一种图像记录方法和图像记录设备，沿基板（Ｆ）被移动的方向和与该方向垂直的方向将矩形图记录在基板（Ｆ）上。测量矩形图的线宽，且建立用于获取光量的掩模数据以校正线宽变化。当曝光头（２４ａ－２４ｊ）被激发以便通过曝光将图像记录在基板（Ｆ）上时，从掩模数据存储器（８２）读取取决于基板（Ｆ）的被移动位置的掩模数据，并用该掩模数据来校正输出数据，因而将期望的无定域性图像记录在所述基板（Ｆ）上。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种图像记录方法和图像记录设备，在依靠图像数据控制的多个记录元件正在相对图像记录介质移动时，将图像记录到图像介质上。
技术介绍
附图26是印刷线路板的制造过程示意图。如图26所示，通过蒸镀(evaporation)等在其上蒸镀有铜箔1的基板2被准备。感光材料制成的光刻胶(photoresist)3通过加热挤压(层压)在铜箔1上。在利用曝光设备使光刻胶3根据线路图曝光后，利用显影液显影光刻胶3。然后，光刻胶3的没有被曝光的部分被去除。通过光刻胶3的去除而曝光的铜箔1被蚀刻溶液蚀刻掉。之后，剩余的光刻胶3被剥离液剥离掉。结果，制造出印刷线路板，该印刷线路板具有以期望线路图的形式而保留在基板2上的铜箔1。例如，一种用数字微镜装置DMD(digital micromirror device)等空间光调制器作为将线路图记录在光刻胶3上的曝光设备已被设计出(参见日本公开公报No.2005-41105)。该数字微镜装置DMD包括多个以矩阵模式(matrix pattern)可倾斜地设置在静态存储单元(SRAM cells，memorycells)上的微镜(micromirror)。该微镜具有相应的反射表面，该反射表面的上面沉积(deposit)有铝等高反射材料。当与图像数据相应的数字信号被写进静态存储单元时，对应的微镜在取决于数字信号的设定方向上倾斜，选择性地打开和关闭光束，并将打开的光束引导到光刻胶。在日本专利公开公报No.2005-41105中公开的曝光设备中，具有层压光刻胶3的基板2在一方向上移动，具有数字微镜装置DMD的多个曝光头引导光束到基板2因而利用曝光将高精度两维线路图快速地记录在基板2上，所述数字微镜装置DMD以与层压光刻胶3移动的方向垂直的方向排列。如果在曝光设备的曝光过程开始时用于发射光束的光源的温度与在曝光过程结束时的光源的温度彼此不同时，那么由光源发射的光束的光量(amount of light)趋向于随时间变化，可能会导致由于沿基板2移动方向的光量的变化而引起的曝光不规则(exposure irregularity)。基板2放置在可移动的台子上，该台子将热传递到基板2以便加热基板2。由于在热被从可移动的台子传递到基板2以前需要一定时间，在曝光过程开始时放置在可移动台子上的基板2的表面温度与在曝光过程结束时放置在可移动台子上的基板2的表面温度彼此不同。因为由于上述温度的变化引起光刻胶3敏感度变化，会造成沿基板2的移动方向形成的线路图的不规则。当其上放置有基板2的可移动的台子移动时，曝光头和基板2之间的距离就变化。此时，引导向基板2的光束的直径同样会变化，易于导致沿基板2的移动方向形成的线路图的不规则。此外，如果显影设备在基板2上执行的显影过程遭受显影设备导致的不规则时，那么这些不规则就表现为线路图的不规则。
技术实现思路
本专利技术的一个总体目的是提供一种图像记录方法和图像记录设备，通过校正沿记录元件相对图像记录介质移动的方向出现的定域性(locality)，将所期望的图像高精确地记录在图像记录介质上。本专利技术的一个主要目的是提供一种用于将所期望的图像高精确地记录在图像记录介质的整个两维表面上的方法和设备。根据结合附图的以下说明，本专利技术的上述和其它目的，特征和优点将变得更明显。在该说明中，通过示例显示了本专利技术的较佳实施例。附图说明图1是根据本专利技术的实施例的曝光设备的立体图；图2根据实施例的曝光设备的曝光头的示意图；图3是显示图2的曝光头中使用的数字微镜装置(DMD)的局部放大图；图4是图2的曝光头执行的曝光记录过程的示意图；图5是显示图2的曝光头的数字微镜装置DMD和设置在数字微镜装置DMD中的掩模数据的图；图6是显示实施例的曝光设备的记录位置和光量之间的关系图；图7是显示当图6中的光量定域性未经校正时所记录的线宽(line width)图；图8是显示当图6中的光量定域性被校正时所记录的线宽图；图9是实施例的曝光设备的控制电路框图；图10是设定实施例的曝光设备所执行的掩模数据的过程的流程图；图11是显示由实施例的曝光设备在基板上记录的矩形图所组成的测试图；图12是显示图11的矩形图的位置和所测量的线宽之间的关系图；图13是显示应用到基板的激光束的光量的变化与对应的线宽变化之间的关系图；图14是显示基板位置与光量校正变量之间的关系图；图15是实施例的曝光设备执行的曝光记录过程的流程图；图16是实施例的曝光设备在基板上记录的网点图(halftone dot pattern)的示意图；图17是作为测试数据的灰度级数据(grayscale data)的示意图；图18是使用图17的灰度级数据在基板上形成的铜箔的示意图；图19是实施例的曝光设备在基板上记录的栅格状图的示意图；图20是显示沿基板被扫描的方向所形成的边缘区域的图；图21是显示沿与基板被扫描方向垂直的方向所形成的边缘区域的图；图22是显示不同类型感光材料上的光量变化与对应的线宽之间的关系图；图23是显示不同类型感光材料上的基板位置与线宽之间的关系图；图24是显示不同类型感光材料上的基板位置与光量校正变量之间的关系图；图25是实施例的曝光设备的数字微镜装置DMD被分到其中的区域的示意图；以及图26是印刷线路板制造过程的示意图。具体实施例方式图1显示了用于在印刷线路板上执行曝光过程的曝光设备10的立体图，在印刷线路板曝光过程中应用了根据本专利技术的实施例的图像记录方法和图像记录设备。如图1所示，曝光设备10具有基本不变形的床14，该床14由腿12支撑；和曝光台18，该曝光台18通过两个平行的导轨16安装在床14上用于在箭头所示的方向上往复移动。涂覆有感光材料的长矩形基板F(图像记录介质)连接到并支撑在曝光台18上。门柱20居中地安装在床14上，并位于导轨16上。两个CCD摄像机22a，22b固定到柱子20的一侧，用于检测基板F相对于曝光台18安装的位置。扫描器26具有多个曝光头24a至24j，该多个曝光头24a至24j定位和保持在扫描器26中，用于通过曝光把图像记录在基板F上，扫描器26固定在柱子20的另一侧。曝光头24a至24j在垂直于基板F被扫描的方向(即，曝光台18可移动的方向)的方向上布置成交错的两行。闪光灯64a、64b通过相应的棒形透镜(rod lens)分别安装在CCD摄像机22a，22b上。闪光灯64a、64b将基板F敏感的红外线(如照明光线)应用到CCD摄像机22a、22b的图像获取区。引导台66在与曝光台18可移动的方向垂直的方向上延伸，引导台66安装在床14的末端。引导台66在其上支撑感光器68，支撑感光器68可沿箭头x表示的方向移动用于检测曝光头24a至24j发射的激光束L的光量。图2显示曝光头24a至24j中每个曝光头的结构。从光源单元28a至28j的多个半导体激光器发射的组合激光束L被引导通过光纤30进入每个曝光头24a至24j中，光源单元28a至28j连接到相应的曝光头24a至24j。棒形透镜32、反射镜34、和数字微镜装置(DMD)36依序布置在激光束L引导进入的光纤30的出口端。如图3所示，数字微镜装置DMD36包括多个微镜40(记录元件)，多个微镜40以矩阵模式可倾斜地设置在静态存储单元(SRAM本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种图像记录方法，通过在一方向上相对于图像记录介质（Ｆ）移动依据图像数据控制的多个记录元件（４０）将图像记录在图像记录介质（Ｆ）上，该方法包括如下步骤：建立掩模数据，该掩模数据用于控制所述记录元件（４０）中那些为了校正所述方向上出现 的图像品质的定域性而要被设置成关闭状态的、被选择的记录元件（４０），所述掩模数据取决于所述记录元件（４０）在所述方向上的被移动位置；和基于确定所述记录元件（４０）的打开和关闭状态的所述图像数据和确定所述记录元件（４０）的关闭状态的所 述掩模数据，控制所述记录元件（４０），因而用于将图像记录在所述图像记录介质（Ｆ）上。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：角克人，铃木一诚，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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