富士胶片株式会社专利技术

富士胶片株式会社共有12395项专利

  • 本发明提供多层电路板,其特征在于,在绝缘基板(10)上依次具有任意形成的第1导电性图案(12)、绝缘材料层(16A)和通过在该绝缘材料层上形成的相应于接枝聚合物图案(18)的区域以图案状施以导电性材料而形成的第2导电性图案(20),并且...
  • 一种对齐部分校准系统,所述系统使用在处理细长、柔性记录介质的装置中,所述系统具有对齐部分,校准部件和相对移动机构。对齐部分被布置从而在当绘图单元执行绘图并同时柔性记录介质在给定传送方向上在给送路径上被传送时,能够在执行对齐并且被设定在传...
  • 一种制造设备(20)具有:卷出机构(32);处理机构(36);标签粘结机构(40);贮存机构(42);剥离机构(44);基片馈送机构(45);和结合机构(46)。用于直接探测感光连接板(22)的探测机构(47)被设置在结合机构(46)的...
  • 作为在载体上形成网状的金属银部分的导电性银薄膜的一种透光性电磁波屏蔽膜,其形成网状的上述金属银部分,线条宽度在18μm以下,开口率在85%以上,含有80~100wt%的Ag,而且其表面电阻值在5Ω/sq以下。此透光性电磁波屏蔽膜在具有高...
  • 一种容器单元包括盖和单元主体,支持架是形成在单元主体下部的凹入部分,盖暴露在照相机主体的下表面。盖可在锁定位置和释放位置之间滑动,在锁定位置,盖与支持架的第一内表面相邻,在释放位置,盖与支持架的与第一内表面相对的第二内表面相邻。盖的端部...
  • 一种导电性图案材料的制造方法,其特征在于该方法具有按照一定的图案,在基材上直接结合具有与导电性粒子相互作用的官能基和交联性官能基的接枝聚合物的工序;在该接枝聚合物中所具有的与导电性粒子相互作用的官能基上吸附导电性粒子,形成导电性粒子吸附...
  • 本发明提供一种曝光装置,在将由感光层和支承体叠层形成的感光薄膜的所述感光层侧粘附在衬底上构成的板状叠层体中的感光层,将规定的图案曝光时,尽量减小支承体被剥离后的板状叠层体中的感光层与氧之间的反应。为了实现这个目的,在曝光装置(1)内设置...
  • 在相邻陶瓷基板通过线性划痕被分开时,跨划痕形成的通孔和带有底面的孔也被分开。通过沿划痕分开这种陶瓷总基板,可能获得许多陶瓷基板,在这些陶瓷基板的端面中形成凹陷部分。与在陶瓷基板的周围形成废弃基板的分开情形相比,由一张陶瓷总基板分开的陶瓷...
  • 一种具有良好的耐热性和良好的光学性能的具有式(1)的重复单元的光学薄膜,其中X代表含有单环芳香环或稠合多环芳香环的二价连接基团;Y代表亚甲基、亚乙基或亚乙烯基;并且X由式(2)表示,其中R↑[1]和R↑[2]各自代表卤原子、烷基、烷氧基...
  • 为了能够使图案的线宽稳定地制造印制电路板,叠层装置(2)向基板(K)叠层抗蚀层,并以携带表示叠层日期/时间的信息的光对基板(K)进行曝光。在曝光装置(3)进行曝光之前读取叠层日期/时间信息,并判断在进行叠层后到当前为止的经过时间是否在规...
  • 一种图像记录方法和图像记录设备,沿基板(F)被移动的方向和与该方向垂直的方向将矩形图记录在基板(F)上。测量矩形图的线宽,且建立用于获取光量的掩模数据以校正线宽变化。当曝光头(24a-24j)被激发以便通过曝光将图像记录在基板(F)上时...
  • 本发明提供一种可以以形成阻焊剂(solder  resist)之类的永久图案为目的,通过使用高透明的物质作为支撑体,形成得到的抗蚀剂(resist)面形状良好且更高精细的图案的图案形成材料以及具备该图案形成材料的图案形成装置及使用该图案...
  • 一种用于将屏蔽壳连接到电路板的结构。电子元件被安装在该电路板的一个表面处。屏蔽壳用于盖住所述电子元件和阻挡电磁波。该连接结构包括形成为从该屏蔽壳突出的柱脚部分和形成在电路板中的孔,柱脚部分可插入在该孔处。该柱脚部分通过被插入至孔且被焊接...
  • 本发明公开了一种能够防止曝光的图像质量下降的图像曝光设备。该设备包括空间光学调制装置(50),该空间光学调制装置(50)包括大量的两维排列的像素区;光源(66);以及图像聚焦光学系统(51),该图像聚焦光学系统(51)用于将由空间光学调...
  • 本发明的目的在于,通过使感光层中所含的粘合剂的I/O值及玻璃化温度都在一定的数值范围内,来提供在析像度及遮盖性方面优良,而且在显影性方面也优良,并且在抗蚀剂剥离性方面优良的图案形成材料;以及具备了该图案形成材料的图案形成装置及使用了该图...
  • 本发明提供一种印刷电路板的制造方法,该印刷电路板的制造方法可以应对微细电路的制造,在制造具有通孔等孔的多层配线基板时,可以可靠地在孔部分形成导电层,还能够以短的工序、低成本制造印刷电路板。该印刷电路板的制造方法至少具有:在绝缘性基板(1...
  • 本发明提供一种光固化性、密合性、脱模性、残膜性、图案形状、涂敷性(Ⅰ)、涂敷性(Ⅱ)、蚀刻适性都优良的组合物。根据本发明的光固化性组合物,包含(a)聚合性化合物、(b)0.1~15质量%的光聚合引发剂及/或光酸产生剂、(c)至少一种0....
  • 本发明提供一种曝光装置,其更容易地进行在感光材料上形成二维图案的像时的各光束的成像位置的修正。该曝光装置将从光源(66)发出的光(Le)利用多个像素部(82)排列的空间光调制机构(80)进行空间光调制,并使上述空间光调制后的、与各像数部...
  • 一种透光性导电膜,其通过在透明支持体上图案化导电金属部和可见光透过部而形成,其中所述导电金属部由尺寸1μm-40μm的形成网状的细线构成,所述网状图案连续3m或更长。一种制造显示过滤器的方法,其中彼此相对的至少两个面的端部是网状,所述方...
  • 提供了一种绘图设备的校准方法,此方法校准围绕对准照相机光轴方向上的偏差,并且能够改进相对绘图介质的绘图偏差的校正精度。通过对准照相机拍摄校准参考标记,并且采用照相机视场中校准参考标记的坐标数据计算对准照相机围绕其光轴的转动量。基于计算的...