济南晶硕电子有限公司专利技术

济南晶硕电子有限公司共有22项专利

  • 本技术公开了一种半导体分立器件测试工装,涉及测试工装技术领域,包括底座、固定连接在底座顶端两侧的竖直板,以及固定连接于竖直板顶端的顶板,还包括设置于底座内部和竖直板内部的限位单元,以及设置于底座顶端的测试单元;限位单元包括开设于底座内部...
  • 本实用新型属于激光开槽设备技术领域,且公开了一种半导体晶圆冷激光开槽装置,包括操作台,所述操作台的内部开设有凹槽,所述凹槽内壁安装有安装杆,所述安装杆的外表面活动套接有活动架,所述活动架的顶部贯穿操作台并延伸至操作台的外部,所述活动架的...
  • 本实用新型公开了一种半导体分立器生产夹持装置,涉及半导体零件生产设备技术领域,包括壳体,以及开设于壳体内壁的夹持槽,还包括设置于夹持槽内部的测量单元,以及设置于壳体内部的调节单元;测量单元包括设置于对称设置于夹持槽内部的两个夹持板
  • 本实用新型公开了一种电子器件生产用针脚截断装置,涉及电子器件生产技术领域,包括固定板和放置板,所述固定板的底部设置有衔接底腔,且衔接底腔的内部设置有用于进行截断的截断组件,所述截断组件包括内置板、液压气缸、电机、连接轴和刀片,且内置板的...
  • 本实用新型公开了一种半导体元器件生产制造用剪切装置,涉及半导体元器件生产制造领域,包括主体框和第二液压气杆,所述主体框的内部设置有辅助框,且辅助框的内部安装有第一液压气杆,所述第一液压气杆的输出端设置有内置腔,且内置腔的内部设置有用于进...
  • 本实用新型公开了一种用于半导体芯片用光阻液喷涂装备,包括光阻液储存盒和束管扣,所述光阻液储存盒的后端设置有密封盖,且光阻液储存盒的左右两端固定油支撑架,所述支撑架的内壁设置有照明灯,且支撑架的末端开设有安装孔,所述光阻液储存盒的底端固定...
  • 本实用新型涉及半导体分立器件加工技术领域,且公开了一种半导体分立器件筛选装置,包括筛选仓,所述筛选仓内腔的前后两侧均固定安装有安装板,所述安装板的内腔固定安装有弹簧组件,所述弹簧组件远离安装板的一侧固定连接有安装仓,所述安装仓的内腔滑动...
  • 本实用新型公开了一种半导体器件制造用焊线装置,涉及半导体器件技术领域,本实用新型包括主体以及设置于装置主体内腔的过滤单元,还包括:第一安装单元,第一安装单元设置于过滤单元与主体内腔侧壁之间;第一安装单元包括固定连接在内腔侧壁的定位杆、设...
  • 本发明公开了一种光刻曝光机的灯光系统,包括支架,阵列排布在支架上的一组超高压汞灯。其中,所述支架为反碗状支架。其中,所述一组超高压汞灯至少为4个。其中,其特征是,所述超高压汞灯的轴线汇聚于支架的球心处,形成单灯的照射效果。本发明公开的光...
  • 本发明公开了一种环保硼扩散源配方,包括以下重量份数配比的原料:乙二醇乙醚;三氧化二硼;硝酸铝和氧化铝,取三氧化二硼和乙二醇乙醚制备三氧化二硼/乙二醇乙醚溶液,硝酸铝和乙二醇乙醚制备硝酸铝/乙二醇乙醚溶液,取三氧化二硼/乙二醇乙醚溶液和硝...
  • 本发明公开了一种新型光刻胶去除工艺,包括以下步骤:S1:用固态二氧化碳颗粒轰击离子硅片,得到外部硬壳损伤的硅片,S2:将双氧水注入到硫酸溶液反应腔中,双氧水与硫酸发生放热反应形成高温的清洗液,S3:将S1得到的外部硬壳损伤的硅片置于具有...
  • 本发明涉及光刻曝光机技术领域,尤其涉及了一种用于光刻曝光机的灯光系统,包括高压泵灯和灯光模块,所述灯光模块设置于高压泵灯的输入端,所述灯光模块的输入端连接有多组控制器,所述多组控制器的输入端通过信号连接有控制客户端,所述曝光机的光源输入...
  • 本实用新型涉及硅片加工领域,具体是一种石英舟,包括支撑板、支撑杆、挂鼻、底板,所述支撑板数量为两个,所述底板设置于所述支撑板底部且连接所述支撑板,所述支撑杆设置于所述支撑板之间且与所述支撑板垂直,所述支撑杆包括上支撑杆组和下支撑杆组,所...
  • 本实用新型公开了一种泡酸花篮,包括储料单元、支撑单元,所述支撑单元包括支撑板,所述支撑板数量为两个,所述支撑板对向竖直设置,所述储料单元设置于所述支撑板内侧,所述储料单元包括储料支架和移动挡块,所述移动挡块设置于储料支架上。可将硅片竖直...
  • 本实用新型公开了一种改良型多片花篮,包括花篮本体;所述的花篮本体为花篮架,花篮架内设有花篮齿杆,花篮齿杆分为上层齿杆和下层齿杆,上层齿杆和下层齿杆之间设有硅片固定空间,花篮架中部设有两个抓握把手,花篮架两侧设有限位把手,所述的限位把手为...
  • 本实用新型涉及硅片制造领域,具体是一种涂硼工作台,包括加热板,所述加热板前方设置操作平板,所述操作平板上设置旋转台与储料盒,所述加热板底部设置加热器,所述加热器连接有开关,所述加热器与所述开关电连接,所述加热板上放置有硅片,所述旋转台包...
  • 本实用新型提供了一种半导体晶片清洗装置,包括箱体、两个摇臂和多个叶片,四个清洗篮、两个摇臂和多个叶片均设置在箱体内部,箱体上端分别设置有两条侧边角钢和两条中心角钢,四个清洗篮上端均通过侧边角钢和中心角钢并列挂置在箱体内,清洗篮内部可拆卸...
  • 本实用新型公开了一种新型光刻版,包括光刻版本体;所述的光刻版本体设有光刻图像区,光刻图像区边缘设有防漏电结构,所述的防漏电结构为梯形边缘,梯形边缘设有最高边缘,最高边缘两端设有对称的阶梯边缘,分别为左侧阶梯边缘和右侧的阶梯边缘,左侧阶梯...
  • 本实用新型涉及扩散炉组件,具体是一种扩散炉进出料拉杆,包括杆体,所述杆体一端设置U型拉钩,另一端设置推拉头,所述U型拉钩包括连接部与工作部,所述连接部与所述杆体连接,所述工作部为U型拉钩的两侧竖直边,所述工作部为中空结构,所述工作部一边...
  • 本实用新型涉及硅片制造领域,具体是一种用于GPP清洗中的简易抽风装置,包括壳体、风机、抽风罩,所述电机设置于壳体内部,所述进风口设置于壳体上,所述风机外围设置支架,所述风机设置于进风口内且通过所述支架与壳体固定,所述风机包括叶轮、电机,...