一种半导体装置的制造方法，包括：在基板上形成薄膜的工序；在所述薄膜上形成光阻掩模的抗蚀剂掩模形成工序，其中所述光阻掩模形成有椭圆孔图案；通过在所述椭圆孔图案的侧壁形成绝缘膜来缩小所述椭圆孔图案的孔径的缩小工序；以及将形成缩小了所述孔径的...

本发明的电磁波供电机构具备：微波电力导入端口(55)，其被设置于同轴构造的波导(44)的侧部，连接有作为供电线的同轴线路(56)；和供电天线(90)，其与同轴线路(56)连接，向波导(44)的内部辐射电磁波电力。供电天线(90)具有：天...

本发明提供一种能够提高搬运室的刚性的搬运模块。在内部能够成为真空的搬运室(14)上能够开闭地设置盖(22)。在搬运室(14)内安装机器人(12)。机器人(12)在搬运被处理体(W)的机构的一部分中具有中空的旋转轴(36、37)。在机器人...

一种在绝缘层上形成无定形碳层的方法，所述方法包括如下步骤：利用等离子体反应工艺形成无定形碳层。无定形碳层在包含等离子体激发气体、CxHy系气体、含硅气体和含氧气体的气氛中形成。

本发明在于提供一种对具有凹部(2)的在表面形成有由low-k膜构成的绝缘层(122)的被处理体(W)形成含Mn的薄膜的成膜方法，其包括：在绝缘层的表面实施亲水化处理而形成亲水性表面的亲水化工序；通过在进行过亲水化处理的绝缘层的表面使用含...

本发明具有以下工序：在处理容器内不存在基板的状态下使处理容器内暴露于含有Cl和F中的至少一种的气体的前处理工序(工序1)；然后，将基板运入处理容器内的工序(工序2)；向运入有基板的处理容器内导入气态的Ge原料、气态的Sb原料和气态的Te...

本发明提供粘合装置和粘合方法。其在将两个构件粘合时防止在构件间产生空隙。粘合装置(1)包括用于保持晶圆的下部卡盘和上部卡盘。在利用规定的压力按压上部卡盘时，该上部卡盘的中心部挠曲。在下部卡盘的下表面设有用于支承下部卡盘的外周部的绝热环(...

本发明提供一种与过去相比能够提高处理的面内均一性的等离子体处理装置。本发明是在处理腔室内产生感应耦合等离子体并对被收纳在处理腔室内的基板进行处理的等离子体处理装置，它包括：具有上部开口，且形成容器状的处理腔室主体；将直径各异的多个环状的...

本申请提供能够可靠且容易地检测出保持部件的形状是否存在异常的保持部件的形状判定装置和方法。在使作为保持部件的叉(3A)前进时，按照使该叉(3A)通过其前方的方式，在叉(3A)的行进方向的侧面设置行传感器(4)。在使叉(3A)相对于行传感...

本发明涉及成膜方法、成膜装置以及半导体装置的制造方法。通过热CVD法以M(BH4)4(M表示Zr或Hf)作为原料形成B/M比在适当范围内且良质的MBx膜(M具有与上述相同含义、x表示1.8～2.5的数)。从气体供给源(19)介由气体供给...

本发明提供一种接合装置及接合方法，其高效地进行具有金属接合部的基板彼此的接合，使基板接合处理的生产率提高。接合装置(10)具有将热处理单元(20)、接合单元(21)一体地连接而成的构成。热处理单元具有用于载置叠合晶圆(WT)并进行热处理...

本发明提供一种接合装置，高效地进行具有金属的接合部的基板彼此的温度调整，使基板接合处理生产率提高。接合装置具有在下表面形成开口的处理容器；配置在处理容器内且用于载置叠合晶圆并对叠合晶圆进行热处理的第二热处理板；在处理容器内与第二热处理板...

提供一种极力抑制在处理容器内的由微波的驻波引起的影响，并在腔室内能够提高等离子体密度的均匀性的微波等离子体源和使用其的等离子体处理装置。微波等离子体源(2)具有微波供给部(40)，微波供给部(40)具有：将微波导入处理容器内的多个微波导...

本发明提供一种成膜装置及成膜方法。该成膜装置在容器内设有用于划分出成膜空间的、由耐腐蚀性比构成容器的材料的耐腐蚀性优良的材料制作而成的分区构件，该成膜空间包含：配置在容器内、用于载置基板的旋转台；用于向旋转台供给第1反应气体的第1反应气...

提供了自主的基于生物学的学习工具系统和该工具系统用来学习和分析性能降级和失配的方法。自主的基于生物学的学习工具系统包括(a)执行一组特定任务或过程并生成资产和与资产相关的表征各过程和相关联的工具性能的数据的一个或多个工具系统；(b)接收...

本发明提供一种能使基板的处理效率提高的基板处理系统。在基板处理系统(10)的负载锁定模块(13)中，在该负载锁定模块(13)的内部，上部基板输送机构(22)和下部基板输送机构(23)相互独立地上下运动，在上部基板输送机构(22)中，相对...

本发明提供能够消减晶片检查装置的设置空间并且能够降低设置成本的晶片检查装置。本发明的晶片检查装置(10)具备：以一片一片地搬送晶片的方式在第一搬送区域(S2)设置的第一晶片搬送机构(12)；在第一搬送区域的端部的对准区域(S3)内，经由...

提供一种衬底交接装置以及衬底交接方法，不使用升降销以及升降销的升降机构从正交的方向将输送臂的叉子插入到辊式输送机上的衬底来将衬底交接到输送臂。具备辊式输送机和输送臂，该辊式输送机能够沿水平方向输送衬底，该输送臂具有叉子，该叉子能够沿水平...

本发明提供一种输送装置、处理系统以及输送装置的控制方法。该输送装置在减压环境下也能够对接触到障碍物的情况进行检测。其包括：支承构件(71)，其能够前进后退，用于支承输送体(G)；传感器(8)，其用于在支承构件前进时、对支承构件的顶端接触...

本发明提供成膜装置和成膜方法。在真空气氛中反复进行多次将多种反应气体按顺序供给到基板上的循环，形成薄膜的成膜装置包括：载置台，设在真空容器内，具有用于载置基板的基板载置区域；多个反应气体供给部，沿真空容器的周向彼此分开地设置，将多种反应...