【技术实现步骤摘要】
本专利技术是有关于一种作为半导体曝光装置的图案(patterm)原版所使用的十字标记搬运(reticle handling)方法以及搬运装置。近年来,使用电子束(electron beam,EB)的曝光装置的开发不断地发展,以作为能兼具高分辨率与高产率化的曝光装置。此种EB曝光装置并非使用习知的玻璃制的四角十字标记,而是使用和SEMI规格晶片与SEMI规格V形标记晶片(notch wafer)相同形状的薄圆形十字标记。此十字标记的厚度约在0.5mm~1mm左右,直径8时是较主要的。图案大致上整个形成在此EB曝光用的十字标记上。为了使EB照射在图案上面并且从图案的开口通过,同一面的上下面是不可以接触的。因此,可接触的部分仅仅是图案以外部分的十字标记外缘宽度的数毫米部分的上下面而已,因而必须以此部分来保持十字标记并且搬运。然而,习知的十字标记搬运装置并无法保持住此种薄圆形的十字标记基板。为达到上述目的,本专利技术提出一种十字标记搬运方法,用以保持图案形成于圆形基板的十字标记,其特征在于以设置在搬运机械手臂的U字型钩上所设置的吸引部,来吸引保持该十字标记的基板的外 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种十字标记搬运方法,用以搬运图案形成于圆形基板的一个十字标记,其特征在于以设置在一个搬运机械手臂的U字型钩上所设置的吸引部,来吸引保持该十字标记的基板的外周缘上约略相等分离的三个保持点。2.一种十字标记搬运装置,用以搬运图案形成于圆形基板的一个十字标记,其特征在于该十字标记搬运装置包括一个机械手臂,其前端具备一个U字型钩;一个吸引部,...
【专利技术属性】
技术研发人员:菊地秀和,山本明宏,
申请(专利权)人:尼康株式会社,仙台尼康株式会社,
类型:发明
国别省市:
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