用于微光刻法的照明系统技术方案

一种用于微光刻的系统，包括： 照明光源； 照明光学系统，包含，按从物镜侧开始的顺序： （ａ）从所述照明光源接受照明的第一衍射光学单元； （ｂ）变焦透镜； （ｃ）第二衍射光学单元； （ｄ）聚光器透镜； （ｅ）中继透镜； （ｆ）掩模版；和 把所述掩模版成像在基片上的投影光学系统， 其中，所述用于微光刻的系统，能提供可变焦的数值孔径。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及微光刻法，更具体说，是涉及用于微光刻法设备的有高数值孔径的照明系统。
技术介绍
光刻法(亦称微光刻法)用于制造半导体器件。光刻法使用电磁辐射，如紫外(UV)、深UV、或可见光，在半导体器件设计中产生精细的图。许多种半导体器件，如二极管、三极管、和集成电路，能够用光刻技术制作。在半导体制作中，用曝光系统或设备来实施如蚀刻的光刻技术。曝光系统通常包括照明系统、含有电路图的掩模版(亦称掩模)、投影系统、和用于对准涂覆了光致抗蚀剂的半导体晶片的晶片对准台。照明系统以优良的矩形长孔照明场照明掩模版上的区域。投影系统把掩模版电路图照明区域的像，投射到晶片上。随着半导体器件制作技术的进步，对制作半导体器件的光刻系统每一部件，永远存在增长的要求。该要求包括用于照明掩模版的照明系统。例如， 需要用均匀辐照度的照明场来照明掩模版(reticle)。在分步扫描光刻法中，还需要改变照明场的大小，使该照明场大小能够适应于不同的应用和半导体晶片尺寸。某些照明系统包括置于掩模版之前的阵列的或衍射散射光学单元。该散射光学单元产生需要的光角分布，其后把该光角分布成像或中继至掩模版。此外，一般使用的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于微光刻的系统，包括照明光源；照明光学系统，包含，按从物镜侧开始的顺序(a)从所述照明光源接受照明的第一衍射光学单元；(b)变焦透镜；(c)第二衍射光学单元；(d)聚光器透镜；(e)中继透镜；(f)掩模版；和把所述掩模版成像在基片上的投影光学系统，其中，所述用于微光刻的系统，能提供可变焦的数值孔径。2.按照权利要求1的系统，其中所述系统的场的大小，是离散地可变的。3.按照权利要求1的系统，其中所述系统的场的大小，是离散地可变的，且所述照明光学系统的数值孔径与所述投影光学系统的数值孔径之比，是连续地可变的。4.按照权利要求1的系统，其中所述系统的场的大小，是连续地可变的。5.按照权利要求1的系统，还包括在所述第二衍射光学单元与所述聚光器透镜之间的第三衍射光学单元。6.按照权利要求5的系统，其中所述第三衍射光学单元的位置，是可调整的，以便连续地调整所述系统的场的大小。7.按照权利要求1的系统，其中，所述照明系统的数值孔径与所述投影光学系统的数值孔径之比，是连续地可变的。8.按照权利要求7的系统，其中，所述比值是在约0.2和1之间连续地可变的。9.按照权利要求1的系统，其中所述照明光源，包括准分子激光器。10.按照权利要求1的系统，其中所述第一衍射光学单元，包括微透镜阵列。11.按照权利要求1的系统，其中所述第一衍射光学单元，包括Fresnel透镜。12.按照权利要求1的系统，其中所述第一衍射光学单元，包括衍射光栅。13.按照权利要求1的系统，其中所述照明系统，还包括在所述变焦透镜与所述第二衍射单元之间的旋转三棱镜。14.按照权利要求1的系统，其中所述照明系统，还包括在所述第二衍射单元与所述聚光器透镜之间的旋转三棱镜。15.按照权利要求1的系统，其中所述第二衍射光学单元，有矩形的数值孔径。16.按照权利要求1的系统，其中所述第二衍射光学单元，包括微透镜阵列。17.按照权利要求16的系统，其中所述第二衍射光学单元所述微透镜阵列，包括柱面透镜阵列。18.按照权利要求1的系统，其中所述照明系统，还包括在所述聚光器透镜与所述中继透镜之间的限定器。19.按照权利要求1的系统，其中所述照明系统，还包括在所述中继透镜中心的远心光阑。20.一种用于微光刻的系统，包括照明光源；从所述照明光源接受照明的照明光学系统；和从所述照明光学系统接受照明的投影光学系统，其中，所述照明系统的数值孔径与所述投影光学系统的数值孔径之比，是连续地可变的，而场的大小则是离散地可变的。21.按照权利要求20的系统，其中，所述照明系统，还包括从所述照明光源接受照明的第一衍射光学单元。22.按照权利要求21的系统，其中，所述第一衍射光学单元，包括微透镜阵列。23.按照权利要求21的系统，其中，所述第一衍射光学单元，包括Fresnel透镜。24.按照权利要求21的系统，其中，所述第一衍射光学单元，包括衍射光栅。25.按照权利要求21的系统，其中，所述照明系统，还包括从所述第一衍射单元接受照明的变焦透镜。26.按照权利要求25的系统，其中，所述照明系统，还包括从所述变焦透镜接受照明的旋转三棱镜。27.按照权利要求26的系统，其中，所述照明系统，还包括从所述旋转三棱镜接受照明的第二衍射光学单元。28.按照权利要求27的系统，其中，所述第二衍射光学单元有矩形的数值孔径。29.按照权利要求27的系统，其中，所述第二衍射光学单元包括微透镜阵列。30.按照权利要求27的系统，其中，所述第二衍射光学单元包括柱面透镜阵列。31.按照权利要求27的系统，其中，所述照明系统，还包括从所述第二衍射单元接受照明的聚光器透镜。32.按照权利要求27的系统，其中，所述照明系统，还包括从所述第二衍射单元接受照明的聚光器透镜，和从所述聚光器透镜接受照明的中继透镜。33.按照权利要求31的系统，其中，所述照明系统，还包括在所述聚光器透镜与所述中继透镜之间的限定器。34.一种用于微光刻的系统，包括，按从物镜侧开始的顺序第一衍射光学单元；变焦透镜；有矩形数值孔径的第二衍射光学单元；聚光器透镜；和中继透镜。35.按照权利要求34的系统，其中，所述照明系统的场的大小，是离散地可变的。36.按照权利要求34的系统，还包括投影光学系统，其中所述系统的场的大小和部分相干性两者都是可变的。37.按照权利要求36的系统，其中，所述部分相干性是在约0.2和1之间连续地可变的。38.按照权利要求34的系统，其中，所述照明系统，还包括在所述变焦透镜与所述第二衍射单元之间的旋转三棱镜。39.按照权利要求34的系统，其中，所述照明系统，还包括在所述第二衍射光学单元与所述变焦透镜之间的旋转三棱镜。40.按照权利要求34的系统，其中，所述第二衍射光学单元有矩形的数值孔径。41.按照权利要求34的系统，其中，所述第二衍射光学单元包括微透镜阵列。42.按照权利要求34的系统，其中，所述第二衍射光学单元包括柱面透镜阵列。43.一种用于微光刻的系统，包括照明系统，它包含，按从物镜侧开始的顺序(a)在第一侧有第一衍射单元和在第二侧有第二衍射单元的变焦透镜；(b)聚光器透...

【专利技术属性】
技术研发人员：马克·奥斯考特斯凯，莱福·雷日科夫，斯高特·考斯坦，詹姆斯·察考印尼斯，沃特·奥格斯特茵，
申请(专利权)人：ASML控股股份有限公司，
类型：发明
国别省市：