一种硅片固态蜡贴片，涉及硅片技术领域，包括第一限位杆、第二限位杆、第三限位杆、第四限位杆、套筒、手持部、底座和盛放筒，在底座上设有第一限位杆、第二限位杆、第三限位杆和第四限位杆，第一限位杆、第二限位杆、第三限位杆和第四限位杆之间设有若干...

一种硅片背面损伤用组合式石英玻璃喷头，涉及硅片技术领域，包括固定轴、喷头、凹槽、凸起、支撑块、连接柱和螺纹，在喷头上分别设有固定轴和若干个凹槽，凹槽内设有连接柱，连接柱上设有螺纹和支撑块，支撑块上设有凸起；本实用新型结构简单、实用性强，...

一种单晶硅片双片单面腐蚀装置，涉及硅片技术领域，包括操作杆、旋钮、固定圈、第一卡槽、第二卡槽、固定柱和螺纹，在操作杆上设有固定圈，固定圈上分别设有第一卡槽、第二卡槽和固定柱，固定柱上设有旋钮和螺纹；本实用新型结构简单、实用性强，不但可以...

一种硅片贴片机片叉子保护装置，涉及硅片技术领域，包括叉片、底板、上固定板、竖板、连接杆、下固定板、第一缓冲块、弹簧和第二缓冲块，在底板的两端分别设有叉片和固定装置，固定装置由上固定板、竖板和下固定板构成，上固定板和下固定板通过竖板连接，...

一种硅片背面损伤用石英玻璃喷头，涉及硅片技术领域，包括喷头、固定轴、凹槽、磨损条、第一卡块、第二卡块和卡槽，在喷头上设有固定轴和凹槽，凹槽内设有卡槽，卡槽上设有磨损条，磨损条上设有第一卡块和第二卡块；本实用新型结构简单、实用性强，不但可...

一种单晶硅片单面腐蚀装置，涉及硅片技术领域，包括固定圈、旋钮、承载盘、操作杆、卡槽、固定柱和螺纹，在操作杆上设有承载盘，承载盘上设有卡槽，卡槽上设有固定圈，固定圈上设有固定柱，固定柱上设有旋钮和螺纹；本实用新型结构简单、实用性强，不但可...

一种单晶硅片多片单面腐蚀装置，涉及硅片技术领域，包括卡块、支撑板、立柱、旋钮、固定圈、第一卡槽、第二卡槽、固定杆和螺纹，在支撑板上设有立柱，立柱的两端分别设有卡块和固定杆，固定杆上设有旋钮、螺纹和固定圈，固定圈上设有第一卡槽和第二卡槽；...

一种硅片不对称倒角装置，涉及硅片技术领域，包括竖轴、转盘、固定盘、第一限位块、固定柱、连接杆、凸块、第二限位块、支撑盘、底座和倒角器，在底座上设有支撑盘，支撑盘上设有第一限位块和第二限位块，第一限位块上设有连接杆，连接杆上设有固定柱和凸...

一种单晶硅片多片厚蜡涂抹装置，涉及硅片技术领域，包括第一把持部、盖体、第二把持部、压板、固定圈、连接杆、第一凹槽、第二凹槽、第二限位块和第一限位块，在盖体上设有第一把持部、第二把持部和若干个压板，压板上分别设有第一凹槽和第二凹槽，压板下...

一种单晶硅片厚蜡涂抹装置，涉及硅片技术领域，包括提手、盖体、盛放体、把持部、第一卡槽、第一限位块、第二卡槽和第二限位块，在盛放体上设有盖体，盖体上分别设有提手、第一卡槽和第二卡槽，盛放体上还分别设有把持部、第一限位块和第二限位块；本实用...

本实用新型是有关于一种移动式喷嘴，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾,其包括：管状喷嘴及喷嘴移动装置；所述管状喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上,能够在所述喷嘴移动装置的作用下左右移动。本实用新型通过使喷嘴为管状,并且设置喷...

本发明是有关于一种传送带，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其中在所述传送带的承载构件上设有网格，所述网格贯穿所述承载构件的承载面和与其相对的另一面，在所述传送带的下方设有粉尘收装置，所述传送带的网格能够允许散落于所...

本发明是有关于一种料罐，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其包括：储物罐及震动器，所述震动器设置于所述储物罐使所述储物罐内储存的物品处于振动状态。本发明通过对料罐增加震动器，可以使储存于料罐中的金刚砂一直保持疏松状态...

本发明是有关于一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置，其包括：金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐；其中，所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上，并且设置于所述硅片传送带的上方，能够...

本发明是有关于一种移动式喷嘴，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾,其包括：管状喷嘴及喷嘴移动装置；所述管状喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上,能够在所述喷嘴移动装置的作用下左右移动。本发明通过使喷嘴为管状,并且设置喷嘴移动装...

本发明是有关于一种除尘系统，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其包括：排风除尘装置及粉尘收集罐；其中，所述排风除尘装置与所述粉尘收集罐通过管道连通。本发明的除尘系统可以对金刚砂喷嘴喷洒金刚砂时飞扬的粉尘进行收集，再利用。

本发明是有关于一种除尘风橱，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其中所述除尘风橱为密闭式风橱，设置于硅片传送带的上方，并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面；在所述除尘风橱内设有金刚砂喷嘴。本发明通...

本实用新型是有关于一种除尘风橱，用于硅片背面干法喷砂制造吸杂源以消除硅抛光表面氧化雾，其中所述除尘风橱为密闭式风橱，设置于硅片传送带的上方，并且由所述硅片传送带的上方向下延伸至所述硅片传送带的上表面；在所述除尘风橱内设有金刚砂喷嘴。本实...

本实用新型是有关于一种硅片背面喷砂制造吸杂源消除硅抛光表面氧化雾的装置,其包括：金刚砂喷嘴、喷嘴移动装置、除尘风橱、硅片传送带、金刚砂料罐以及第一粉尘收集罐；其中，所述金刚砂喷嘴设置于所述喷嘴移动装置上，并且设置于所述硅片传送带的上方，...

本发明提出的硅片背面干法喷砂制造吸杂源、消除硅抛光表面氧化雾的工艺方法是根据背损吸杂原理，在硅片背面喷砂产生晶格损伤，制造吸杂源，通过对喷砂粒度、喷砂压力、作业片距、时间过程的控制和调制，在硅片背面制造均匀的层错密度，即在硅片背面产生６...