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先进微装置公司专利技术
先进微装置公司共有613项专利
半导体存储装置以及用于制造该半导体存储装置的方法制造方法及图纸
本发明系提供一种用于制造存储装置的方法,包括:提供半导体基板(505),该半导体基板包含:具有第一导电类型的第一阱区(532)、具有第一导电类型的第二阱区(534)、覆于该第一阱区(532)上的第一栅极结构(562、566)以及覆于该第...
门控横向闸流管存储器单元以及内装有该存储器单元的集成电路制造技术
提供一种存储器单元(410),其系包含存取晶体管(470)与门控横向闸流管(GLT)器件(460)。该存取晶体管(470)包含源极节点(474)。该门控横向闸流管(GLT)器件(460)包含与该存取晶体管(470)之该源极节点(474)...
具有低功率缓存存取模式的数据处理装置制造方法及图纸
本发明提供一种可操作于三种不同模式的处理器。于主动模式中,提供第一电压给该处理器,其中该第一电压足以容许该处理器执行指令(402)。于低功率模式中,提供保持电压(retention?voltage)给该处理器(408)。相较于在主动模式...
非ECC组件中的ECC实现制造技术
一种用来于非错误更正码(ECC)兼容组件中执行错误更正码检查的方法和装置。本方法包含接收逻辑地址,其中该逻辑地址映对至存储器的第一和第二物理地址。存储器的第一和第二物理地址对应于分别储存数据和相应ECC的存储器位置。本方法复包括转译逻辑...
以晶体管特定的接触设计来增强晶体管性能的技术制造技术
藉由例如局部调适在个别晶体管(210、210A、210B)内接触结构(230A、230B)的尺寸和/或密度,或者以更总体的方式,可以增加先进半导体装置(200)的总性能。因此,该接触结构(230A、230B)与局部装置特性之间的彼此互动...
具有可重新组构的浮点单元的处理器制造技术
一种运作处理器(100)的技术,包括决定处理器的浮点单元(FPU)(120)是要运作在全位模式(full-bit?mode)或是在减少的位模式(reduced-bit?mode)中。当指示为全位模式时,指令被提取且指令被译码成为单一运算...
使用选择性反向偏置的动态泄露控制制造技术
描述了一种与图形处理器电路一起使用的动态泄露控制电路的实施例。该动态泄露控制电路选择性地在特定工作模式期间启用包括该图形处理器电路的晶体管的反向偏置。通过两个单独的电源轨来控制反向偏置电平。第一电源轨耦合到现有的电源而第二电源轨耦合到单...
应变强化型半导体器件及用于该半导体器件制作的方法技术
本发明提供一种应变强化型半导体器件(30)及用于该半导体器件制作的方法。一种方法,包括嵌入应变引发(strain?inducing)半导体材料(102、106)于该器件的源极区(103、107)及漏极区(105、109)中来引发器件沟道...
通过增进的蚀刻控制策略来图案化形成的晶体管上方的受不同应力层的技术制造技术
于图案化具有不同类型之本质应力之受应力层的期间,能够通过根据指示蚀刻率及个别蚀刻工艺(205)之效能的光学测量数据(281)的受控蚀刻(205),而大幅减少介于第一及第二介电层(230、240)间之二氧化硅基底的蚀刻指针材料之沉积的影响...
具有同时的无序调度之分布式调度制造技术
在一个实施例中,本发明系揭露一种包括指令缓冲器(instruction?buffer)(20)以及选取单元(pick?unit)(26)之处理器(10)。该指令缓冲器(20)被连接用来接收从指令缓存(instruction?cache)...
包含具有工艺容限配置的基板二极管的SOI器件以及形成该SOI器件的方法技术
根据经过适当设计之制造流程而形成用于SOI器件(200、300)中之衬底二极管,其中可在实质上不会影响到二极管特性之情形下实施晶体管效能增强机制。在一面向中,可在形成了用来界定漏极及源极区(237、337)的对应的侧壁间隔件结构(236...
通过使用氮化铝增加微结构中的铜基金属化结构的可靠性制造技术
通过以自限制程顺序来形成氮化铝层(106),可显著增强铜基金属化层的界面特性同时仍然保持层堆栈(layer stack)的总介电系数(permittivity)于较低位准。
用于在晶体管中形成含硅/锗的漏极/源极区域以减少硅/锗损失的方法技术
本发明提供一种用于在晶体管中形成含硅/锗的漏极/源极区域以减少硅/锗损失的方法。通过在高锗浓度之硅/锗材料上设置保护层,可明显降低或甚至完全避免应变半导体材料之对应损失。该保护层可在关键清洗制程前形成且可维持直到金属硅化物区域的形成。因...
具有减少的栅极氧化物泄漏的取代金属栅极晶体管制造技术
本发明公开了一种具有减少的栅极氧化物泄漏的取代金属栅极晶体管,通过在栅极氧化物层与金属栅极电极之间形成保护层来达成用于取代金属栅极晶体管的具有减少的泄漏的薄而有效的栅极氧化物厚度,因而减少应力。实施例包括形成含有金属碳化物的非晶形碳的保...
使用垫调节装置的传感信号来控制化学机械研磨的方法及系统制造方法及图纸
在本发明的系统与方法中,源自垫调节系统的驱动组件的传感信号,例如电机电流信号,被用来估计化学机械研磨(CMP)系统内的一个或更多的消耗品(113)的状态。
球栅阵列封装件的具有改进旁通去耦的印刷电路板组件制造技术
本发明提供一种用于球栅阵列封装件的具有改进旁通去耦的印刷电路板组件。于一个实施例中,电容器(103)可插置在BGA封装件(110)和在接触垫(105)的周边内的PCB(101)之间,该接触垫(105)形成BGA足迹(102)。电容器(1...
具有信号接点与高电流功率接点的半导体装置制造方法及图纸
一半导体装置(400),包括一外框(110)、由该外框(110)所支撑的半导体芯片、至少一个接点垫(420)和多个外部接点,该多个外部接点是从该外框延伸并连接至该半导体芯片。本发明还关于一电路装配体,包括一印制电路板、一半导体装置和一插...
用于高频应用之包括贯穿连接之多层印刷电路板制造技术
本发明提供一种包括贯穿连接之高频多层印刷电路板,该贯穿连接具有围绕着该贯穿连接且能够调整该贯穿连接的特性阻抗至所希望之值的阻抗调适结构。因此,可使高频讯号经过印刷电路板而减少讯号变形。该高频多层印刷电路板可应用于达GHz范围之高频讯号。
使用干式刻蚀工艺以有效率地图案化凸块下金属化层的技术制造技术
藉由以干式刻蚀工艺(111)为基础图案化凸块下金属化层(underbump metallization layer)堆栈(105),与涉及高度复杂的湿式化学刻蚀工艺之传统技术相比可达到显著的优点。在特定的具体例中,凸块下金属化层堆栈...
具有监督控制参数的特权模式制造技术
本发明提供一种通讯系统,包含有实体层硬件单元和处理单元。实体层硬件单元适用于依据所指定的传输参数而透过通讯频道传送数据。实体层硬件单元适用于透过通讯频道接收输入讯号且取样输入讯号以便产生所接收到数字式讯号。处理单元适用于在标准操作模式下...
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