本技术公开了一种光刻胶传送的管路系统，包括传送管A以及设置在传送管A前侧位置处的传送管B，所述过滤装置为中空设置，所述过滤装置中设置有转盘，所述转盘中间位置处设置有转轴，转盘通过转轴与过滤装置的外壳进行连接，其中，所述转轴向前贯穿过滤装...

本实用新型属于半导体晶片加工技术领域，且公开了一种可自动对中的半导体晶片夹持机构，工作台，所述工作台的底面固连有底架，所述工作台的中部设置有用于输送半导体晶片的推送机构，所述工作台上设置有调节机构。它能够控制第二电机的运转下使摆动杆摆动...

本实用新型公开了一种半导体涂胶设备的上料夹具，涉及涂胶设备技术领域，包括第一液压杆，所述第一液压杆的输出端固定连接有连接杆，所述连接杆的下端固定连接有固定槽块，所述固定槽块的右表面设置有电机，所述电机的输出端固定连接有双向丝杆，所述双向...

本实用新型公开了一种半导体设备的出料机构，涉及到整列机技术领域，包括底板，底板上表面的右侧设置有下料排序盒，底板上表面右侧的后方固定连接有固定件，固定件的上表面固定连接有固定板，固定板下表面的右侧固定连接有正极磁铁，下料排序盒右侧表面的...

本实用新型公开了显影液技术领域的一种涂胶显影液输送升降机构，包括底板以及与所述底板底部连接的支撑部件，所述底板底部同圆心开设有限位孔，底板正对限位孔的中心处通过法兰相切连接有升降机构，升降机构用于调整取用显影液的位置，升降机构包括至少两...

本实用新型属于喷嘴固定技术领域，且公开了一种涂胶喷嘴的定位托架固定装置，包括定位机构、固定机构和防丢绳，所述防丢绳的两端分别与定位机构和固定机构相连接，所述定位机构通过栓接的方式安装，所述固定机构通过负压吸附的方式安装；所述定位机构包括...

本实用新型属于半导体处理技术领域，且公开了一种半导体晶片涂胶显影用冷热复合盘，包括处理台、热盘加工区和四个冷手盘，还包括用于转动每个冷手盘的旋转机构，所述旋转机构设置在处理台上。它能够在四个冷手盘上分别放置两个不相邻的晶片，当有晶片的冷...

本实用新型公开了一种涂胶显影液的保温套管组件，包括：套管装置组件，套管装置组件包括保温内管，保温内管的表面活动连接有第一外半管，本实用新型通过设置保温内管起到第一层保温效果，通过设置第一外半管和第二外半管相互配合，将保温内管包围起来起到...

本实用新型属于半导体加工技术领域，尤其为一种可防止晶片磨损的晶片夹持机构，包括固定台，所述固定台的内侧滑动卡接有输送板，所述输送板的顶部设置有放置板，所述放置板的顶部开设有放置槽，所述放置槽的尺寸与待输送晶圆的尺寸吻合，所述放置板的顶部...

本实用新型涉及半导体涂胶设备技术领域，具体为一种半导体涂胶设备的喷嘴清洗机构，包括涂胶机架，所述涂胶机架内部的一端到另一端，依次设置有清洗箱和真空吸盘，位于所述涂胶机架内部的另一端且位于所述真空吸盘的下表面设置有电动设备箱，所述涂胶机架...

本实用新型涉及半导体制造工艺的真空吸附盘技术领域，具体为一种用于半导体制成设备的可旋转晶圆吸附盘，包括真空吸气管件，所述真空吸气管件靠近上表面的外壁活动连接有晶圆吸附盘，所述晶圆吸附盘上表面的内部活动连接有第一活塞，位于所述晶圆吸附盘上...

本实用新型涉及流动胶体喷射的半导体制造技术领域，具体为一种涂胶腔喷嘴高度调节装置，包括涂胶支架件，所述涂胶支架件上端的内壁中活动连接有涂胶腔喷嘴件，所述涂胶支架件上端的外壁上活动连接有高度调节块，所述涂胶支架件下端的内部活动连接有高速旋...

本实用新型涉及涂胶显影机技术领域，具体为一种用于涂胶显影机的涂胶喷嘴，包括涂胶喷嘴件，所述涂胶喷嘴件下端的外壁活动连接有涂胶喷嘴管，所述涂胶喷嘴件的内部设置有驱动喷嘴开合件，所述涂胶喷嘴件的结构包括有喷嘴头，所述喷嘴头的上表面固定连接有...

本实用新型涉及半导体涂层处理技术领域，具体为一种涂胶杯安装胶臂，包括涂胶杯体，所述涂胶杯体靠近上表面的外侧连接有连接轴件，所述连接轴件中部的外壁连接有涂胶杯盖件，所述涂胶杯体的内部连接有胶臂件，所述胶臂件的结构包括有杯臂杆，所述杯臂杆的...

本实用新型公开了一种可适用于不同尺寸晶片的磁力夹持装置，包括限位环，所述限位环的底部构造有螺纹槽，且螺纹槽内旋接有支撑腿，所述限位环的内周之间插接固定有支撑板，所述支撑板的顶部支撑有位于限位环内周的限位框，所述限位框的顶部滑动连接有呈对...

本发明公开了一种用于半导体设备的自动下料机构，具体涉及制造半导体处理晶圆片技术领域，包括自动下料夹取组件，所述自动下料夹取组件下表面的中部活动连接有移动组件，所述移动组件正面的中部活动连接有液压气缸伸缩组件，所述移动组件的外围侧面均活动...