一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备制造技术

本实用新型专利技术提供了一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备，属于微波等离子体化学气相沉积技术领域。测温支架包括底座，底座上设有用于固定在窗口法兰或/和密封法兰上的固定结构；测温支架还包括可转动的安装在底座上的调节转台，底座上设有改变调节转台角度的旋转调节结构；测温支架还包括用于安装测温仪的安装板以及连接在安装板和调节转台之间的连接臂，连接臂与安装板之间或/和连接臂与调节转台之间为铰接且铰接角度可调。本实用新型专利技术通过固定在窗口法兰或/和密封法兰上的测温支架实现测温仪的安装以及不同测温角度的调节，取代人工手持测温仪的方式，减轻了操作人员的劳动强度，省时省力，且可以减小测温误差，测量可靠性更高。测量可靠性更高。测量可靠性更高。

【技术实现步骤摘要】
一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备


[0001]本技术涉及一种测温支架及使用该测温支架的谐振腔和MPCVD设备，属于微波等离子体化学气相沉积


技术介绍

[0002]微波等离子体化学气相沉积(Microwave plasma chemical vapor deposition，简称MPCVD)法因其放电稳定，便于控制且无电极污染等优势成为制备高品质单晶金刚石的首选方法。MPCVD设备包括谐振腔，如图1所示为现有技术中的一种谐振腔，该谐振腔包括腔体1、设置在腔体1底部的底板2、连接在腔体1顶部的顶盖3，顶盖3上设置有观察窗口3
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1，观察窗口3
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1处设有窗口法兰3
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2，窗口法兰3
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2通过紧固件连接有密封法兰4。此外，腔体1内还设置有沉积平台5，沉积平台5用于放置单晶金刚石6。
[0003]众所周知，MPCVD法合成金刚石的质量与多种因素有关，其中单晶金刚石生长过程中的温度是影响其生长质量的重要因素之一，因此在使用MPCVD法制备单晶金刚本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种测温支架，其特征在于，包括底座(7)，底座(7)上设置有用于将底座(7)固定在谐振腔的窗口法兰(3
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2)或/和密封法兰(4)上的固定结构；测温支架还包括可转动的安装在底座(7)上的调节转台(8)，底座(7)上设置有供调节转台(8)旋转以改变调节转台(8)角度的旋转调节结构；测温支架还包括用于安装测温仪(12)的安装板(11)以及连接在安装板(11)和调节转台(8)之间的连接臂(10)，连接臂(10)与安装板(11)之间或/和连接臂(10)与调节转台(8)之间为铰接且铰接角度可调。2.根据权利要求1所述的测温支架，其特征在于，调节转台(8)套设在底座(7)的外部，底座(7)的内孔包括与底座(7)同轴的第一螺纹孔，所述旋转调节结构为与底座(7)内孔螺纹配合连接的压紧套(9)，压紧套(9)的上端设置有向外延伸且用于压紧调节转台(8)的外翻沿(9
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1)。3.根据权利要求2所述的测温支架，其特征在于，调节转台(8)的上端设置有向内延伸且与底座(7)上端面接触的内翻沿(8
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1)，所述外翻沿(9
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1)用于压紧内翻沿(8
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1)。4.根据权利要求2所述的测温支架，其特征在于，外翻沿(9
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1)的外周面上设置有滚花。5.根据权利要求1～4任意一项所述的测温支架，其特征在于，底座(7)用于套设在窗口法兰(3
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2)或/和密封法兰(4)的外部，所述固定结构为设置在底座(7)侧壁上的第二螺纹孔(7
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2)，第二螺纹孔(7
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【专利技术属性】
技术研发人员：崔名扬，任丽，孙胜浩，李宏利，
申请(专利权)人：河南天璇半导体科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：