为制备半色调相移光掩模坯的方法,其中,含Si和N和/或O的半色调相移膜通过反应性溅射使用含硅的靶和反应性气体沉积在透明基底上。横跨多个靶施加不同的功率,从而将与迟滞曲线相关的选自金属模式、过渡模式和反应模式中的两种不同的溅射模式应...
半色调相移掩模坯和半色调相移掩模制造技术
本发明提供半色调相移掩模坯,包括透明基板和半色调相移膜,该半色调相移膜由具有至少90at%的Si+N+O含量、30-70at%的Si含量、30-60at%的N+O含量和30at%以下的O含量的硅基材料组成,并且具有70nm以下的厚度。该...
制备半色调相移光掩模坯的方法技术
在透明基底上通过用含有N和/或O的反应性气体的含Si靶的反应性溅射沉积含有Si以及N和/或O的半色调相移膜。在将所述反应性气体流速设定为等于或低于所述迟滞区中所述反应性气体流速下限时溅射沉积一层,在将所述反应性气体流速设定为所述迟滞区中...
R-Fe-B烧结磁体及制备方法技术
本发明涉及R-Fe-B烧结磁体及制备方法。本发明提供了一种R-Fe-B烧结磁体,其基本上由12-17at%的R、0.1-3at%的M1、0.05-0.5at%的M2、4.8+2×m至5.9+2×m at%的B及余量的Fe构成,该烧结磁体...
固化性组合物、半导体装置以及含酯键的有机硅化合物制造方法及图纸
本发明是一种固化性组合物,其含有:(A)含酯键的有机硅化合物,其由下述通式(1)表示,且1分子中具有2个以上加成反应性碳‑碳双键;(B)硅化合物,其是1分子中具有2个以上键合在硅原子上的氢原子;以及,(C)硅氢化反应催化剂。由此,本发明...
光纤母材的加工方法技术
一种光纤母材的加工方法,在预定的加工位置处,使光纤母材缩径至预定的目标外径之后切断光纤母材,在光纤母材的端部形成纺锤状部分,包括:在加工位置处,将光纤母材的外径缩径至加工前外径和目标外径之间的预定的中间外径的阶段;在包含加工位置的区域中...
非水电解质二次电池用负极材料、非水电解质二次电池用负极及非水电解质二次电池用负极的制造方法以及非水电解质二次电池技术
本发明是一种非水电解质二次电池用负极材料,其具有负极活性物质颗粒,所述非水电解质二次电池用负极材料的特征在于,前述负极活性物质颗粒具有由SiOx表示的硅化合物,其中,0.5≤x≤1.6;并且,前述硅化合物的内部含有锂化合物,前述非水电解...
凝胶糊剂组合物以及使用所述凝胶糊剂组合物的化妆材料制造技术
本发明所要解决的课题是提供一种凝胶糊剂组合物,其交联型有机聚硅氧烷与甲氧基肉桂酸乙基己酯以及水之间的相溶性已改善,当调配在化妆材料中时的分散性优良,并显示良好的触感以及妆容持久度。本发明解决课题的技术手段是一种凝胶糊剂组合物,其含有(A...
复合氟化物荧光体的制造方法和处理方法技术
本发明涉及Mn活化复合氟化物荧光体的制造方法,其为制造作为由下述式(1)A2MF6:Mn(1)(M为选自Si、Ti、Zr、Hf、Ge和Sn中的1种或2种以上的4价元素,A为选自Li、Na、K、Rb和Cs并且至少包含Na和/或K的1种或2...
非水电解质二次电池的负极材料用的负极活性物质、非水电解质二次电池用负极电极、以及非水电解质二次电池制造技术
本发明是一种负极活性物质,其是非水电解质二次电池的负极材料用的负极活性物质,所述负极活性物质的特征在于,前述负极活性物质含有硅类材料SiOx,且0.5≤x≤1.6,所述硅类材料包含Li6Si2O7、Li2Si3O5、Li4SiO4中的至...
非水电解质二次电池用负极及非水电解质二次电池制造技术
本发明是一种非水电解质二次电池用负极,其含有多个负极活性物质,所述非水电解质二次电池用负极的特征在于,前述负极活性物质至少含有硅系活性物质SiOx及碳系活性物质,其中,0.5≤x≤1.6,并且前述硅系活性物质的内部含有Li2SiO3及L...
化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法技术
本发明涉及化学增幅型正型抗蚀剂组合物和图案形成方法。该抗蚀剂组合物包括适于在酸的作用下分解以增加其在碱性显影剂中的溶解度的树脂和含氮羧酸的锍或碘鎓盐,具有高分辨率。采用光刻法,能够形成具有最小LER的图案。
树脂组合物、树脂膜和半导体装置及其制造方法制造方法及图纸
本发明涉及树脂组合物,其含有下述(A)、(B)和(C)成分:(A)具有由下述组成式(1)表示的结构单元的重均分子量为3,000~500,000的有机硅树脂、(B)环氧树脂固化剂、(C)填料,本发明能够提供树脂组合物及树脂膜,其能够将晶片...
晶片加工体、晶片加工用暂时粘合材料、及薄型晶片的制造方法技术
本发明是一种晶片加工体,其是在支撑体上形成有暂时粘合材料层,且在暂时粘合材料层上积层有晶片而成,所述晶片在表面具有电路面且应加工背面,所述晶片加工体的特征在于,所述暂时粘合材料层具备复合暂时粘合材料层,所述复合暂时粘合材料层具有以下三层...
发泡树脂成型用模具及其制造方法技术
本发明为在用铝材形成的发泡树脂成型用模具主体(10)的至少形成模腔(20)的内壁面的一部分或全部形成有JIS‑A硬度为20~70的硅橡胶层(40)作为绝热层的发泡树脂成型用模具。本发明的发泡树脂成型用模具可有效地在采用珠粒成型法的发泡聚...
粉末成型装置及使用该装置制造稀土烧结磁体制造方法及图纸
本发明涉及粉末成型装置及使用该装置制造稀土烧结磁体。当通过将粉末材料(5)引入在下冲头(2)和冲模(1)之间的空腔(11)中、将在上冲头(3)和下冲头(2)之间的材料压缩成型为所需形状的压坯(51)及向上移动下冲头(2)以推出压坯(51...
有机改性硅酮树脂组合物制造技术
本发明是一种有机改性硅酮树脂组合物,其包含:(A)(a)与(b)的加成反应产物,且在1分子中具有2个加成反应性碳‑碳双键,其中,(a)是由通式(1)表示的具有SiH基的化合物,(b)是具有加成反应性碳‑碳双键的多环式烃;(B)具有经烷氧...
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