一种具有实时监控功能的MPCVD设备制造技术

本实用新型专利技术涉及一种具有实时监控功能的MPCVD设备，具有实时监控功能的MPCVD设备包括反应腔室和采集模块，反应腔室包括顶盖和底座，反应腔室上设有观察窗，采集模块包括采集装置和安装支架，顶盖上表面的外边缘处设有沿圆周方向分布的至少两个法兰孔，底座上设有连接孔，安装支架上设有固定孔，固定孔的数量少于法兰孔的数量，各法兰孔中具有用于与固定孔对应的共用法兰孔，共用紧固件穿设在固定孔、共用法兰孔、连接孔中以将安装支架、顶盖、底座固定在一起，观察窗有至少两个，观察窗沿圆周方向分布且分布位置与共用法兰孔的位置相互对应，观察窗的窗口与采集装置相对，可根据不同需要，将采集装置安装在顶盖圆周方向上的合适位置，使用灵活。使用灵活。使用灵活。

【技术实现步骤摘要】
一种具有实时监控功能的MPCVD设备


[0001]本技术涉及MPCVD设备
，具体涉及一种具有实时监控功能的MPCVD设备。

技术介绍

[0002]微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)法因其放电稳定，便于控制且无电极污染等优势成为制备高品质单晶金刚石的首选方法。在MPCVD设备正常生产过程中，为了及时处理异常，需要掌握单晶金刚石的生长情况，一般是通过温度采集和图像采集来对金刚石的生长过程进行监控。传统的监控方式是生产人员每隔一段时间观察并用手持测温装置或手持拍照设备记录一次单晶金刚石的生长情况，但是，随着MPCVD设备的增多这大大增加了员工工作量和企业的人力成本。
[0003]现有技术中，有通过将监控设备固定在MPCVD设备上进行在线监控的方式，如申请公布号为CN110760816A的中国专利技术专利申请中公开的金刚石在线检测生长装置，其包括反应腔室、图像采集模块，图像采集模块包括光学相机测量装置和转轴机构(安装支架)，光学相机测量装置设置在反应腔室的外部，反应腔室呈圆柱状，包括顶盖和底座，光学相机测量装置通过转轴机构与反应腔室本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有实时监控功能的MPCVD设备，包括反应腔室和采集模块，反应腔室包括顶盖(1)和底座(2)，顶盖(1)盖设在底座(2)上以围成反应腔室的内腔，反应腔室上设有观察窗(11)，采集模块包括采集装置和安装支架，采集装置安装在安装支架上，其特征是，顶盖(1)包括法兰盘，顶盖(1)上表面的外边缘处设有沿圆周方向分布的至少两个法兰孔(12)，底座(2)的上端面设有与法兰孔(12)一一对应的连接孔，以供顶盖(1)与底座(2)通过紧固件进行固定连接，安装支架上设有固定孔(33)，固定孔(33)的数量少于法兰孔(12)的数量，各法兰孔(12)中具有用于与固定孔(33)对应的共用法兰孔，各紧固件中具有共用紧固件，共用紧固件穿设在固定孔(33)、共用法兰孔、连接孔中以将安装支架、顶盖(1)、底座(2)固定在一起，观察窗(11)有至少两个且窗口朝上，观察窗(11)沿圆周方向分布且分布位置与所述共用法兰孔的位置相互对应，而使观察窗(11)的窗口能够与采集装置相对。2.根据权利要求1所述的具有实时监控功能的MPCVD设备，其特征是，安装支架上设有限位弧面(31)，限位弧面(31)用于与顶盖(1)的外周面适配贴合。3.根据权利要求2所述的具有实时监控功能的MPCVD设备，其特征是，限位弧面(31)上设有凸耳(32)，所述固定孔(33)设置在凸耳(32)上，顶盖(1)上设有凸耳安装槽，凸耳安装槽的槽口朝上且具有处于顶盖(1)外周面上的侧开口，所述法兰孔(12)设置在凸耳安装槽的槽底，凸耳安装槽供凸耳(32)伸入。4.根据权利要求1或2或3所述的具有实时监控功能的MPCVD设备，其特征是，顶盖(1)的上表面为球面结构，观察窗(11)的窗口倾斜朝上，采集装置处于顶盖(1)的外围且处于观察窗(11)的上方。5.根据权利要求1或2或3所述的具有实时监...

【专利技术属性】
技术研发人员：崔名扬，李宏利，方海江，任丽，郑逢达，
申请(专利权)人：河南天璇半导体科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：