本技术涉及金刚石生产领域，尤其涉及一种基片台调整装置。基片台调整装置包括基座，基座的座体上设置有定位结构和安装结构，基座还包括用于避让MPCVD设备的基片台的避让结构，安装结构设置有至少三个，多个安装结构用于围绕所述基片台间隔布置。通过...

本发明属于化学气相沉积技术领域，具体涉及一种化学气相沉积设备及其控制系统，本发明的化学气相沉积设备控制系统包括上位机和控制系统，所述控制系统包括人机交互接口模块、功能控制模块和输入输出模块，所述控制系统通过人机交互接口模块与上位机通信连...

本技术涉及金刚石制造领域，尤其涉及一种用于MPCVD设备的生长台及基片台。用于MPCVD设备的生长台，生长台包括至少两个分体台，至少两个相邻的分体台之间设置有导热结构，导热垫为自身导热能力可调的可调导热垫或者分体台之间可拆卸设置，以通过...

本技术涉及金刚石合成领域，尤其涉及一种用于MPCVD设备的基片台。用于MPCVD设备的基片台包括冷却台生长台，所述生长台和冷却台之间设置有导热结构，导热结构包括至少一个导热垫，导热垫为自身导热能力可调的可调导热垫或者所述生长台可拆卸设置...

本实用新型涉及沉积金刚石领域，尤其涉及一种石英窗口及MPCVD设备。一种MPCVD设备的石英窗口，包括石英环和与石英环的轴向两端分别相连的第一连接法兰和第二连接法兰，第一连接法兰上设置有第一连接孔，第二连接法兰上设置有用于安装第二紧固件...

本发明属于化学气相沉淀技术的单晶生长领域，特别是涉及一种单晶金刚石的生产方法。为了解决现有技术中由于将单晶金刚石单片切割而导致切割时浪费时间、且在籽晶生长过程中不同籽晶间的温差较大的技术问题，本发明提出了一种单晶金刚石的生产方法，包括使m

本发明涉及金刚石制造领域，尤其涉及一种沉积台及MPCVD设备。沉积台，包括位于顶部的用于放置多个籽晶或者单个籽晶的放置台面，沉积台上设置有用于通入抑制籽晶生长气体的气道，气道具有高于放置台面且用于朝向多个籽晶中的边缘籽晶设置或者是朝向单...

本实用新型涉及检测装置领域，尤其涉及一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置。一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，包括密封盖，密封盖包括连杆和盖体，连杆具有伸出段，伸出段上通过外螺纹连接有锁紧螺母，还包括弹性件，弹性件用于设置...

本发明涉及化学气相沉积技术领域，具体涉及一种沉积台及CVD设备。CVD设备包括沉积室，沉积室内设置有沉积台，工作时，沉积台的正上方生成有等离子体球，沉积台包括圆台式基座，基座的上端面的中部区域为用于摆放籽晶的基础作业面，基座的至少部分边...

本实用新型提供了一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备，属于微波等离子体化学气相沉积技术领域。测温支架包括底座，底座上设有用于固定在窗口法兰或/和密封法兰上的固定结构；测温支架还包括可转动的安装在底座上的调节转台，底座上设...

本实用新型提供了一种高气密性防漏波谐振腔及MPCVD设备，属于微波等离子体化学气相沉积技术领域。高气密性防漏波谐振腔包括腔本体和底板，腔本体和底板的对接面之间设有第一密封圈，腔本体和底板的对接面之间还设有用于阻止微波泄漏的第一电磁屏蔽件...

本实用新型涉及晶体制造领域，尤其涉及一种籽晶摆放模具。一种籽晶摆放模具，包括用于放置在沉积台上且呈板状的模具主体，模具主体上设置有多个用于放置籽晶且与籽晶形状匹配的放置孔，放置孔为通孔，以使籽晶放入放置孔后支撑在沉积台上，多个放置孔之间...

本实用新型涉及一种具有实时监控功能的MPCVD设备，具有实时监控功能的MPCVD设备包括反应腔室和采集模块，反应腔室包括顶盖和底座，反应腔室上设有观察窗，采集模块包括采集装置和安装支架，顶盖上表面的外边缘处设有沿圆周方向分布的至少两个法...

本实用新型具体提供一种金刚石单晶片用激光处理装置，该金刚石单晶片用激光处理装置包括底座，所述底座上设有安装架和用于放置待处理金刚石单晶片的旋转工作台，所述旋转工作台上设有单晶片固定结构，所述单晶片固定结构用于将待处理的金刚石单晶片固定在...

本发明涉及MPCVD设备及其天线张紧装置，MPCVD设备包括天线张紧装置，天线张紧装置包括固定套、转动套、张紧弹簧，张紧弹簧的一端顶压在转动套上，另一端用于顶压在MPCVD设备的转换模块上，固定套包括主体套和抱箍，转动套螺纹连接在主体套...

本实用新型提供一种MPCVD设备用观察窗及MPCVD设备，该MPCVD设备包括设备腔体，设备腔体上安装有观察窗，该观察窗包括观察镜片和外螺纹管，外螺纹管的露出端处设有环形台，环形台的上端面处设有环形台阶，环形台阶包括上台阶平面和用于支撑...

本实用新型涉及一种多工位可调角度的加工工装。包括基座、安装台、顶升螺栓、压紧螺栓和压簧，安装台用于固定安装待加工工件，基座与安装台铰接在一起，顶升螺栓螺纹穿装于安装台上的螺纹穿孔并支撑在基座上表面，通过旋拧顶升螺栓使安装台相对于基座转动...

本实用新型涉及金刚石单晶片抛光技术领域，具体涉及一种金刚石单晶片抛光装置。金刚石单晶片抛光装置包括工作台，工作台上转动装配有砂轮，砂轮的转动轴线沿竖直方向延伸，工作台上设有推力机构，推力机构具有推杆，推杆的下端连接有固定座，固定座的下表...

本实用新型涉及研磨抛光技术领域，本实用新型的目的在于提供一种金刚石研磨抛光机，以解决现有技术中的研磨抛光机容易出现抛光液在砂轮上分布不均而造成材料的抛光加工质量较差、效率较低的技术问题。金刚石研磨抛光机包括加工平台和转动装配在加工平台上...

本实用新型涉及用于磨削或抛光的装置的技术领域，特别是涉及一种可定量加注抛光液的金刚石抛光设备。可定量加注抛光液的金刚石抛光设备包括抛光平台、砂轮、压力机构和抛光液添加装置，砂轮转动安装在抛光平台上，压力机构将金刚石单晶片压紧在砂轮上，抛...