本发明公开了一种测量设备用晶圆取放装置，包括取放机构，所述取放机构设置于上下料机构和测量机构的旁边，所述取放机构包括夹具支架，所述夹具支架的中间设有主旋转轴，所述主旋转轴安装于机械臂的连接转盘上，所述夹具支架的两端设有内撑夹具；所述取放...

本发明公开了一种炉管工艺管路排气压力平衡装置，包括炉管壳体，所述炉管壳体内设有进气管路、排气管路，所述排气管路分为一段管路与二段管路，所述二段管路的内壁设有压力传感器，所述二段管路的上下两侧均设有压力平衡器，所述压力平衡器包括辅助管路，...

本发明公开了一种热处理设备，包括机体，所述机体的内部两侧设有放置台，每个放置台均对应着机体的门，位于两个所述放置台之间设有移动机构，所述移动机构上设有承载机构，所述承载机构3的正前方对应设置有热处理机构；每个所述放置台上方的机体上均设有...

本实用新型公开了一种炉管腔体内辅助降温装置，包括上壳体与下壳体，所述上壳体两侧设有第一连接块，所述下壳体两侧设有第二连接块，所述第一连接块上设有多个插销，所述第二连接块上设有多个通孔，所述通孔与插销的位置一一对应，所述上壳体与下壳体内均...

本发明公开了一种晶圆片表面金属杂质处理装置，包括除尘装置、清洗装置和风干装置，所述除尘装置和风干装置分别位于清洗装置的两侧，所述清洗装置包括超声波清洗槽，所述超声波清洗槽的底部设有升降平台，所述升降平台上设有翻转机构，本发明结构简单，设...

本实用新型公开了一种单晶炉用密封炉盖，包括炉盖，所述炉盖的盖体外侧设有炉盖下法兰，沿着所述炉盖的盖体内设有一圈L型内壁，所述炉盖底部的延伸段上设有可拆卸的第一L型密封圈，所述L型内壁底部的延伸段上设有可拆卸的第二L型密封圈，所述第一L型...

本实用新型公开了一种硅片加工用传送机械臂，包括两个纵向电动丝杆，两个所述纵向电动丝杆之间设有横向滑行架，所述横向滑行架上设有安装架，所述安装架内设有电动升降杆，所述电动升降杆的顶端设有连接件，所述连接件的前端连接着第一支臂，所述第一支臂...

本实用新型公开了一种石英舟自动装载晶圆片装置，包括底座，所述底座上设有安装板，所述安装板上设有升降机构，所述升降机构包括凸轮，所述凸轮上设有第一旋转轴，所述安装板上设有第一支架与第二支架，所述第一支架内穿过有圆杆，所述圆杆顶部设有圆盘，...

本发明公开了一种硅片氧化设备，包括壳体，所述壳体的壳壁内部设有多个电加热管，所述壳体上开设有进料口，所述进料口处设有密封门，所述壳体内侧壁上设有一组对应的磁吸板，两个所述磁吸板之间设有第一安装板，所述第一安装板上设有多个第一弧形卡槽，每...

本实用新型公开了一种炉管气路连接组件，包括第一接口，所述第一接口端部连接有第一阀盖，所述第一阀盖端部连接有第一阀体，所述第一阀体端部设有流量控制机构，所述流量控制机构包括移动块，所述移动块上设有封堵头，所述封堵头端部设有第二阀体，所述第...

本实用新型公开了一种单晶炉的炉盖提升装置，包括支架，所述支架顶部设有横梁，所述横梁的前端安装有电动伸缩缸，所述电动伸缩缸的活塞杆连接着安装板，所述安装板下方安装有滑动轴承，所述滑动轴承内穿插有滑动杆，所述滑动杆的前端设有炉盖连接组件，所...

本实用新型公开了一种硅片表面处理装置，包括底座，所述底座的侧边设有电动升降杆，所述底座上设有转盘，所述转盘的底部与底座内的旋转电机相连接，所述转盘上设有多个夹持机构，本实用新型结构简单，设计新颖，特设的夹持机构不仅可对硅片进行定位，保证...

本实用新型公开了一种晶圆片表面热处理辅助装置，一种晶圆片表面热处理辅助装置，包括载具，所述载具由多个圆弧支架组成，所述载具上下两面均设有一圈封边，所述圆弧支架截面为凹字形，所述圆弧支架内侧设有橡胶垫，所述圆弧支架之间由伸缩机构连接，所述...

本实用新型公开了一种硅片表面成膜检测的辅助工装，包括两个相对设置的第一支架和第二支架，所述第二支架上设有滚动轴承，所述第一支架和第二支架之间设有可旋转的夹持机构，本实用新型结构简单，设计新颖，特设的可旋转的夹持机构，能够保证在翻转时不会...

本实用新型公开了一种晶圆片传送装置，包括底座，所述底座上设有安装架，所述安装架内设有伺服电机，所述安装架上设有多个机械臂，每个所述机械臂端部均设有传送机构，所述传送机构包括安装件，所述安装件下设有连杆，所述连杆下设有吸盘箍，所述吸盘箍内...

本发明公开了一种高洁净度硅片成膜设备，包括机体，所述机体上设有进料口，所述机体内设有圆筒状的支架，位于所述支架内侧的上端设有承载组件，位于所述支架外侧的上端围绕有环形的吸尘管，所述吸尘管连接至吸尘器上，所述吸尘管上设有多个吸尘嘴，多个所...