本技术公开了一种基于PVD涂层的注塑模具，包括动模底板总成，所述动模底板总成和定模底板总成，所述动模底板总成的中心处设置有动模型芯，所述动模型芯的侧边设置有三个型芯固定板，所述型芯固定板通过型芯安装栓进行固定，所述定模底板总成的中部设置...

本技术公开了一种PVD涂层喷涂装置，包括：密封壳、马达和支架，所述密封壳的内端固定安装有内壳，所述密封壳的下端固定安装有抽气泵，所述抽气泵的左端固定安装有过滤盒；所述马达固定安装在密封壳的上端，所述马达的输出端固定安装有转动件，所述转动...

本技术公开了一种涂层热疲劳测试装置，包括箱体，所述箱体的内侧设有测试辊，且所述测试辊的内侧分布有出风箱，所述出风箱的内侧开设有连通结构；利用设置的风机、滤框、导向块和弹簧之间的结合使用，可以对抽入到出风箱内部的空气进行有效的净化处理，进...

本实用新型涉及研磨机技术领域，特别是涉及一种立式振动研磨机

本申请涉及一种镀膜机镀膜均匀性评估系统，其包括信息采集模块，用于获取待评估工件的镀膜信息，所述镀膜信息包括应用工件信息、膜层类型信息、膜层成分信息和测试附加信息；方案匹配模块，用于基于待评估工件的镀膜信息匹配确定目标检测方案；检测调度模...

本实用新型公开了一种可控制镀膜层厚度的遮挡板，涉及镀膜遮挡板技术领域，为解决现有镀膜遮挡板在控制镀膜层厚度时经常需要拆卸清洗，导致使用时间短，影响镀膜效率的问题。所述接料板的后端设置有蒸发板，所述接料板的前表面设置有接料槽，所述接料板和...

本发明公开了一种磁控溅射靶材的磁场设计方法，将磁铁分为内、中、外三层结构，并分别进行充磁，根据不同的充磁方向，使磁场水平分量的最小处靠近靶材末端位置；由于靶材刻蚀槽产生在平行于靶面磁场最强处周围，而且磁场水平分量越大，刻蚀越快；通过本方...

本发明公开了一种便于固定的磁控溅射靶，包括挡片、靶罩、靶材固定环、固定座和固定杆，固定杆包括杆座，杆座转动连接有第一杆，第一杆的另一端滑动配合有第二杆；第二杆与挡片和靶罩固定连接，靶罩的内表面与靶材固定环固定连接，靶材固定环上设有固定靶...

本发明属于检测设备技术领域，且公开了磁控溅射膜均匀度检测装置及其检测方法，包括机箱，所述机箱的右端面开设有进入口，所述进入口的内表面固定连接有固定框，所述固定框的顶面固定连接有清洁刷，所述固定框的顶面开设有吸入孔。本发明通过使得固定套向...

本实用新型公开了一种镀层厚度自动控制装置，涉及镀层技术领域，为解决现有技术中的现有的镀层厚度控制方式是通过对输出总量的调控，但这样的镀层容易出现厚度不均的情况，无法保障整个平面的厚度相同且达标的问题。所述磁控镀层箱设置在电源管理机箱的上...

本实用新型公开了一种真空镀膜机可公自转工件转架机构，涉及真空镀膜机结构技术领域，为解决现有的真空镀膜机工件转架机构不能够实现在进行公转的同时又实现自转，这样使工件镀膜的效果不好的问题。所述支撑座的上方安装有转动座，所述转动座的外壁四周安...

本实用新型公开了一种用于镀膜前处理的表面抛光装置，涉及表面抛光技术领域，为解决在对体积较大的工件进行处理时难度大大增加，手持的方式会出现抛光深度误差较大，使得抛光面光滑度凹凸不平，抛光效果不佳的问题。所述载物台的上方设置有安装轨座，安装...

本发明公开了动态控制溅射靶材利用率的控制装置和控制方法，涉及磁控溅射镀膜领域，为解决现有技术中的溅射靶材利用率的控制装置的测量方式复杂，影响工作效率，无法实现在线实时测量，这样既浪费了时间，也无法动态控制靶材利用的问题。所述靶材溅射工作...

本发明公开了一种可提高靶材利用率的磁控溅射靶，涉及磁控溅射技术领域，为解决现有技术中的现有的靶材在使用过程中，靶材中间部位磁场较强的区域刻蚀程度比周围严重，导致靶材利用率低下的问题。所述靶材的一侧设置有降温背板，所述降温背板的一侧设置有...

本发明公开了一种可跟随的旋转磁控溅射膜厚多点测量装置和检测方法，涉及磁控溅射相关领域，为解决现有技术中的无法解决现有的膜厚测量装置难以实现对双面膜厚进行精准测量的问题，所述第二电动滑道的内部设置有第二电动滑块，所述第二电动滑块上设置有第...

本实用新型公开了一种镀膜涂层多槽超声波清洗机，涉及超声波清洗机技术领域，为解决现有的一些超声波清洗机在使用时，性能不足，导致清洗效率较低的问题。所述清洗结构的下方安装有万向轮结构，所述清洗结构的一侧设置有总出水口，所述总出水口的一侧安装...

本实用新型公开了一种带有AlCrN或AITiN涂层的斜纹耐磨损螺丝搓牙板，包括底座，所述底座的顶部固定安装有接料盒，所述底座的顶部固定安装有固定座，所述固定座的侧壁固定安装有固定搓牙板。本实用新型，在搓牙板的表面使用耐磨层，耐磨层能够适...

本实用新型公开了一种镀膜涂层膜厚仪，涉及膜厚仪技术领域，为解决现有的一些涂层膜厚仪在使用时，结构单一，导致检测准确性下降的问题。所述手握载体结构的上端安装有内螺纹槽，所述手握载体结构的上方设置有膜厚检测结构，所述膜厚检测结构的前端面安装...

本实用新型公开了一种离子束磁控溅射复合镀膜的装置，涉及磁控溅射复合镀膜技术领域，为解决现有离子束磁控溅射复合镀膜过程中存在因产品大小不同而导致溅射距离过远，从而导致后续成品质量下降的问题。所述离子束磁控溅射复合镀膜机构本体由真空镀膜室与...

本实用新型公开了真空磁控溅射多弧离子复合镀膜机，涉及镀膜机技术领域，为解决现有的一些复合镀膜机稳定性不高，导致产品质量下降的问题。所述箱体结构的上方安装有镀膜结构，所述镀膜结构的上方设置有接入降温器，所述接入降温器的一侧安装有滑轨，所述...