本实用新型专利技术涉及检测装置领域，尤其涉及一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置。一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，包括密封盖，密封盖包括连杆和盖体，连杆具有伸出段，伸出段上通过外螺纹连接有锁紧螺母，还包括弹性件，弹性件用于设置在锁紧螺母和底板之间，以通过压缩变形对连杆施加向外的拉力。在进行检测时不必将转换模块等部件安装即可进行检测，即不必将整个谐振腔组装完成即可进行检测，若此时发现谐振腔存在密封故障之后可以立即进行返修，节约时间。进而解决了现有技术中MPCVD设备谐振腔在所有部件完成组装后才进行真空检测，导致若谐振腔发生泄漏，需要拆卸后返工，进而影响加工检验效率的问题。进而影响加工检验效率的问题。进而影响加工检验效率的问题。
【技术实现步骤摘要】
一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置
[0001]本技术涉及检测装置领域，尤其涉及一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置。
技术介绍
[0002]微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）设备是制造金刚石的重要设备，其中微波发生器产生的微波用波导管传输至反应器，并向反应器中通入不同气体构成的混合气体，高强度微波能激发分解基片上方的含碳气体形成活性含碳基团和原子态氢，并形成等离子体，从而在基片上沉积得到金刚石薄膜。
[0003]如授权公告号为CN216155963U的中国技术专利公开了一种微波等离子腔体双密封炉门结构，其中生长腔室（即谐振腔）和密封腔室通过水冷基台和石英环分隔开且相互独立密封，其中水冷基台和石英环之间、石英环和底板之间均进行密封连接。生长腔室还包括水冷腔壁（即腔体）和炉门（即底板），生长腔室在炉门上设置有排气口，通过真空泵可以制造真空环境。在炉门上还设置有穿孔用于形成密封腔室。当使用时，将螺纹钼台放置在水冷基台上，金刚石可以在螺纹钼台上通过反应生成。
[0004]而MPCVD设备腔体的生长腔室的密封性是评价设备性能参数的重要指标之一，在设备生产制造过程中必须严格控制谐振腔体密封部位的加工质量，如石英环与底板之间的密封、腔体与底板之间的密封，有的谐振腔中腔体上端还具有开口，此时腔体与上方的顶盖之间的密封也需要进行考察。若在反应过程中出现气体泄漏，则会导致金刚石晶体遭受污染。传统的设备谐振腔真空气密性检测方法为设备生产并组装完成后进行真空气密性检测，若此时发现谐振腔发生气体泄漏，则需要将已装配好的设备进行拆卸，再将有问题的腔体进行返修，这种方法费时费力，影响谐振腔加工检验的效率。
技术实现思路
[0005]本技术的目的在于提供一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，用于解决现有技术中MPCVD设备谐振腔在所有部件完成组装后才进行真空检测，导致若谐振腔发生泄漏，需要拆卸后返工，进而影响加工检验效率的问题。
[0006]为实现上述目的，本技术中的便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置采用如下技术方案：
[0007]一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，包括密封盖，密封盖包括连杆和盖体，盖体用于设置在谐振腔的腔体内，连杆具有用于穿过谐振腔的底板上的中心孔并伸出到底板外侧的伸出段，伸出段上通过外螺纹连接有锁紧螺母，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的弹性件，弹性件用于设置在锁紧螺母和底板之间，以通过压缩变形对连杆施加向外的拉力，进而使盖体压紧底板上的密封件。
[0008]上述技术方案的有益效果在于：本技术开拓性地提出一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，通过设置包括连杆和盖体的密封盖，盖体用于设置在谐振腔的腔体
内，进而模拟实际产品中水冷基台和石英环在谐振腔内的设置；连杆具有用于穿过谐振腔的底板上的中心孔并伸出到底板外侧的伸出段，进而模拟天线在谐振腔中的连接；伸出段上通过外螺纹连接有锁紧螺母，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的弹性件，弹性件用于设置在锁紧螺母和底板之间，以通过压缩变形对连杆施加向外的拉力，进而使盖体压紧底板上的密封件，模拟实际产品中天线通过弹簧的弹力拉动水冷基台进行密封的连接，通过调整锁紧螺母可以对弹性件的压缩量进行控制，进而定量控制盖体对底板上的密封件的压力。在进行检测时不必将转换模块等部件安装即可进行检测，即不必将整个谐振腔组装完成即可进行检测，若此时发现谐振腔存在密封故障之后可以立即进行返修，节约时间。通过便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置、腔体和底板的设置能够单独对谐振腔进行密封性检测，且贴近实际使用状况，测试效果真实可靠，进而解决了现有技术中MPCVD设备谐振腔在所有部件完成组装后才进行真空检测，导致若谐振腔发生泄漏，需要拆卸后返工，进而影响加工检验效率的问题。
[0009]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括用于安装在所述中心孔处的导向环，连杆穿过导向环且与导向环导向配合。
[0010]上述技术方案的有益效果在于：对连杆进行限位，避免密封盖安装过程中位置跑偏和晃动，且对连杆和底板的表面进行保护，避免产生磨损。
[0011]进一步地，所述导向环呈阶梯状，包括用于安装在所述中心孔的小径孔内的环本体以及用于安装在所述中心孔的大径孔内的法兰。
[0012]上述技术方案的有益效果在于：贴合底板上的中心孔，且避免在弹簧的弹力下导向环掉入谐振腔内，还能增大受力面积。
[0013]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的压盖，压盖位于导向环和弹性件之间。
[0014]上述技术方案的有益效果在于：在导向环和弹性件之间设置压盖便于将弹簧的力均匀传递到导向环上。
[0015]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的第一耐磨环和第二耐磨环，所述弹性件顶装在第一耐磨环和第二耐磨环之间，压盖上设置有用于容纳第一耐磨环的第一容纳槽，锁紧螺母上设置有用于容纳第二耐磨环的第二容纳槽。
[0016]上述技术方案的有益效果在于：通过设置两个耐磨环与弹簧的两端分别结合，避免弹簧抵接处划伤零部件的表面；在压盖上和锁紧螺母上分别设置两个容纳槽对两个耐磨环进行固定，避免发生径向窜动。
[0017]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的第三耐磨环，第三耐磨环夹设在压盖和导向环之间。
[0018]上述技术方案的有益效果在于：避免压盖和导向环之间发生磨损。
[0019]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的第一耐磨环和第二耐磨环，所述弹性件顶装在第一耐磨环和第二耐磨环之间。
[0020]上述技术方案的有益效果在于：通过设置两个耐磨环与弹簧的两端分别结合，避免弹簧抵接处划伤零部件的表面。
[0021]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的第一耐磨环和第二耐磨环，所述弹性件顶装在第一耐磨环和第二耐磨环之间，便于MPCVD设备谐
振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的压盖，压盖上设置有用于容纳第一耐磨环的第一容纳槽，锁紧螺母上设置有用于容纳第二耐磨环的第二容纳槽。
[0022]上述技术方案的有益效果在于：通过设置两个耐磨环与弹簧的两端分别结合，避免弹簧抵接处划伤零部件的表面；在压盖上和锁紧螺母上分别设置两个容纳槽对两个耐磨环进行固定，避免发生径向窜动。
[0023]进一步地，所述伸出段的端部设置有用于与扳手止转配合的止转面。
[0024]上述技术方案的有益效果在于：控制伸出段止转之后便于拧动锁紧螺母。
[0025]进一步地，便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括用于连接在腔体顶部开口处的顶盖。
[0026]上述技术方案的有益效果在于：具有更强的兼容性，对一些谐振腔中腔体远离底板的一端开设本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，其特征在于：包括密封盖，密封盖包括连杆（11）和盖体（12），盖体（12）用于设置在谐振腔的腔体（7）内，连杆（11）具有用于穿过谐振腔的底板（8）上的中心孔并伸出到底板（8）外侧的伸出段，伸出段上通过外螺纹连接有锁紧螺母（13），便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的弹性件，弹性件用于设置在锁紧螺母（13）和底板（8）之间，以通过压缩变形对连杆（11）施加向外的拉力，进而使盖体（12）压紧底板（8）上的密封件。2.根据权利要求1所述的便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，其特征在于：便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括用于安装在所述中心孔处的导向环（3），连杆（11）穿过导向环（3）且与导向环（3）导向配合。3.根据权利要求2所述的便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，其特征在于：所述导向环（3）呈阶梯状，包括用于安装在所述中心孔的小径孔内的环本体以及用于安装在所述中心孔的大径孔内的法兰。4.根据权利要求2或3所述的便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，其特征在于：便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的压盖（4），压盖（4）位于导向环（3）和弹性件之间。5.根据权利要求4所述的便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置，其特征在于：便于MPCVD设备谐振腔真空检漏的装置还包括套设在伸出段上的第一耐磨环（51）和第二耐磨环（52），所述弹性件顶装在第一耐磨环（51）和第二耐磨环（52）之间，压盖（4）上设置有用于容纳第一耐磨环（51）的第一容...
【专利技术属性】
技术研发人员：崔名扬，任丽，孙胜浩，李宏利，
申请(专利权)人：河南天璇半导体科技有限责任公司，
类型：新型
国别省市：
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