【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本文中的实施方式涉及玻璃或者其他基材上的薄膜的膜厚度的测量。本文所述方法和设备设计成能够高速测绘膜厚度，例如用于大量生产SiOG (玻璃上硅)的准确在线测量系统所需的对膜厚度进行高速测绘。背景现有数种用于测量薄膜厚度的方法，包括光谱椭圆测量法、光谱反射法、白光法、或者低相干干涉法以及热波测量法。每一种所述方法都存在限制。例如，所述光谱椭圆测量计是一种广泛使用并高度准确的用于膜厚度的测量方法；然而，其是一种单点测量方法且每个数据点通常需要数秒的测量时间，使得其对于在线系统中所需的高速绘制来说过于缓慢。光谱反射计也是一种用于薄膜厚度的广泛使用且准确的测量方法。类似于光谱椭圆测量计，其是一种单点测量，每个数据点的典型采集时间至少为I秒。该方法对于高速绘制也不够快。使用所述光谱反射计的商业系统包括购自海洋光学公司(OceanOptics)、膜测量公司(Filmetrics)以及N&K公司等的商业系统。美国专利第7，304, 744号揭示了一种使用光谱反射法的方法。所述白光法或者低相干干涉法技术利用了与光谱反射计相同的物理现象，但是通过白光干涉计而不是光谱仪的...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于测量薄膜厚度的设备，该设备包含第一测量设备，运行该设备得到第一厚度测量值，所述第一厚度测量值基于扫描穿过薄膜表面的光线的照明强度；第二测量设备，该设备包含单点测量装置，运行该装置以得到该薄膜的一个或多个进一步的厚度测量值；以及计算机系统，运行该计算机系统使用所述该薄膜的一个或多个进一步的厚度测量值来校准所述第一厚度测量值。2.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第一测量设备包含光源和投射光学件、集光光学件以及检测器阵列，运行所述光源和投射光学件以在薄膜表面上产生光线，运行所述集光光学件以接收从薄膜表面反射的光，运行所述检测器阵列以测量薄膜反射光的强度。3.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述光源还包含激光器。4.如权利要求3所述的设备，其特征在于，所述投射光学件包含圆柱透镜、旋转扫描仪、偏振器、分光器和/或反射器中的一个或多个。5.如权利要求2所述的设备，其特征在于，所述检测器阵列包含线扫描相机。6.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二测量设备选自光谱反射计、光谱椭圆测量计以及低相干干涉仪。7.如权利要求1所述的设备，其特征在于，所述第二测量设备是光谱反射计。8.如权利要求1所述的设备，其特征在于，运行所述计算机系统以处理来自检测器阵列的数据，并使用从单点测量设备得到的校准数据将所述来自检测器阵列的数据转化为厚度值。9.如权利要求8所述的设备，其特征在于，使用来自先前校准的数据和/或来自单点测量设备的同步绝对厚度测量运行所述计算机系统来计算薄膜的厚度。10.如权利要求9所述的设备，其特征在于，运行所述计算机系统以产生薄膜的一个或多个厚度图，并可任选地识别在特定厚度范围外的薄膜的任意区域。11.如权利要求1所述的设备，其特征在于，运行所述设备以测量设置在基材上的薄膜的厚度。12.如权利要求1所述的设备，...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。