一种晶圆清洗槽制造技术

本实用新型专利技术公开了一种晶圆清洗槽，包括清洗槽主体，所述清洗槽主体包括清洗箱体、滤网与出水口，所述出水口安装在清洗箱体的一端底端，所述滤网设置有在清洗箱体的内部，所述清洗槽主体上还设置有：清洁机构，且该清洁机构包括转动调节组件、清洁组件与滑动组件；通过设计清洁机构，可以在清洗槽主体长时间清洗晶圆造成滤网的表面附着大量的脏物时，手持手轮带动转轴与扭转齿轮一转动，并在扭转齿轮一转动时带动扭转齿轮二与丝杆原位转动，且在丝杆原位转动时带动移动滑体在丝杆的外表面，从而通过移动滑体将清洁毛刷在滤网的表面移动，因此便于在滤网的表面附着脏物时，可以通过清洁毛刷对滤网的表面清洁处理。毛刷对滤网的表面清洁处理。毛刷对滤网的表面清洁处理。

【技术实现步骤摘要】
一种晶圆清洗槽


[0001]本技术属于晶圆清洗槽
，具体涉及一种晶圆清洗槽。

技术介绍

[0002]晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆，且在晶圆加工生产后需要进行清洗处理，且在晶圆清洗时通常通过在晶圆清洗槽的内部清洗处理，且现有的晶圆清洗槽在清洗晶圆时，直接将清洗槽稳定放置并向内部注入清洗液，且将晶圆处于滤网的表面不断由操作人员清洗处理，且方便将晶圆在清洗槽的内部清洗处理，提高清洗槽对晶圆清洗的使用效果；
[0003]现有的晶圆清洗槽在使用时直接将其稳定放置在一定的位置处并向内部注入清洗液，且在将晶圆处于清洗槽内部的滤网表面清洁处理，因此便于通过清洗槽对晶圆清洗使用，且在晶圆处于清洗槽内部的滤网表面清洗时，当长时间清洗操作时造成滤网的表面易积累过多的脏物，且脏物附着在滤网的表面不便于清洁处理时易造成滤网较脏且易堵，因此在清洗槽的内部处于滤网表面清洗时不便于向内部底端排水，同时在清洗晶圆时反而降低清洁度，从而影响清洗槽对晶圆的清洗使用效果的问题，为此我们提出一种晶圆清洗槽。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种晶圆清洗槽，以解决上述
技术介绍
中提出当清洗槽长时间清洗操作时造成滤网的表面易积累过多的脏物，且脏物附着在滤网的表面不便于清洁处理时易造成滤网较脏且易堵，因此在清洗槽的内部处于滤网表面清洗时不便于向内部底端排水，同时在清洗晶圆时反而降低清洁度，从而影响清洗槽对晶圆的清洗使用效果的问题。
[0005]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种晶圆清洗槽，包括清洗槽主体，所述清洗槽主体包括清洗箱体、滤网与出水口，所述出水口安装在清洗箱体的一端底端，所述滤网设置有在清洗箱体的内部，所述清洗槽主体上还设置有：
[0006]清洁机构，且该清洁机构包括转动调节组件、清洁组件与滑动组件，清洁机构设置在清洗箱体的内部位于滤网的表面；
[0007]引流机构，且该引流机构包括引流组件与安装组件，引流机构设置在清洗箱体的内部底端。
[0008]优选的，所述转动调节组件包括开设在清洗箱体内部一端的凹槽二，所述清洗箱体的内部一端转动连接有转轴，所述转轴的底端位于凹槽二的内部安装有扭转齿轮一，所述转轴的顶端位于清洗箱体的上表面安装有手轮，和包括开设在清洗箱体侧面的凹槽一，且所述凹槽一的内部转动连接有丝杆，所述丝杆的端部位于凹槽二的内部安装有扭转齿轮二。
[0009]优选的，所述扭转齿轮一与所述凹槽二相互咬合连接，且所述转轴与所述丝杆通
过所述扭转齿轮一与所述扭转齿轮二转动连接。
[0010]优选的，所述清洁组件包括设置在丝杆外表面的移动滑体，和包括设置在滤网上表面的清洁毛刷，且所述清洁毛刷的端部与所述移动滑体的端部通过螺钉相连接。
[0011]优选的，所述滑动组件包括开设在清洗箱体另一侧的滑槽，和包括滑动连接在滑槽内部的滑块，且所述滑块与所述滤网的端部通过螺钉相连接。
[0012]优选的，所述滑块与所述滑槽的内部相吻合，且所述滤网的端部与所述清洗箱体的内侧通过所述滑块与所述滑槽滑动连接。
[0013]优选的，所述引流组件包括设置在清洗箱体内部底端的引水板，和包括开设在引水板端部的引水槽，且所述引水板与所述清洗箱体的内部底端相吻合。
[0014]优选的，所述安装组件包括焊接固定在引水板上表面一端的安装板，且所述安装板的侧面与所述清洗箱体的内表面相接触。
[0015]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0016]通过设计清洁机构，可以在清洗槽主体长时间清洗晶圆造成滤网的表面附着大量的脏物时，手持手轮带动转轴与扭转齿轮一转动，并在扭转齿轮一转动时带动扭转齿轮二与丝杆原位转动，且在丝杆原位转动时带动移动滑体在丝杆的外表面，从而通过移动滑体将清洁毛刷在滤网的表面移动，因此便于在滤网的表面附着脏物时，可以通过清洁毛刷对滤网的表面清洁处理，且方便在清洗槽主体清洗晶圆时处于滤网的表面清洁处理，并便于清洗液向下进入，从而提高清洗槽主体对晶圆清洗时的清洗使用效果。
附图说明
[0017]图1为本技术的结构示意图；
[0018]图2为本技术图1中A部分放大结构示意图；
[0019]图3为本技术的侧面剖视结构示意图；
[0020]图4为本技术图3中B部分放大结构示意图；
[0021]图5为本技术的凹槽、引水板与安装板结构示意图；
[0022]图中：100、清洗槽主体；101、清洗箱体；1011、滑块；1012、滑槽；102、滤网；1021、凹槽一；1022、丝杆；1023、移动滑体；1024、清洁毛刷；1025、转轴；1026、手轮；1027、扭转齿轮一；1028、凹槽二；1029、扭转齿轮二；103、出水口；1031、引水槽；1032、引水板；1033、安装板。
具体实施方式
[0023]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0024]请参阅图1至图5，本技术提供一种技术方案：一种晶圆清洗槽，包括清洗槽主体100，清洗槽主体100包括清洗箱体101、滤网102与出水口103，出水口103安装在清洗箱体101的一端底端，滤网102设置有在清洗箱体101的内部，便于将清洗槽主体100放置在使用的位置处，且向清洗箱体101的内部注入清洗液，并将晶圆处于滤网102的表面清洁处理，且
方便通过清洗槽主体100对晶圆清洗使用，清洗槽主体100上还设置有：
[0025]清洁机构，且该清洁机构包括转动调节组件、清洁组件与滑动组件，清洁机构设置在清洗箱体101的内部位于滤网102的表面，可以在清洗箱体101的内部处于滤网102的表面清洗晶圆时，在滤网102的表面附着脏物时，可以由清洁机构在滤网102的表面移动进行清洁处理，方便通过滤网102进行清洁处理，提高清洗槽主体100对晶圆的清洗使用效果；
[0026]引流机构，且该引流机构包括引流组件与安装组件，引流机构设置在清洗箱体101的内部底端，可以在清洗槽主体100清洗晶圆后由出水口103排水时，由引流机构向出水口103的端部引流，方便进行引流排水使用，排出清洗液更加干净。
[0027]为了通过转动调节组件便于将丝杆1022转动调节使用，且在丝杆1022转动时带动移动滑体1023与清洁毛刷1024在丝杆1022的外表面移动，且便于将清洁毛刷1024在滤网102的表面移动清洁处理，本实施例中，优选的，转动调节组件包括开设在清洗箱体101内部一端的凹槽二1028，清洗箱体101的内部一端转动连接有转轴1025，转轴1025的底端位于凹槽二1028的内部安装有扭转齿轮一1027，方便通过转本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种晶圆清洗槽，包括清洗槽主体(100)，所述清洗槽主体(100)包括清洗箱体(101)、滤网(102)与出水口(103)，所述出水口(103)安装在清洗箱体(101)的一端底端，所述滤网(102)设置有在清洗箱体(101)的内部，其特征在于：所述清洗槽主体(100)上还设置有：清洁机构，且该清洁机构包括转动调节组件、清洁组件与滑动组件，清洁机构设置在清洗箱体(101)的内部位于滤网(102)的表面；引流机构，且该引流机构包括引流组件与安装组件，引流机构设置在清洗箱体(101)的内部底端。2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗槽，其特征在于：所述转动调节组件包括开设在清洗箱体(101)内部一端的凹槽二(1028)，所述清洗箱体(101)的内部一端转动连接有转轴(1025)，所述转轴(1025)的底端位于凹槽二(1028)的内部安装有扭转齿轮一(1027)，所述转轴(1025)的顶端位于清洗箱体(101)的上表面安装有手轮(1026)，和包括开设在清洗箱体(101)侧面的凹槽一(1021)，且所述凹槽一(1021)的内部转动连接有丝杆(1022)，所述丝杆(1022)的端部位于凹槽二(1028)的内部安装有扭转齿轮二(1029)。3.根据权利要求2所述的一种晶圆清洗槽，其特征在于：所述扭转齿轮一(1027)与所述凹槽二(1028)相互咬合连接，且所述转轴(1025)与所述丝杆(1022)通过所述扭转齿轮...

【专利技术属性】
技术研发人员：王宜，陈康，王瑜，
申请(专利权)人：无锡瑞达半导体专用设备有限公司，
类型：新型
国别省市：