一种硅片表面处理装置制造方法及图纸

技术编号:36481715 阅读:41 留言:0更新日期:2023-01-25 23:36
本实用新型专利技术公开了一种硅片表面处理装置,包括底座,所述底座的侧边设有电动升降杆,所述底座上设有转盘,所述转盘的底部与底座内的旋转电机相连接,所述转盘上设有多个夹持机构,本实用新型专利技术结构简单,设计新颖,特设的夹持机构不仅可对硅片进行定位,保证硅片在抛光过程中,不会随意移动,大大降低了硅片边缘被擦伤的风险,而且只需要通过调整夹持机构的松紧,即可轻松的将硅片取出,方便快捷。方便快捷。方便快捷。

【技术实现步骤摘要】
一种硅片表面处理装置


[0001]本技术涉及硅片处理
,具体为一种硅片表面处理装置。

技术介绍

[0002]单晶硅是一种比较活泼的非金属元素,是晶体材料的重要组成部分,处于新材料发展的前沿,其主要用途是制作成单晶硅片用作半导体材料,单晶硅片在生产过程中,通常需要对其表面进行抛光处理,以保证其具有较高的光滑度。
[0003]市场上的常见的单晶硅片表面处理装置,多是开设固定槽来直接放置硅片,硅片放入后与槽体之间任然有点间隙,在抛光过程中随着抛光设备的转动,硅片的边缘容易被槽壁擦伤,另外抛光结束后,员工多是用手直接从槽中取出硅片,由于硅片较薄,取出较为麻烦,稍有不慎容易造成碎片的风险。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种硅片表面处理装置,以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种硅片表面处理装置,包括底座,所述底座的侧边设有电动升降杆,所述底座上设有转盘,所述转盘的底部与底座内的旋转电机相连接,所述转盘上设有多个夹持机构,所述夹持机构包括呈十字状设计的滑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种硅片表面处理装置,包括底座(1),所述底座(1)的侧边设有电动升降杆(11),所述底座(1)上设有转盘(12),所述转盘(12)的底部与底座(1)内的旋转电机(13)相连接,其特征在于:所述转盘(12)上设有多个夹持机构(2),所述夹持机构(2)包括呈十字状设计的滑轨(21),连动盘(22)和放置盘(23),所述滑轨(21)固定于转盘(12)上,所述滑轨(21)的中间设有一根连接轴(211),所述滑轨(21)的每个轨道内均设有L形的滑块(212),所述滑块(212)的底端设有连杆(213),所述滑块(212)的顶端设有弧形夹板(214),所述滑轨(21)的其中一个轨道旁设有卡扣(215)。2.根据权利要求1所述的一种硅片表面处理装置,其特征在于:所述连动盘(22)的中间设有滚动轴承(221),所述连动盘(22)的边...

【专利技术属性】
技术研发人员:耿伟顾少俊张西东周航
申请(专利权)人:鑫德斯特电子设备安徽有限公司
类型:新型
国别省市:

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