【技术实现步骤摘要】
本申请涉及芯片生产过程废水处理设备,尤其涉及一种芯片生产过程废水处理系统。
技术介绍
1、本部分的陈述仅仅是提供了与本申请相关的
技术介绍
信息,不必然构成在先技术。
2、芯片生产过程中产生的废水主要有酸碱废水、有机废水、重金属废水和含氟废水等;其中酸碱废水主要来源于清洗设备和蚀刻设备,这类废水含有大量的酸或碱,ph值波动较大,对生态环境具有极大的破坏性;有机废水主要来源于化学气相沉积和光刻胶剥离过程,这类废水含有大量的有机溶剂,如丙酮、甲醇、乙醇等,这些物质对生物具有毒性;重金属废水主要来源于镀膜和研磨工艺,这类废水含有如铜、镍、铬、铅等重金属离子,对环境和人体健康具有极大的危害;含氟废水主要来源于蚀刻和清洗过程,这类废水含有大量的氟化物。
3、由上可知,在芯片生产过程中所产生的废水并不是单纯的一种,不同类别的废水具有不同的特性指标。但是在实践中,为了节省成本和提高处理速度,往往都是将所有废水混合在一起进行处理,这样虽然提高了废水的处理速度,但是将不同特性指标的废水混合后进行处理,无疑增加了废水处理的难度,因为混合
...【技术保护点】
1.芯片生产过程废水处理系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
4.根据权利要求1所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
5.根据权利要求4所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
6.根据权利要求4所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
7.根据权利要求5所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
8.根据权利要求7所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征
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【技术特征摘要】
1.芯片生产过程废水处理系统,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
3.根据权利要求2所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
4.根据权利要求1所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
5.根据权利要求4所述的芯片生产过程废水处理系统,其特征在于:
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【专利技术属性】
技术研发人员:郭光辉,于家凯,
申请(专利权)人:济南晶硕电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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