本发明提供一种不含羟胺的水系清洗剂制备方法及应用，其包含以下组分：醇胺、1

一种电子级NMP提纯的方法，包括以下步骤：将金属离子与有机配体，在水或者有机溶剂中，按一定比例混合均匀；得到的混合物采用水热法、微波法、辐射合成等方法中的一种或几种在一定气氛下、温度、压力下反应一定时间，得到MOF；将所得MOF材料的一...

本发明涉及一种高选择性玻璃蚀刻液及其制备方法。利用非氧化性无机酸、有机酸，含氟盐类，醇类化合物，阴离子氟碳表面活性剂等形成的蚀刻液对金属层上的玻璃纤维布进行选择性蚀刻处理，达到快速减薄玻璃的作用而尽可能不伤害导电层金属。通过调整各组分的...

本专利涉及一种超净高纯柠檬酸及其制备方法，该超净高纯柠檬酸是柠檬酸水溶液，溶液中金属离子含量＜1 ppb，阴离子含量＜10 ppb。本发明通过将纳滤技术与离子交换技术耦合，提高柠檬酸中轻金属离子去除率，延长离子交换树脂寿命，实现超净高纯...

本发明属于电子化学品领域，具体涉及一种含碳膜层的清洗液及清洗方法。所述清洗液组成包括重铬酸盐、酸、氟化物、表面活性剂及超纯水。该清洗液可在有效去除晶圆表面的碳膜、碳氧化硅膜、碳氮化硅膜等含碳膜层的同时，不损伤硅晶圆表面，有利于晶圆的重复...

本发明公开了一种高选择性蚀刻掺杂氧化硅/碳氮化硅的蚀刻液，掺杂氧化硅包括磷硅玻璃、硼磷硅玻璃，主要的活性成分为氢氟酸、氟化铵、活性添加剂以及超纯水。本发明的蚀刻液中氢氟酸起到蚀刻的作用，氟化铵主要发挥缓冲的作用。表面活性剂降低溶液表面张...

本发明提供了一种钛或钛合金的蚀刻液，所述包含占蚀刻液总重量10

本实用新型提供了一种电子级磷酸生产过程热能回收利用的装置；该装置包括五氧化二磷反应塔，其顶部设有上封头夹套和导气管夹套，下部设有环喷枪冷却夹套，底部设下封头夹套，反应塔顶部还连接有汽包，该装置还包括软水槽；软水槽分别对上封头夹套、导气管...

一种用于电子级硝酸生产的离心纯化设备，包括底座，所述底座顶部的右侧固定安装有输出电机，所述底座顶部的左侧固定安装有离心分离机，所述离心分离机的前侧固定连通有出料管，所述离心分离机的内部转动连接有转筒，所述转筒的内部呈空腔，所述转筒内部的...

一种高效安全去除双氧水中阴离子的提纯方法，包括以下步骤：将常温工业级双氧水通过冷却装置冷却至0~10℃，然后以下进上出的方式依次通过阴离子交换树脂柱和混合离子交换树脂柱，控制流速为5~15BV/h，去除双氧水中的阴离子和部分阳离子，得到...

本发明公开了一种不锈钢蚀刻液，该蚀刻液包括氧化剂、无机酸、有机酸、螯合剂。本发明所述不锈钢蚀刻液按照质量含量计，包括三氯化铁20

本发明提供了一种3DNAND结构片的选择性蚀刻液。该蚀刻液包括磷酸、硅烷添加剂1、硅烷添加剂2、其他为水。本发明的蚀刻液对氧化硅膜与氮化硅膜具有蚀刻选择性，能够选择性地去除氮化硅膜，提升蚀刻液寿命且能适应叠层结构的蚀刻。蚀刻。

本发明提供了一种电子级柠檬酸的多级纯化方法，将柠檬酸原液通过树脂柱得到初级柠檬酸纯化液；将初级柠檬酸纯化液减压浓缩得到柠檬酸初级浓缩液；将柠檬酸初级浓缩液采用梯度降温的方式得到柠檬酸晶体的悬浮液；柠檬酸悬浮液离心洗涤得到一级柠檬酸晶体；...

本发明提供了一种高纯度丙三醇的制备方法，所得的高纯度丙三醇适用于IC芯片行业。包括以下步骤，步骤（一）：将甘油原液加入适量纯水，调整其粘稠度，利用阴阳离子交换树脂去除甘油水溶液中的碱式盐等杂质；步骤（二）：对步骤（一）得到的甘油水溶液先...

本发明公开了一种氮化硅/氧化硅的3DNAND结构片的选择性蚀刻液，该蚀刻液包括硅烷偶联剂、磷酸和水。本发明所述的氮化硅蚀刻液可提高氮化硅和氧化硅的蚀刻选择比，选择性去除氮化硅层，延长蚀刻液寿命，适应层叠结构的蚀刻。蚀刻。

本发明涉及一种混酸中氢氟酸或氟离子含量或氟化物或硫酸含量的检测方法。首先配制不同浓度梯度的氟化物标准溶液，然后测试氟化物标准溶液的电位，并绘制标准曲线反映电位与氟离子浓度的关系；然后，称取待测的蚀刻液样品，加水水解处理，进行电位测试，并...

本发明涉及一种检测苯基脲中痕量金属元素的方法，将苯基脲中添加溶剂、添加剂和水使苯基脲完全溶解后，取样进行电感耦合等离子体光谱检测；所述的溶剂为N

本发明提供了一种半导体厂回收硫酸制备高纯硫酸铜的方法，该方法包括：1）在半导体硫酸废液中加入一定量的H2O2，并稀释后与氧化铜进行溶解反应，得到硫酸铜溶液；所述的稀释过程中，使用的水为超纯水；原料中还含有铁、砷、钙、锌等元素；2）采用沉...

本发明提供了一种电子级磷酸生产过程热能回收利用的装置及方法；该装置包括五氧化二磷反应塔，其顶部设有上封头夹套和导气管夹套，下部设有喷枪及环喷枪冷却夹套，底部设下封头夹套，反应塔顶部还连接有汽包，该装置还包括软水槽；软水槽分别对上封头夹套...

本发明涉及一种高蚀刻速率与深宽比的铝蚀刻液制备方法。该铝蚀刻液由三乙醇胺、缓蚀剂、pH调节剂、阴离子型表面活性剂和去离子水组成。其中，三乙醇胺用于提升蚀刻液的粘度，缓蚀剂与蚀刻液粘度协同调节蚀刻液的异向传质，减少铝的侧蚀量，pH调节剂提...