无锡瑞达半导体专用设备有限公司专利技术

无锡瑞达半导体专用设备有限公司共有32项专利

  • 本实用新型公开了一种晶圆烘干箱,包括晶圆烘干箱主体,所述晶圆烘干箱主体包括输送机、支架、支撑框体、烘干机箱体、防护网罩与防护盖,所述输送机焊接固定在支架上表面,所述支撑框体通过螺栓固定安装在输送机的上表面中间位置处,所述烘干机箱体安装在...
  • 本实用新型公开了一种可调节的半导体干燥机,包括机体以及开设在机体内部的干燥室,所述干燥室的内侧设置有多个托板,所述干燥室的两侧内壁均固定有侧基板,且托板安装在两个侧基板之间,所述托板和侧基板之间设置有调节机构;所述调节机构包括固定在侧基...
  • 本实用新型公开了一种半导体超声波清洗设备,包括超声波清洗机主体以及开设在超声波清洗机主体顶部的清洗仓,所述清洗仓内放置有多个挂架组件,所述挂架组件包括U形架体以及安装在U形架体内侧的活动夹和固定夹,且活动夹和固定夹之间夹持有半导体硅片,...
  • 本实用新型公开了一种清洗晶圆的治具,包括晶圆清洗治具主体,所述晶圆清洗治具主体包括框体与固定夹板,所述固定夹板焊接固定在框体的内部两侧,所述晶圆清洗治具主体上还设置有:夹紧机构,且该夹紧机构包括弹性紧压组件与夹持组件;通过设计夹紧机构,...
  • 本实用新型公开了一种晶圆清洗槽,包括清洗槽主体,所述清洗槽主体包括清洗箱体、滤网与出水口,所述出水口安装在清洗箱体的一端底端,所述滤网设置有在清洗箱体的内部,所述清洗槽主体上还设置有:清洁机构,且该清洁机构包括转动调节组件、清洁组件与滑...
  • 本实用新型提供一种可调节的晶圆清洗固定装置,包括稳定支座,收集盒,操作定位杆架结构,活动座,转动轴,安装盒,步进电机,移动螺杆,活动调节夹紧座结构,第一齿轮,旋转电机,减速器,固定轴,第二齿轮和防滑脚,所述的稳定支座上端的中间部位螺栓安...
  • 本实用新型提供一种基于晶圆清洗的清洗甩干设备,包括底部外壳,内部支架,金属稳定块,燕尾型滑槽,水平调节架结构,滑动底座,转轴支架,固定旋转轴,开口调节架结构,固定轴承,晶圆夹持架结构,旋转电机,顶部翻转盖和透明观察窗,所述的内部支架螺栓...
  • 本实用新型提供一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置,包括清洗外框,振动电机,超声波生成器,超声波换能器,升降气缸,L型连接板,L型存放架,便拆卸存放架结构,废料导出架结构,吹风机和缓冲支架结构,所述的清洗外框的下部左右两侧螺栓安装有振动电...
  • 本实用新型提供一种多功能的可隔离防护晶圆的晶圆处理装置,包括处理箱,控制面板,吸尘管,连接软管,卡箍,进尘管,灰尘存储箱,吸尘风机,空气过滤网,快拆螺栓,清尘箱门,可过滤吹尘空心盘结构,可隔离存放盒结构和可任停防误操作遮挡罩结构,所述的...
  • 本实用新型提供一种便于维护的硅片清洗干燥装置,包括移动定位座,操作螺纹杆,第一减速器,第一电机,移动基座,升降立柱架结构,固定板,第二电机,支撑钢管,喷嘴,活动控制架结构,连接头,连接管,输送泵,拆卸座和离子吹风机,所述的移动定位座内部...
  • 本发明公开了自动金属薄膜腐蚀清洗机,包括机体以及开设在机体前表面的两个板缺口,所述板缺口的内侧旋转设置有第二封板,且第二封板的端部旋转连接有第一封板,所述第一封板的端部与板缺口的内壁滑动连接,所述第一封板的前表面设置有拉把,所述第一封板...
  • 一种半导体扩散炉管的清洗装置,底座一端设有炉管固定机构,底座另一端设有支撑机构;支撑机构设有第一支撑块和第二支撑块,第一支撑块与第二支撑块之间设有平移滑杆,平移滑杆上设有滑块,第二支撑块中间穿有平移螺纹杆,平移螺纹杆一端连接滑块且另一端...
  • 本实用新型设计了一种硅片清洗槽,包括:平台、支架和清洗槽,平台上安装有支架,支架顶部设有顶板,顶板上方一侧放置有水箱,水箱底部前后两侧设有通水管道,通水管道末端均安装有喷淋头,喷淋头下方设有所述清洗槽,支架一侧外部安装有固定座,固定座上...
  • 本实用新型提供一种晶圆片架,包括晶圆片架主体,晶圆片架主体上均布设有晶圆片槽,每个晶圆片槽包括封闭弧形槽和两个直线槽,直线槽上设有限位孔;晶圆片架主体上还设有锁槽,锁槽中设有限位轴,限位轴上设有限位挡板和扇形限位片,限位挡板与限位孔匹配...
  • 本实用新型提供一种芯片冲洗装置,包括基座,基座两侧垂直且相对设有侧板,侧板间平行于基座设有底板,侧板间设有冲洗机构和刷洗机构,冲洗机构包括安置板、积液槽、冲洗电机和至少一个空气缸,安置板包括多个呈矩阵排列的安置槽,安置槽两侧均设有橡胶环...
  • 本实用新型提供一种晶圆片边缘腐蚀机,具体涉及晶圆片生产领域,包括核心筒钢梁、第一连接板和第二连接板,所述核心筒钢梁上端设有卡板,所述卡板下端设有卡槽,所述卡板下端侧面与所述核心筒钢梁的侧部连接;所述第一连接板一端两侧设有若干限位槽,且所...
  • 本实用新型提供一种单晶样片腐蚀机,包括工作台,工作台的底部设有支撑腿,工作台内设有装置腔,装置腔内设有可转动的转轴,转轴延伸到工作台的上方,装置腔内设有正反转电机,正反转电机的输出端连接有第一齿轮,位于装置腔内的转轴上设有第二齿轮,第二...
  • 一种单片腐蚀机,机体上设有盖板和隔板,所述隔板一侧为腐蚀区且另一侧为清洗区,平移螺纹杆穿入所述机体内,平移控制机构连接平移螺纹杆,所述平移螺纹杆上套接有第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和所述第二挡板之间设有连接安装板,所述连接安装板上设...
  • 本实用新型提供一种扩散炉清洗装置,包括装置本体,装置本体上设有设备安装台,设备安装台上设有清洗槽,清洗槽两侧设有支撑柱,支撑柱上设有支架,支架包括支架盘,支架盘一侧设有支架轴,支架盘另一侧设有扩散炉管固定架,两侧扩散炉管固定架方向相对,...
  • 本实用新型为一种超声波单腔腐蚀清洗机,包括上部敞口的机体,机体前侧安装有透视窗,侧壁上超声波发生器,机体两侧侧壁顶部各安装有无杆气缸,无杆气缸活塞上连接有勾起架,置物桶顶部侧壁上安装有一圈勾起槽;旋转机构包括定子组件和旋转台,定子组件包...