本发明涉及玻璃平板的包装，提供了一种用于储存和运输平板材料例如LCD显示玻璃的容器，其具有一用于在水平面上支撑容器的底架；一后支撑件用于支撑平板的堆叠，以从水平面约3°到约15°角延伸。一底边缘引导件，一对相对的侧边缘引导件和一顶边缘引...

提供了一种GaN基边缘发射激光器，它包含半极性GaN衬底10、有源区20、N侧波导层30、P侧波导层40、N型包覆层50和P型包覆层60。GaN衬底的特征是穿透位错密度约为1x106/cm2。N侧波导层的应变-厚度积超过其应变弛豫临界值...

一种制造半导体材料的固体层（140）的方法，该方法包括选择模具（100），该模具具有前缘厚度（104）和不同的后缘厚度（106），使得在固体层厚度与前缘和后缘在熔融半导体材料（120）中的有效浸入时间的各关系图中，与前缘和后缘相邻的固体...

气密性薄膜，其包括第一无机层和与第一无机层邻接的第二无机层，其中该第二无机层作为第一无机层与氧的反应产物形成，其摩尔体积比第一无机层的摩尔体积大大约-1%至15%。该第二无机层的平衡厚度至少是第一无机层的刚沉积厚度的10%但小于该厚度。

本发明提供了β″-二-R-取代的稠合噻吩（DCXFT4）化合物，以及制备式（V）所示化合物的方法，其中各R是C4-C25亚烃基，所述方法包括对四溴二噻吩（I）进行二酰基化；使溴-二噻吩化合物（II）与2-巯基乙酸酯接触，形成环化稠合噻吩...

一种流体分配系统（100）可包括：第一模具部分（11），其具有限定第一边缘的第一表面；以及第二模具部分（12），其与第一模具部分间隔开并且具有面向第一表面且限定第二边缘的第二表面，其中第一边缘和第二边缘限定流体出口开口。该流体分配系统也...

在此描述了一种成形装置（635），该成形装置用于一玻璃制造系统（100）中，以形成一玻璃板（605）。该成形装置（635）包括一本体（722），该本体具有一接纳玻璃液的入口（702），该玻璃液流入形成于本体（722）中的一槽（706），...

本发明涉及用于生产玻璃带的设备和方法。用于生产玻璃带的设备包括控制装置，该控制装置构造成通过基于从应力传感器设备至少周期地获得的应力特性信息对多个温度调节元件的操作进行独立调节来对玻璃带进行至少周期的热应力补偿。在又一些示例中，生产玻璃...

用于测量薄膜厚度的方法和设备，包括：使用激光投射系统和检测器阵列得到薄膜的高速厚度测量，使用单点测量设备在一个或多个位置得到薄膜的厚度测量，并将它们与通过单点测量设备测得的该膜的一个或多个绝对厚度值进行比较，确定高速测量值的准确性。

在从熔融玻璃至板材料的成形中，成型辊（40）对(41)用来在玻璃带(34)成形时在玻璃带(34)中产生弯曲形状。当玻璃带随后被分离时，带的弯曲部分变成弯曲边缘(16)，该弯曲边缘可包围能在上面安装盖板的诸如计算机显示器或电视机的显示产品...

制备负载的整体型金（Au）催化剂的方法，所述负载的整体型金（Au）催化剂用于通过水煤气变换反应从含一氧化碳、氢气和水的气体混合物产生富含氢气的气体，并用于在低反应温度下通过一氧化碳的氧化反应从空气中去除一氧化碳。在外涂覆的（washco...

流通式基材，例如蜂窝体，其包含某些沸石。所述流通式基材可用于例如从流体如气流中除去重金属。

本发明涉及熔融法制造平板玻璃所用的下沉有所减小的等静压板。该等静压板使用一种锆石耐火材料，该耐火材料在1180℃和250psi的条件下的平均蠕变速率（MCR）和此平均蠕变速率的95%的置信区间（CB），使得CB/MCR小于0.5，MCR...

本发明涉及生产陶瓷坯体的装置和方法。生产陶瓷形成材料坯体的装置包括支承设备，支承设备包括至少一个空气轴承，空气轴承包括具有多个孔的支承表面。在一个例子中，支承表面构造成为坯体限定大于180°的支承区域。在另一例子中，多个孔包括至少一定数...

本实用新型涉及一种用于表征玻璃板片特征的装置，该装置包括：环形的内多孔体部分，内多孔体部分包括位于内多孔体部分的表面内的圆形槽、以及多个与圆形槽相交的径向槽，内多孔体部分形成延伸通过环形的内多孔体部分的厚度的中心通道；围绕内多孔体部分设...

本实用新型涉及一种制造玻璃板片的装置，该装置包括：用于从熔融玻璃中形成玻璃带的成形体；用于对玻璃带施力的重量补偿装置。该重量补偿装置包括：线性驱动单元；偶联到线性驱动单元的驱动马达；偶联到线性驱动单元的啮合装置，该啮合装置包括用于接触玻...

本发明提供了用于形成晶体管的方法和设备，该晶体管包括：半导体层（102），其包含从光活性有机材料（122）扩散到其中的分子、质子、和/或离子等；设置在半导体层上或者半导体中的通道；设置在半导体层上或者半导体层中的源极（106）；设置在半...

本发明提供了一种用于对绝缘体上半导体结构或玻璃（或其它绝缘体基材）上半导体结构上的所转移层进行精整的方法，该方法通过将半导体层的受损表面部分除去，同时在玻璃上留下平滑的经精整的半导体膜来进行。使用氧等离子体处理所述受损表面层，以使所述受...

公开涉及调控KATP通道的组合物和方法以及通过调控KATP和mito-KATP通道治疗肝脏紊乱的方法。

本发明涉及用于极紫外光刻系统中所用反光镜的多层Mo/Si涂层，以及利用等离子体离子辅助沉积（PIAD）技术制备这种反光镜的方法。涂层沉积在适用于EUV光刻的基片上，是由40-100个Mo/Si周期组成的Mo/Si涂层，每个周期由一个Mo...