【技术实现步骤摘要】
本技术涉及晶圆热处理，具体为一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置。
技术介绍
1、快速热处理（rtp）设备是一种单片热处理设备，通过极快的升温速率，将晶圆或者材料在极短的时间内加热到300℃-1200℃，以消除晶圆或者材料内部的一些缺陷，改善产品性能，并且还能够快速降温，以将晶圆片冷却；rtp设备的核心技术主要包括反应腔室（包括热源）设计、温度测量技术和温度控制技术。
2、利用现有技术的热处理设备进行加工时，都是直接将晶圆片放置在的反应腔室进行热处理的，这样不仅容易导致晶圆片在升（或降）温度时受热（或冷）不均，而且处理后的晶圆片也不便于机械手夹取。
技术实现思路
1、本技术的目的在于提供一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
2、为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置，包括晶圆热处理设备内部设置的反应腔，所述反应腔的内部设有石英腔，所述石英腔内设有一个用于放置晶圆片的磁浮旋转装置，所述磁浮旋转装置包括电磁铁和...
【技术保护点】
1.一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置，包括晶圆热处理设备内部设置的反应腔(1)，其特征在于：所述反应腔(1)的内部设有石英腔(2)，所述石英腔(2)内设有一个用于放置晶圆片的磁浮旋转装置(3)，所述磁浮旋转装置(3)包括电磁铁(31)和悬浮载台(32)，所述电磁铁(31)设置于石英腔(2)的下腔体内，所述悬浮载台(32)悬浮于石英腔(2)内，所述悬浮载台(32)的内部设有环形永磁铁(33)。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置，其特征在于：所述反应腔(1)的内部包括多个卤素灯(11)，多个所述卤素灯(11)分别固定安装在反应腔(1)的
【技术特征摘要】
1.一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置，包括晶圆热处理设备内部设置的反应腔(1)，其特征在于：所述反应腔(1)的内部设有石英腔(2)，所述石英腔(2)内设有一个用于放置晶圆片的磁浮旋转装置(3)，所述磁浮旋转装置(3)包括电磁铁(31)和悬浮载台(32)，所述电磁铁(31)设置于石英腔(2)的下腔体内，所述悬浮载台(32)悬浮于石英腔(2)内，所述悬浮载台(32)的内部设有环形永磁铁(33)。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆热处理设备用磁浮旋转装置，其特征在于：所述反应腔(1)的内部包括多个卤素灯(11)，多个所述卤素灯(1...
【专利技术属性】
技术研发人员：顾少俊，张西东，余珺，
申请(专利权)人：鑫德斯特电子设备安徽有限公司，
类型：新型
国别省市：
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