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信越化学工业株式会社专利技术
信越化学工业株式会社共有3967项专利
锍盐、抗蚀剂组合物及图案形成方法技术
本发明提供一种锍盐,其中,通过将其用作光产酸剂,在以高能量射线为光源的照相平版印刷中,能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子,所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中,排除...
热传导性硅酮组合物和半导体装置制造方法及图纸
本发明提供一种具有优异的热传导性的热传导性硅酮组合物。其包含下述成分(A)、成分(B)、成分(C)以及成分(D):成分(A)为有机聚硅氧烷,其以下述平均组成式(1)所表示,且在25℃下的运动粘度为10~100000mm2/s[通式中R1...
球状聚甲基苯基硅倍半氧烷粒子的制造方法技术
体积平均粒径为1~5μm的球状聚甲基苯基硅倍半氧烷粒子的制造方法,其包含:(i)将甲基三甲氧基硅烷添加到pH为4.0~7.0的水中,进行水解反应,得到透明的水溶液的工序;(ii)在工序(i)中得到的水溶液中添加苯基三甲氧基硅烷,进行水解...
具有硅氧烷骨架的吸水性树脂及包含所述吸水性树脂的化妆材料制造技术
本发明是一种具有硅氧烷骨架的吸水性树脂,其特征在于,所述吸水性树脂是包含下述结构单元的共聚物:源自通式(1)的聚合性乙烯基单体(A)的结构单元、源自通式(3)的聚合性乙烯基单体(B)的结构单元、及源自通式(4)的在两末端具有聚合性基的有...
光掩模坯料及其制造方法技术
本发明涉及一种光掩模坯料,所述光掩模坯料在对含有硅的无机膜实施硅烷化处理后形成抗蚀膜,并提供一种光掩模坯料及其制造方法,其能够抑制在显影后因抗蚀剂残渣等所引起的缺陷的产生。为了解决上述问题,提供一种光掩膜坯料的制造方法,其是制造以下的光...
半色调相移光掩模坯料制造技术
本发明涉及半色调相移光掩模坯料,该半色调相移光掩模坯料具有在透明衬底上的用作半色调相移膜的第一膜、用作遮光膜的第二膜、用作硬掩模膜的第三膜、和第四膜。第一膜和第三膜由含硅材料形成,该含硅材料耐氯基干法刻蚀并通过氟基干法刻蚀可除去。第二膜...
光掩模坯料制造技术
本发明涉及光掩模坯料,该光掩模坯料具有在透明衬底上的任选第一膜、第二膜、第三膜和第四膜。第一膜和第三膜由含硅材料形成,该含硅材料耐氯基干法刻蚀并通过氟基干法刻蚀可除去。第二膜和第四膜由含铬材料形成,该含铬材料耐氟基干法刻蚀并通过氯基干法...
加成固化型有机聚硅氧烷树脂组合物、该组合物的固化物以及具有该固化物的半导体装置制造方法及图纸
本发明提供一种加成固化型有机聚硅氧烷树脂组合物,其形成具有优异的透明性、耐热性以及耐光性的固化物。该加成固化型有机聚硅氧烷树脂组合物含有以下(A)成分~(D)成分:(A)有机聚硅氧烷,其在1个分子中至少具有2个已与硅原子键合的碳原子数2...
拉丝用光纤母材的制造方法及制造装置制造方法及图纸
本发明是一种拉丝用光纤母材的制造方法,利用加热器对光纤母材进行加热,在端部形成缩窄形状部,且包括如下阶段:通过邻接于加热器而配置的整流部件,形成阻止包含Si化合物的气体沿着光纤母材的表面流动的气流,所述Si化合物是由被加热器加热后的光纤...
三氯硅烷的纯化系统以及硅晶体技术方案
本发明提供三氯硅烷的纯化系统以及硅晶体,所述三氯硅烷的纯化系统能够防止伴随高沸点化合物的转化而产生的加成物的解离所引起的再污染、平衡制约所引起的杂质残留。在多段式杂质转化工序中供给含有硅晶体中成为供体或受体的杂质的三氯硅烷。该三氯硅烷中...
负极活性物质、混合负极活性物质材料、非水电解质二次电池、负极活性物质的制造方法及非水电解质二次电池的制造方法技术
本发明提供一种负极活性物质,其包含负极活性物质颗粒,所述负极活性物质的特征在于,前述负极活性物质颗粒含有硅化合物颗粒,所述硅化合物颗粒包含硅化合物SiOx,其中,0.5≤x<1.0;前述硅化合物颗粒含有锂,并且,将前述负极活性物质用于二...
有机聚硅氧烷乳化组合物和树脂组合物制造技术
含有下式(1)的聚氧化烯改性有机聚硅氧烷化合物作为乳化剂或乳化助剂的有机聚硅氧烷乳化组合物。(LR2SiO1/2)a(R3SiO1/2)b(R2SiO2/2)c(RSiO3/2)d(SiO4/2)e(1)[L为下式(2)―H2C―CH2...
将缩合固化反应和有机过氧化物固化反应并用的有机硅组合物制造技术
本发明提供导热性有机硅组合物,其不需要冷藏或冷冻保存,进而在安装时也不需要加热/冷却工序,因此生产效率高,进而可以抑制耐热时、冷热循环时的硬度变化、开裂和偏移引起的固化物的劣化。在现有的缩合固化型有机硅组合物中将固化时采用有机过氧化物的...
无溶剂型有机硅改性聚酰亚胺树脂组合物制造技术
无溶剂型有机硅改性聚酰亚胺树脂组合物,其含有:(A)式(1)的有机硅改性聚酰亚胺树脂Ee‑Ff‑Gg(1)(E为式(2),F为式(3),G为来自二胺的2价的残基。f+e+g=100摩尔%,f/(e+g)的摩尔比为0.8~1.2)(2)(...
新型异腈化合物和氢化硅烷化反应催化剂制造技术
本发明提供新型的异腈化合物、通过使用其从而可在温和的条件下进行氢化硅烷化反应的、处置性和保存性优异的氢化硅烷化反应催化剂和使用了其的采用氢化硅烷化反应的加成化合物的制造方法。氢化硅烷化反应催化剂,其由包含铁羧酸盐、钴羧酸盐、镍羧酸盐等不...
在两末端具有不同官能团的直链有机聚硅氧烷及其制造方法技术
[课题]本发明的目的在于,提供在聚硅氧烷的两末端具有不同的官能团、且具有充分的硅氧烷含有率的异种末端官能有机聚硅氧烷化合物及其制造方法。本发明还提供具有末端氨基和其他末端官能团的聚硅氧烷化合物及其制造方法。[解决手段]本发明提供由通式(...
层叠体的制造方法技术
本发明提供一种一边维持非常高度的耐擦伤性,一边体现出可见光的透明性和紫外线屏蔽性,进而,全部满足能够承受长期的户外暴露的耐候性、耐久性的层叠体的制造方法。制造具有上述特性的层叠体的本发明的方法包括如下工序:(1)在有机树脂基材上以活性能...
负极活性物质及其制造方法、非水电解质二次电池用负极、锂离子二次电池及其制造方法技术
本发明是一种负极活性物质,其包含负极活性物质颗粒,所述负极活性物质的特征在于:前述负极活性物质颗粒含有硅化合物颗粒,所述硅化合物颗粒包含硅化合物SiOx,其中,0.5≤x≤1.6,前述硅化合物颗粒含有Li2SiO3和Li4SiO4中的至...
图案形成方法技术
本发明为图案形成方法。通过以下形成图案:(i)将包括(A)基础树脂、(B)光致产酸剂、(C)有机溶剂和(D)聚乙烯醇或聚乙烯基烷基醚的化学增幅正型抗蚀剂组合物施加至基板上以在其上形成抗蚀剂膜,(ii)将抗蚀剂膜曝光至辐射,和(iii)采...
加成固化性有机硅树脂组合物和光学半导体器件的晶片连接材料制造技术
提供有机硅树脂组合物,其具有在组合物的固化期间对LED芯片上的金焊盘部的低水平的污染并且对由反射器构件形成的基板上的银引线框的粘合性优异。加成固化性有机硅树脂组合物,其包括(A‑1)每分子具有两个或更多个具有2至8个碳原子的烯基的线型有...
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江西省经济作物研究所
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