本发明公开了一种低泡型非离子Gemini表面活性剂及其制备方法，包括如下步骤：将二叔戊基氢醌溶于乙腈中，加入到反应容器中；在反应容器中加入催化剂，并通过惰性气体置换反应容器中的空气；将反应容器升温，再通入环氧乙烷进行反应；反应后，将反应...

本发明公开了低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用，包括以下组分：氢氟酸1～

本发明公开了一种高粘度高纯液体的自动连续精准添加装置，至少包括：加料机构，包括进料管、加料管和出料管；气压供给机构，包括排气管、盘管和气体压出组件；所述排气管连接于所述加料管；所述盘管和所述气体压出组件均设置于所述排气管内，所述盘管的一...

本实用新型公开了一种高净自清洁深桶取样装置，包括取样管、收放控制模块，所述取样管缠绕在所述收放控制模块上，所述收放控制模块外部设有密封的外壳，所述外壳固定有清洗模块，所述清洗模块末端连接有干燥模块，所述干燥模块末端连接有密封接头，所述取...

本实用新型公开了一种高效连续的电子级氨水制备系统，包括液氨罐，所述液氨罐通过管道连接缓冲罐，所述缓冲罐的另一端通过管道连接水洗单元，所述水洗单元的另一端通过管道连接吸收罐，所述水洗单元靠近所述缓冲罐的一端还连接有废液处理单元，所述废液处...

本发明公开了一种低动态表面张力的高精细抗蚀剂剥离液组合物及其制备方法，包括2～8%重量份有机胺，25～70%重量份质子性有机溶剂，25～70%重量份非质子性有机溶剂，0.3～3%重量份添加剂，0.1～0.5%重量份表面活性剂；上述各组分...

本发明是一种IGZO薄膜蚀刻液，由如下重量百分比计的原料制成：2～5wt%的草酸、0.1～1wt%的蚀刻速率稳定剂、1～3wt%的水分挥发抑制剂、0.01-1wt%的表面活性剂、余量为水，本发明中蚀刻液成分简单，工艺简单，性质稳定，容易...

本发明涉及一种芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液用非离子表面活性剂的提纯方法及其显影液产品，所述芯片集成电路四甲基氢氧化铵显影液用非离子表面活性剂的提纯方法包括以下步骤：非离子型表面活性剂的溶解、杂质析出、杂质分离、分析杂质离子浓度、加纯...

本实用新型涉及一种适用于高纯电子化学品生产的模组式电解槽框，所述模组式电解槽框由等高的自锁紧模块可拆卸组合而成，所述自锁紧模块与电解液体的接触面均涂覆有膨胀密封材料。本实用新型的电解槽框可单片拆装，无需整体压紧密封且密封性好，电解过程中...

本实用新型涉及一种实验室用模块化喷淋式湿电子化学品评价设备，包括配合设有控制器的处理装置、多腔体装置、运送装置；处理装置包括设于多腔体装置顶部的若干喷淋装置和若干吹扫装置；多腔体装置包括顺次连接的第一模块、第三模块、若干第二模块、第三模...

本实用新型是一种从剥离液废液中回收有机溶剂和光刻胶的装置，包括原料罐，所述的原料罐通过管道依次连接有第一过滤器、吸附装置、多级精馏装置、多级过滤装置和污水处理系统，所述的多级过滤装置与第一过滤器连接，解决目前剥离液废液回收过程中设备投入...

本发明涉及一种碱性废水中季铵盐阳离子含量的精确检测方法，将需检测的水样置于锥形瓶中；配制季铵盐阳离子检测试剂；向锥形瓶中滴加一定量的季铵盐阳离子检测试剂并摇匀；以滴定液滴定制得的液体,记录滴定液用量，计算出水样中季铵盐阳离子。本发明只需...

本发明涉及一种TMAH系各向异性硅蚀刻液及其制备方法，所述蚀刻液包括18～25％重量份电子级四甲基氢氧化铵，3～10％重量份电子级四乙基氢氧化铵，1.3～2.8％重量份添加剂，0.01～0.2％重量份表面活性剂和剩余组分高纯水，上述各组...

本发明涉及一种适用于光刻工艺铜制程的无氟酸性刻蚀液及配制方法，其特征在于，包括1‑20％重量份的无机酸，5‑25％重量份的过氧化氢，0.1‑5％重量份的环状胺类化合物，0.1‑10％重量份的氨基酸类化合物，1‑5％重量份的无机磷酸盐类及...

本发明涉及一种玻璃减薄行业含氟玻璃减薄废液在线回收再利用的方法：(1)分析含氟玻璃减薄废液的各种酸组分含量；(2)在不断搅拌下，按摩尔计量比将有机酸碱金属盐添加到含氟玻璃减薄废液中进行混合；(3)待沉淀沉降后，从底部分离出沉淀物，经过清...

本实用新型涉及一种超重力精馏回收剥离液中有机组分的系统，所述系统包括原料罐，吸附槽、第一压力泵、第一级超重力精馏机、第一冷凝器、第一冷凝罐、第二压力泵、第二级超重力精馏机、沉降槽、过滤器、第三压力泵、第二冷凝器、第二冷凝罐、第四压力泵，...