【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种。
技术介绍
纳米压印法是如下技术使在光盘制造中公知的压纹技术得以 发展,将形成有凹凸图案的金属模原器(一般称为模具、母板、模板 等)压到抗蚀剂上,使其发生力学变形,将微细图案精密地进行转印。 由于一旦制作模具,就可以简单地重复成型纳米结构,故经济,同时 由于是一种有害的废弃*排出物少的纳米加工技术,因此,近年来期 待着应用于各种领域。在纳米压印法中,有2种情况的提案即,使用热塑性树脂作为被加工材料的情况(S. Chou et al.: Appl. Phys. Lett Vol. 67, 114, 3314 ( 1995))和使用光固化性组合物的情况(M. Colbunetal. Proc. SPIE, Vol. 676, 78 ( 1999))。热式纳米压印是,将模具压至加热 到玻璃化转变温度以上的高分子树脂上,在冷却后将模具脱离,由此 将微细结构转印于衬底上的树脂。由于在多种树脂材料和剥离材料中 都可以应用,故期待着应用于各个方面。在美国专利第5,772,905号 公报、美国专利第5,956,216号公报中,公开有使用热塑性树脂廉价 地形 ...
【技术保护点】
一种光固化性组合物,其包含(a)聚合性化合物、(b)0.1~15质量%的光聚合引发剂及/或光酸产生剂、(c)至少一种0.001~5质量%的含氟表面活性剂、硅氧烷类表面活性剂及含氟.硅氧烷类表面活性剂,并且(d)该组合物在25℃下黏度为3~18mPa.s,其中, 前述(a)聚合性化合物含有(e)皮肤原发刺激指数(PⅡ值)为4.0以下的聚合性不饱和单体、及(f)在25℃下黏度为30mPa.s以下的聚合性不饱和单体,这些聚合性不饱和单体的含量为50质量%以上,其中,前述(e)的聚合性不饱和单体和前述(f)的聚合性不饱和单体,可以是部分相同或全部相同的聚合性不饱和单体。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:河边保雅,高柳丘,
申请(专利权)人:富士胶片株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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