图像曝光设备和微透镜阵列单元制造技术

本发明专利技术公开了一种能够防止曝光的图像质量下降的图像曝光设备。该设备包括空间光学调制装置（５０），该空间光学调制装置（５０）包括大量的两维排列的像素区；光源（６６）；以及图像聚焦光学系统（５１），该图像聚焦光学系统（５１）用于将由空间光学调制装置（５０）调制的光（Ｂ）所表现的图像聚焦在感光材料上，该图像聚焦光学系统（５１）包括图像聚焦透镜（５２、５４）和微透镜阵列（５５），所述微透镜阵列布置为多个微透镜定位在由图像聚焦透镜（５２、５４）聚焦的每一个像素区的图像位置处。微透镜阵列（５５）被容纳在具有两个透明部分（８２、８３）的壳体（８０）中，该透明部分（８２、８３）分别用于透射将要通过微透镜阵阵列（５５）的光和透射已经通过微透镜阵列（５５）的光，用以防止灰尘粘附于该微透镜阵列。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种图像曝光设备。具体而言，本专利技术涉及这样一种图像 曝光设备，其中感光材料通过在其上聚焦光学图像而被曝光，该光学图像 通过空间光学调制装置调制的光而表现。本专利技术还涉及一种用于上述图像曝光设备的微透镜阵列单元。
技术介绍
已知一种图像曝光系统，其中使空间光学调制装置调制的光通过图像 聚焦光学系统，以将光所表示的图像聚焦在预定感光材料上，以便通过所 述图像使感光材料曝光。基本上，这种图像曝光系统包括空间光学调制 装置，所述空间光学调制装置具有两维设置的大量像素区，每一个像素区 用于根据控制信号调制照射的光；用于将光照射到空间光学调制装置上的 光源；和用于将光表现的光学图像聚焦到感光材料上的图像聚焦光学系 统，其中所述光由空间光学调制装置调制。在这种图像曝光系统中，诸如LCD (liquid crystal display,液晶显示 器)、DMD (digital mircromirror device,数字微镜装置)、或类似设备可优 选被用作空间光学调制装置。上述的DMD是镜装置，其中根据控制信号 改变反射表面的角度的大量长方形微镜被两维地设置在由诸如硅或类似 物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种图像曝光设备，包括：空间光学调制装置，所述空间光学调制装置包括大量的两维排列的像素区，每一个用于调制照射在其上的光；光源，用于将光照射在所述空间光学调制装置上；以及图像聚焦光学系统，所述图像聚焦光学系统用于将通过 所述空间光学调制装置调制的光所表现的图像聚焦在感光材料上，所述图像聚焦光学系统包括：将从空间光学调制装置的每一个像素区反射的光会聚的图像聚焦透镜；和微透镜阵列，其具有布置在由所述图像聚焦透镜聚焦的每一个像素区的图像位置处的多个微透镜，　 　其中所述微透镜阵列被容纳在具有两个透明部分的壳体中，所述透明部分分别用于透射将要通过微透镜...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：石川弘美，
申请(专利权)人：富士胶片株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]