本实用新型专利技术提供一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置，包括清洗外框，振动电机，超声波生成器，超声波换能器，升降气缸，L型连接板，L型存放架，便拆卸存放架结构，废料导出架结构，吹风机和缓冲支架结构，所述的清洗外框的下部左右两侧螺栓安装有振动电机；所述的清洗外框的中下部螺栓安装有超声波生成器。本实用新型专利技术导出斗焊接在清洗外框的内侧下部，有利于在使用时方便将清洗外框底部的水液向下的导出，且避免料渣轻易沉淀在清洗外框的边角处；排放管插接在清洗外框的右下侧，有利于在使用时方便对沉淀的料渣进行导向，关闭止液阀并打开排出阀以便将料渣以及部分水液从排放管的下侧排放，且能够节省水资源。且能够节省水资源。且能够节省水资源。
【技术实现步骤摘要】
一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置
[0001]本技术属于硅片处理
，尤其涉及一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置。
技术介绍
[0002]地壳中含量达25.8％的硅元素，为单晶硅的生产提供了取之不尽的源泉。由于硅元素是地壳中储量最丰富的元素之一，对太阳能电池这样注定要进入大规模市场的产品而言，储量的优势也是硅成为光伏主要材料的原因之一，硅片制成的芯片是有名的“神算子”，有着惊人的运算能力。
[0003]但是现有的硅片清洗的硅片保持装置存在着不方便对清洁的硅片进行拆卸和不具备对清洁完毕的硅片快速除水的问题。
[0004]因此，专利技术一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置显得非常必要。
技术实现思路
[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置，以解决现有的硅片清洗的硅片保持装置存在着不方便对清洁的硅片进行拆卸和不具备对清洁完毕的硅片快速除水的问题。一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置，包括清洗外框，振动电机，超声波生成器，超声波换能器，升降气缸，L型连接板，L型存放架，便拆卸存放架结构，废料导出架结构，吹风机和缓冲支架结构，所述的清洗外框的下部左右两侧螺栓安装有振动电机；所述的清洗外框的中下部螺栓安装有超声波生成器；所述的清洗外框的内壁左右两侧安装有超声波换能器；所述的清洗外框的左右两侧安装有升降气缸；所述的升降气缸的上部螺栓安装有L型连接板；所述的L型连接板的一侧由上至下依次焊接有L型存放架；所述的L型存放架的上部放置有便拆卸存放架结构；所述的清洗外框的内侧下部安装有废料导出架结构；所述的L型连接板之间的上部位置螺栓安装有吹风机；所述的清洗外框的下部四角处安装有缓冲支架结构；所述的废料导出架结构包括导出斗，导出管，排放管，止液阀和排出阀，所述的导出斗的下部焊接有导出管；所述的导出管的右端焊接有排放管；所述的排放管的上部安装有止液阀；所述的排放管的下部安装有排出阀。
[0006]优选的，所述的便拆卸存放架结构包括存放网斗，L型放置架，纵向隔网，拉手和金属标签，所述的存放网斗的左右两侧分别焊接有L型放置架；所述的存放网斗的内部分别焊接有纵向隔网；所述的存放网斗的前侧中间位置螺钉安装有拉手；所述的存放网斗的前部右侧螺钉安装有金属标签。
[0007]优选的，所述的缓冲支架结构包括缓冲框，定位环，T型定位杆，缓冲弹簧和防滑支脚，所述的缓冲框分别焊接在清洗外框的下部四角处；所述的缓冲框的中下部开设有定位环；所述的定位环的内侧插接有T型定位杆；所述的缓冲框的内侧设置有缓冲弹簧；所述的T型定位杆的下部安装有防滑支脚。
[0008]优选的，所述的导出斗焊接在清洗外框的内侧下部。
[0009]优选的，所述的排放管插接在清洗外框的右下侧。
[0010]优选的，所述的存放网斗通过L型放置架放置在L型存放架的上部。
[0011]优选的，所述的振动电机设置有两个。
[0012]优选的，所述的T型定位杆的横向段设置在缓冲框的内侧。
[0013]优选的，所述的缓冲弹簧位置T型定位杆的上下两侧。
[0014]与现有技术相比，本技术的有益效果为：
[0015]1.本技术中，所述的导出斗焊接在清洗外框的内侧下部，有利于在使用时方便将清洗外框底部的水液向下的导出，且避免料渣轻易沉淀在清洗外框的边角处。
[0016]2.本技术中，所述的排放管插接在清洗外框的右下侧，有利于在使用时方便对沉淀的料渣进行导向，关闭止液阀并打开排出阀以便将料渣以及部分水液从排放管的下侧排放，且能够节省水资源。
[0017]3.本技术中，所述的存放网斗通过L型放置架放置在L型存放架的上部，有利于在使用时方便使用者利用拉手将L型放置架从L型存放架上向前侧抽拉，进而方便对存放网斗进行拆卸。
[0018]4.本技术中，所述的振动电机设置有两个，有利于清洗完毕后利用振动电机带动清洗外框对放置在纵向隔网之间的硅片起到振动作用，以便两硅片、纵向隔网以及存放网斗上的水液向下振落。
[0019]5.本技术中，所述的T型定位杆的横向段设置在缓冲框的内侧，有利于在使用时方便对T型定位杆的垂直段起到限位作用，且避免T型定位杆轻易从定位环内抽出。
[0020]6.本技术中，所述的缓冲弹簧位置T型定位杆的上下两侧，有利于在使用时方便利用缓冲弹簧对装置起到缓冲作用。
附图说明
[0021]图1是本技术的结构示意图。
[0022]图2是本技术的便拆卸存放架结构的结构示意图。
[0023]图3是本技术的废料导出架结构的结构示意图。
[0024]图4是本技术的缓冲支架结构的结构示意图。
[0025]图中：
[0026]1、清洗外框；2、振动电机；3、超声波生成器；4、超声波换能器；5、升降气缸；6、L型连接板；7、L型存放架；8、便拆卸存放架结构；81、存放网斗；82、L型放置架；83、纵向隔网；84、拉手；85、金属标签；9、废料导出架结构；91、导出斗；92、导出管；93、排放管；94、止液阀；95、排出阀；10、吹风机；11、缓冲支架结构；111、缓冲框；112、定位环；113、T型定位杆；114、缓冲弹簧；115、防滑支脚。
具体实施方式
[0027]以下结合附图对本技术做进一步描述：
[0028]实施例：
[0029]如附图1和附图3所示，本技术提供一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置，包括清洗外框1，振动电机2，超声波生成器3，超声波换能器4，升降气缸5，L型连接板6，L型
存放架7，便拆卸存放架结构8，废料导出架结构9，吹风机10和缓冲支架结构11，所述的清洗外框1的下部左右两侧螺栓安装有振动电机2，所述的振动电机2设置有两个，清洗完毕后利用振动电机2带动清洗外框1对放置在纵向隔网83之间的硅片起到振动作用，以便两硅片、纵向隔网83以及存放网斗81上的水液向下振落；所述的清洗外框1的中下部螺栓安装有超声波生成器3；所述的清洗外框1的内壁左右两侧安装有超声波换能器4；所述的清洗外框1的左右两侧安装有升降气缸5；所述的升降气缸5的上部螺栓安装有L型连接板6；所述的L型连接板6的一侧由上至下依次焊接有L型存放架7；所述的L型存放架7的上部放置有便拆卸存放架结构8；所述的清洗外框1的内侧下部安装有废料导出架结构9；所述的L型连接板6之间的上部位置螺栓安装有吹风机10；所述的清洗外框1的下部四角处安装有缓冲支架结构11；所述的废料导出架结构9包括导出斗91，导出管92，排放管93，止液阀94和排出阀95，所述的导出斗91焊接在清洗外框1的内侧下部，在使用时方便将清洗外框1底部的水液向下的导出，且避免料渣轻易沉淀在清洗外框1的边角处，所述的导出斗91的下部焊接有导出管92；所述的导出管92的右端焊接有排放管93，所述的排放管93插接在清洗外框1的右下侧，在使用时方便对沉淀的料渣进行导向，关闭止液阀94并打开排出本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种改进型的硅片清洗的硅片保持装置，其特征在于，该改进型的硅片清洗的硅片保持装置，包括清洗外框(1)，振动电机(2)，超声波生成器(3)，超声波换能器(4)，升降气缸(5)，L型连接板(6)，L型存放架(7)，便拆卸存放架结构(8)，废料导出架结构(9)，吹风机(10)和缓冲支架结构(11)，所述的清洗外框(1)的下部左右两侧螺栓安装有振动电机(2)；所述的清洗外框(1)的中下部螺栓安装有超声波生成器(3)；所述的清洗外框(1)的内壁左右两侧安装有超声波换能器(4)；所述的清洗外框(1)的左右两侧安装有升降气缸(5)；所述的升降气缸(5)的上部螺栓安装有L型连接板(6)；所述的L型连接板(6)的一侧由上至下依次焊接有L型存放架(7)；所述的L型存放架(7)的上部放置有便拆卸存放架结构(8)；所述的清洗外框(1)的内侧下部安装有废料导出架结构(9)；所述的L型连接板(6)之间的上部位置螺栓安装有吹风机(10)；所述的清洗外框(1)的下部四角处安装有缓冲支架结构(11)；所述的废料导出架结构(9)包括导出斗(91)，导出管(92)，排放管(93)，止液阀(94)和排出阀(95)，所述的导出斗(91)的下部焊接有导出管(92)；所述的导出管(92)的右端焊接有排放管(93)；所述的排放管(93)的上部安装有止液阀(94)；所述的排放管(93)的下部安装有排出阀(95)。2.如权利要求1所述的改进型的硅片清洗的硅片保持装...
【专利技术属性】
技术研发人员：王宜，陈凤，薛灵生，
申请(专利权)人：无锡瑞达半导体专用设备有限公司，
类型：新型
国别省市：
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