低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用技术

本发明专利技术公开了低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用，包括以下组分：氢氟酸1～

【技术实现步骤摘要】
低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用


[0001]本专利技术涉及一种清洗液
，尤其涉及一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用
。

技术介绍

[0002]随着智能化和数字化时代的到来，柔性显示和超高清显示等新型显示技术在智能电视
、
智慧医疗
、
智慧办公
、
智慧城市等应用场景中有大量需求
。
新型显示技术的发展要求显示面板制造朝着高精细化的方向迭代升级，在高精细化显示面板制造工艺过程中所需光刻次数增加，膜层结构复杂多变，对图形线宽
、
膜层厚度和孔洞形貌等技术参数的精度控制更为严格，这对相应的湿电子化学品性能提出了更高的要求
。
[0003]随着显示面板制造的高精细化趋势，要求清洗液对绝缘层具有良好的浸润性，需要清洗液有较低的动态表面张力
。
在绝缘层清洗时，清洗液不能对绝缘层下层金属膜层产生不良腐蚀作用
。
目前绝缘层缓冲清洗液在使用中多采用喷淋模式，在喷淋时清洗液中产生的小气泡不利于清洗液与绝缘层的充分接触，喷淋应用过程中清洗液主要组分会进行挥发，随着使用时间增加需要进行挥发组分进行补给或直接进行新液置换，有效组成物质挥发越量大，直接会降低清洗液的使用寿命，增加用户的使用成本
。
因此，需要开发一种用于绝缘层清洗，具有动态表面张力低，起泡性低，消泡快，不腐蚀下层金属膜层，使用寿命长，使用成本低等优点的低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液
。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的在于提供一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液及其制备方法与应用，实现了动态表面张力低，起泡性低，消泡快，不腐蚀下层金属膜层，使用寿命长，使用成本低等优点
。
[0005]本专利技术采用的技术方案如下：
[0006]一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液，包括以下组分：
[0007][0008]其余组分为水，所有组分按重量百分比计总和为
100
％
。
[0009]作为优选，所述腐蚀抑制剂选自3‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
1,2,4
‑
三唑
、5
‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
1,2,4
‑
三唑
、5
‑
甲基
‑3‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
1,2,4
‑
三唑
、4
‑
(
三氟甲基
)
咪唑
、2
‑
(
三氟甲基
)
苯并咪唑
、5
‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
苯并三唑中的至少一种
。
[0010]作为优选，所述非离子表面活性剂选自
C12
‑
C16
全氟或多氟烷基多元醇
。
[0011]作为优选，所述非离子表面活性剂选自
1,2,3,4
‑
四羟基全氟十二碳四醇
、1,2,3,4,5,6
‑
六羟基全氟十四碳六醇
、1,1,1
‑
三
(
三氟甲基
)
‑
8,9,10
‑
三羟基癸三醇
、1,1,1,2,2
‑
五
(
三氟甲基
)
‑
4,5,6,7
‑
四羟乙基庚四醇中的至少一种
。
[0012]本专利技术还提供一种上述任一项所述的低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液的制备方法，所述制备方法至少包括以下步骤：在混配釜中按比例依次加入氟化铵
、
氟化氢铵
、
水
、
氢氟酸
、
腐蚀抑制剂和非离子表面活性剂混合，搅拌，循环，过滤，得到低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液
。
[0013]作为优选，所述混配釜混合的过程中温度控制在
40℃
以下，并不断的搅拌
。
[0014]作为优选，所述循环时间为
2h
以上
。
[0015]本专利技术还提供一种根据上述任一项所述的低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液或根据上述任一项所述的制备方法制备得到的低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液在绝缘层清洗中的应用
。
[0016]本专利技术还提供一种绝缘层的清洗方法，所述清洗方法至少包括以下步骤：将低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液对绝缘层进行清洗，清洗结束后将绝缘层用高纯水进行冲洗并用高纯氮气吹干，得到清洗后的绝缘层；
[0017]所述低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液选自如上述任一项所述的低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液或根据上述任一项所述的制备方法制备得到的低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液中的任一种
。
[0018]作为优选，所述绝缘层包括高精细氧化硅绝缘层
、
高精细氮化硅绝缘层或高精细氧化硅
/
氮化硅绝缘层
。
[0019]本专利技术的有益效果至少包括：
[0020]1、
本专利技术选用1～
10
％的氢氟酸，
15
～
30
％的氟化铵和1～
10
％的氟化氢铵作为绝缘层缓冲清洗液的主要组成物质，选用的氢氟酸，氟化铵和氟化氢铵组成对线宽窄，图案精细的绝缘层有良好的清洗效果，清洗后无明显残留，绝缘层性能满足制程应用要求
。
[0021]2、
本专利技术选用的腐蚀抑制剂在铝
、
钼
、
铜等金属膜层表面形成稳定的吸附，能有效的抑制氢氟酸等酸性组分向金属膜层表面扩散腐蚀
。
腐蚀抑制剂中的含氟基团与清洗液中的氟化铵和氟化氢铵相互作用，控制清洗液中氟化铵和氟化氢铵缓冲生成氢氟酸的能力，从而抑制清洗液对金属膜层的腐蚀
。
腐蚀抑制剂含有含氟基团，能更好的溶解于含氟溶液中
。
本专利技术选用的腐蚀抑制剂溶解性好，在清洗液使用中对绝缘层下层金属膜层有优异的保护作用，不会对绝缘层下层金属膜层产生腐蚀，从而提高高精细化显示面板的制造良率
。
[0022]3、
本专利技术选用的非离子表面活性剂，相比于磺酸盐和羧酸盐等阴离子表面活性剂，非离子表面活性剂在水中不电离，不会在清洗液中引入阴离子杂质
。
[0023]4、
高精细化面板的线宽尺寸控制精细，由于清洗液与绝缘层之间存在一定的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.
一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液，其特征在于，包括以下组分：其余组分为水，所有组分按重量百分比计总和为
100
％
。2.
根据权利要求1所述的一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液，其特征在于，所述腐蚀抑制剂选自3‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
1,2,4
‑
三唑
、5
‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
1,2,4
‑
三唑
、5
‑
甲基
‑3‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
1,2,4
‑
三唑
、4
‑
(
三氟甲基
)
咪唑
、2
‑
(
三氟甲基
)
苯并咪唑
、5
‑
(
三氟甲基
)
‑
1H
‑
苯并三唑中的至少一种
。3.
根据权利要求1所述的一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液，其特征在于，所述非离子表面活性剂选自
C12
‑
C16
全氟或多氟烷基多元醇
。4.
根据权利要求1所述的一种低动态表面张力的绝缘层缓冲清洗液，其特征在于，所述非离子表面活性剂选自
1,2,3,4
‑
四羟基全氟十二碳四醇
、1,2,3,4,5,6
‑
六羟基全氟十四碳六醇
、1,1,1
‑
三
(
三氟甲...

【专利技术属性】
技术研发人员：高立江，邢攸美，蒋哲男，方伟华，尹云舰，徐钉，徐一航，倪芸岚，
申请(专利权)人：杭州格林达电子材料股份有限公司，
类型：发明
国别省市：