一种用于光刻曝光机的灯光系统技术方案

本发明专利技术公开了一种光刻曝光机的灯光系统，包括支架，阵列排布在支架上的一组超高压汞灯。其中，所述支架为反碗状支架。其中，所述一组超高压汞灯至少为４个。其中，其特征是，所述超高压汞灯的轴线汇聚于支架的球心处，形成单灯的照射效果。本发明专利技术公开的光刻曝光机的多灯光源系统，结构简单，成本低廉，维修方便，能够调节光强。调节光强。调节光强。

【技术实现步骤摘要】
一种用于光刻曝光机的灯光系统


[0001]本专利技术涉及一种灯光系统，特别是一种光刻曝光机的灯光系统。

技术介绍

[0002]灯光系统是平行光刻曝光机的的关键部件之一，在曝光能量源的选择上，其他公司都是采用单灯灯光。单灯价格较昂贵，一旦发生故障，维修费用较高。此外，单灯系统发光强度不可调节，而且随着使用时间的增加，光强明显衰弱。因此，单灯系统具有有效寿命短，使用成本较高的缺点。

技术实现思路

[0003]专利技术目的针对现有技术的不足，本专利技术公开了一种维修简单，可调节光强的成本低廉的多灯灯光系统。
[0004]技术方案本专利技术公开了一种光刻曝光机的灯光系统，包括支架，阵列排布在支架上的一组超高压汞灯。
[0005]其中，所述支架为反碗状支架。
[0006]其中，所述一组超高压汞灯至少为4个。
[0007]其中，其特征是，所述的一组超高压汞灯的轴线汇聚于支架的球心处，使一组超高压汞灯可以形成单灯的照射效果。
[0008]所述超高压汞灯采用的都是超高压汞灯，其灯杯为抛物线反射面，理论上可本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻曝光机的多灯灯光系统，其特征是，包括一组阵列排布的超高压汞灯（1），支撑一组超高压汞灯的支架（2）。2.根据权利要求1所述的一种光刻曝光机的多灯灯光系统，其特征是，所述一组超高压汞灯（1）至少为4个。3.根据权利要求1...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭光辉，
申请(专利权)人：济南晶硕电子有限公司，
类型：发明
国别省市：