以相对平台（３０）振动上独立设置的固定件（７４），与连接于载台ＲＳＴ的可动件（７２），来沿平台上的导引面（９２ｃ、９２ｄ）驱动载台。又，平台的例如上下方向的驱动量超过既定值时，即通过连接装置（３３）解除载台与可动件的连接。亦即，由于连接...

本发明主要为提供一种无需变化聚光镜的失真，能够无阶段地调整照度分布的二次成分的照明光学系统及具备该照明光学系统的曝光装置。其手段为，在曝光光源射出的曝光的光路上，横切光轴的方向设置至少两枚滤光部材，该滤光部材的透过率分布可用含有三次以上...

本发明提供一种曝光装置，在分割图案继续曝光之际，能够任意设定在感光基板形成的图案的大小，同时亦能任意设定罩幕上的图案的分割位置。其手段为使用的扫描型曝光装置，备有视野光圈，可设定感光基板Ｐ的投影区域（５０）的扫描方向的宽度；及遮光板，设...

本案可以在不拘光罩的反射特性下，高精确度地实现一高产出率的对焦调整。其主要是将一可观察第一物体，并可通过第一物体与第一光学系组观察第二物体的第二光学系组的聚焦位置，对准于第一物体上的特定表面。其包含有：步骤（Ｓ８），用以相对于第一光学系...

一种曝光装置，包括一光源（１）以及一照明光学系统ＩＬ，使当从该光源（１）的光照射于一罩幕Ｍ，利用通过该罩幕Ｍ的光而照射于一感旋光性基板Ｐ上，而形成于该罩幕Ｍ的一图案ＤＰ在该曝光装置中，转印到该感旋光性基板Ｐ。该照明光学系统ＩＬ包括对应于...

提供一种曝光方法及曝光装置，是在一面补正像特性一面扫描曝光时，通过进行良好精度的补正可使图案以良好精度重叠于所定的位置关系，能进行精度良好的曝光处理。解决手段，在一面使光罩（Ｍ）与感光基板（Ｐ）以同步移动一面经介投影光学系统（ＰＬ１～Ｐ...

一种投影光学系统，用以将局部闪光控制在容许范围内。投影光学系统使用比波长２００ｎｍ更短波长的波长范围的曝光光，将第一面上的图案像形成于第二面上。在暗图案位于第一面的情形下，当暗图案周围的亮图案像的光强度积分值为１００时，前述暗图案的闪光...

本发明提供可将投影光学系统的成像位置及像面高精度且连续地变更调整、精度良好地曝光处理的曝光装置及曝光方法。曝光装置（ＥＸ）是一种一面将由曝光光照明的光罩（Ｍ）和感光基板（Ｐ）同步移动一面将光罩Ｍ的图案像通过投影光学系统（ＰＬ１～ＰＬ５）...

一种投影光学系统，将第一面（Ｒ）的影像形成在第二面（Ｗ）上。投影光学系统具备以属于立方晶系的结晶材料所形成的至少两个结晶穿透部材。至少两个结晶穿透部材的结晶轴［１１１］、结晶轴［１００］以及结晶轴［１１０］中的任何一个结晶轴与光轴间的角...

一种投影光学系统及该投影光学系统的曝光装置，在包括多个透射构件，并将第一面的图像投影到第二面的投影光学系统中，包括由结晶材料构成的结晶透射构件，当以该结晶透射构件的有效直径为ＥＤ，以前述结晶透射构件的外径为ＬＤ时，前述结晶透射构件中的至...

一种曝光方法，适用于一面将掩膜和基板在第１方向同步移动一面对该基板曝光该掩膜的图案，其特征是：包括： 检测复数个调正系统的复数个标志，其中该些调正系统是分别与设于该基板上的多个调正标志呈对向，同时在与该第１方向交叉的第２方向上并列...

一种照明光学装置，基于来自光源的光束以照明一个被照射面，包括在该光源和该被照射面之间的光路中配置的一台光积分仪、配置于该光积分仪和该被照射面之间的光路中，基于来自该光积分仪的光束形成多个光源的一个复眼透镜，其特征在于该复眼透镜从光源侧依...

一种载台装置，包括： 一个导引构件，导引着保持基板的一个载台本体在一个第一方向移动自如的方式，并在一个基座上往一个第二方向移动；以及一个驱动装置，驱动该载台本体往该第一方向，其特征在于包括： 一个从动载台，连接该驱动装置的一...

一种十字标记搬运方法，用以搬运图案形成于圆形基板的一个十字标记，其特征在于以设置在一个搬运机械手臂的Ｕ字型钩上所设置的吸引部，来吸引保持该十字标记的基板的外周缘上约略相等分离的三个保持点。

一种十字标记保持方法，用以保持图案形成于圆形基板的一个十字标记，其特征在于该十字标记保持方法包括： 从下方支撑该十字标记基板的外周缘上的约略相等地分开的三个点（支撑点）；以及 从该些支撑点的正上方，使软质且非粘着性的一个押部...

一种支撑装置，包括：填充有所定压力的气体并利用前述气体对物体进行支撑的第１气体室、支撑前述第１气体室的支撑框架，其特征在于具有设于前述支撑框架内并与前述第１气体室连通的第２气体室。

一种防振装置，其特征在于包括： 保持物体的保持构件； 借由一个内部气体的压力而在重力方向支持前述保持构件的第一气体室； 在与前述第一气体室连通，且具有较前述第一气体室小的内容积的第二气体室； 变化前述第二气体室的...

一种投影光学系统，将第一物体的图案像形成于第二物体上，包含配置于上述第一物体和上述第二物体之间的光程中的光学材料以及在上述第一物体侧及上述第二物体侧两处为实质远心性，该投影光学系统的特征为：　　　　上述光学材料具有１．６以下的折射率，其...

一种曝光方法，适用于将掩膜和基板在第１方向同步移动并对该基板曝光该掩膜的图案，其特征是：包括：　　　　将该基板分割为多个曝光区域的分区；以及　　　　在该多个曝光区域的每个分区使该掩膜和该基板位置吻合后，将该掩膜的图案曝光于该基板。

一种曝光装置，能够不招致光量损失，正确检出光源的光量变化，以保持光源照射的照明光的光量为一定。其手段为在该光源元件配设：光源（１）；及电力供应手段（３６），供给该电源电力；及反射镜（３），将该光源照射的照明光，反射到被照射侧；及吸光手段...