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本实用新型公开了一种晶圆清洗槽,包括清洗槽主体,所述清洗槽主体包括清洗箱体、滤网与出水口,所述出水口安装在清洗箱体的一端底端,所述滤网设置有在清洗箱体的内部,所述清洗槽主体上还设置有:清洁机构,且该清洁机构包括转动调节组件、清洁组件与滑动组...该专利属于无锡瑞达半导体专用设备有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过无锡瑞达半导体专用设备有限公司授权不得商用。
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