默克专利有限公司专利技术

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  • 本发明的目的是提供一种抗蚀剂组合物,其可以形成精细的抗蚀剂图案并保持它们。另一个目的是提供具有良好灵敏度和/或分辨率的抗蚀剂层。再一个目的是提供一种负型剥离抗蚀剂组合物,由该组合物制成的抗蚀剂图案的可去除性良好。[方案]本发明提供一种包...
  • 本发明涉及式I的金刚烷类化合物D1‑
  • 本发明涉及式I化合物R1‑
  • 一种用于自动旋塞阀致动的保持装置(1),该保持装置包括:基体(2);以及驱动器(3),该驱动器以可旋转的方式接纳在所述基体(2)处。该保持装置(1)具有容座(4),该容座用于以可移除的方式接纳旋塞阀(A)的至少一部分,并且构造成使得该驱...
  • 本发明涉及通式I所示的甲酰胺
  • 本发明提供一种能够抑制图案倒塌的基板图案填充组合物及使用其的方法。一种基板图案填充组合物,包括(A)第一溶质、(B)第二溶质和(C)溶剂。还提供了使用其的方法。(C)溶剂。还提供了使用其的方法。(C)溶剂。还提供了使用其的方法。
  • 本发明提供一种高膜密度、高膜硬度、高耐蚀刻性的固化膜的制造方法。一种制造固化膜的方法,包括(1)在基板的上方应用组合物(i);(2)由组合物(i)形成含烃膜;以及(3)对含烃膜照射等离子体、电子束和/或离子,形成固化膜。该固化膜的使用。...
  • 本申请涉及一种包含有机层的电子器件,该有机层又含有至少两种不同化合物的混合物。有机层又含有至少两种不同化合物的混合物。
  • 本申请涉及一种包含有机层的电子器件,所述有机层含有至少两种不同化合物的混合物。述有机层含有至少两种不同化合物的混合物。
  • 本发明涉及一种包含至少一种可交联聚合物和至少一种有机溶剂的制剂,涉及这些制剂在制备电子器件或光电子器件中的用途,涉及使用这些制剂制备电子器件或光电子器件的方法,以及涉及电子器件或光电子器件,其中所述至少一种可交联聚合物以至少0.5g/L...
  • 提供一种能够填充窄且高纵横比的沟槽并且能够制造厚的硅质膜的硅质膜制造用组合物。[解决手段]本发明提供一种硅质膜制造用组合物,其包含(a)嵌段共聚物,其具有:具有5个或更多个硅原子的线性和/或环状聚硅烷主链嵌段和具有15个或更多个硅原子的...
  • 本发明涉及通式II所示的嘧啶酮衍生物或其药学上可接受的盐,本发明的化合物用于治疗哺乳动物(尤其是人类)的过度增殖性疾病和病症的用途,以及含有这种化合物的药物组合物,以及含有这种化合物的药物组合物,以及含有这种化合物的药物组合物,
  • 本发明涉及适用于电子器件,特别是有机电致发光器件的式(1)化合物,以及包含这些化合物的电子器件。物的电子器件。
  • 本发明涉及金属络合物和含有所述金属络合物的电子器件、特别是有机电致发光器件。特别是有机电致发光器件。
  • [课题]提供一种能够降低环境影响的厚膜抗蚀剂组合物。[技术方案]一种厚膜抗蚀剂组合物,包含(A)聚合物、(B)脱保护剂、(C)由阳离子和阴离子构成的特定的光反应淬灭剂,和(D)溶剂。剂。
  • 提供一种能够形成适合剥离的图案形状的正型抗蚀剂组合物。一种正型抗蚀剂组合物,其包含(A)特定的聚合物、(B)具有酰亚胺基的产酸剂、(C)溶解速度调节剂,和(D)溶剂。和(D)溶剂。
  • [课题]提供一种即使不进行固化助剂的添加或全曝光,也能制造褶皱的产生得到抑制且表面平滑性高的固化膜的正型光敏聚硅氧烷组合物。[技术方案]一种正型光敏聚硅氧烷组合物,包含:(I)聚硅氧烷,(II)组合物总质量的200~50000ppm的羧...
  • 本发明涉及作为Toll样受体7/8(TLR7/8)拮抗剂的通式(I)所示的化合物及药学上可接受的组合物。在通式(I)中,环A是芳基或杂芳基;环B是芳基或杂芳基;以及X是C(R4)2、O、NR4、S、S(R4)或S(R4)2,,,
  • 本发明涉及适合用于电子器件中的化合物,以及含有所述化合物的电子器件,特别是有机电致发光器件。致发光器件。致发光器件。
  • 本发明涉及诸如例如医药产品或其它健康相关产品等产品的物理对象的追踪和防伪保护领域,并且特别地涉及准备和执行此类对象的安全认证。具体来说,本发明涉及一种用于准备由物理对象的接收方对物理对象或物理对象组进行的后续安全认证的方法和系统,涉及一...