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东京毅力科创株式会社专利技术
东京毅力科创株式会社共有7373项专利
开口环安装用工具制造技术
本发明提供即使开口环小也能够将开口环简单且容易地安装于轴的开口环安装用工具。本发明的开口环安装用工具(10)包括:具有在前端开口的凹陷部(11A)的棒状的工具主体(11);收纳于该工具主体(11)的凹陷部(11A)内的弹性部件(12);...
半导体制造系统技术方案
一种具有用于检查半导体制造装置的程序的半导体制造系统,其进行以下步骤:显示用于指定检查项目的画面的步骤,该检查项目包括具备操作事项、确认事项的检查事项;从存储部读出与所指定的检查项目对应的检查事项,按工作顺序排列,并附加各检查事项是自动...
等离子体生成用电极和等离子体处理装置制造方法及图纸
本发明涉及等离子体生成用电极和等离子体处理装置。本发明提供一种对FPD用基板进行等离子体处理时难以产生异常放电、颗粒化的问题的等离子体生成用电极。等离子体生成用电极(20)具备:主体,具有与配置于腔室(2)内的平板显示用基板(G)相对的...
成膜装置和成膜方法制造方法及图纸
本发明提供成膜装置和成膜方法。该成膜装置包括:真空容器,按顺序向其内部多次供给第一处理气体和第二处理气体;旋转台,其具有包括基板载置区域在内的一个表面,使基板载置区域在真空容器内旋转;第一处理气体供给部,向第一区域供给第一处理气体;第二...
气体供给装置、热处理装置、气体供给方法及热处理方法制造方法及图纸
一种气体供给装置、热处理装置、气体供给方法及热处理方法,该气体供给装置具有使用载气将原料积存槽内的原料气体向处理容器进行供给的原料气体供给系统,该气体供给装置具备:载气通路,其向原料积存槽内导入载气;原料气体通路,其连结原料积存槽与处理...
色素增感型太阳电池的制造装置和色素增感型太阳电池的制造方法制造方法及图纸
本发明提供着一种色素增感型太阳电池的制造装置,使光增感色素溶液与作为色素增感型太阳电池的工作电极发挥作用的电极材料层接触,以吸附光增感色素,该色素增感型太阳电池的制造装置包括:收纳在表面形成有所述电极材料层的基板的密闭容器状的基板收纳部...
基板清洗装置和基板清洗方法制造方法及图纸
本发明提供一种基板清洗装置,能够避开微观粗糙度、水印、基板材料损失、器件结构的破坏这些湿式清洗具有的技术课题,并且与极低温喷雾照射方法相比较,能够从基板除去更加多种多样的污染物。在清洗附着有被清洗物的晶片W的基板清洗装置中,包括:将清洗...
基板的清洗方法和半导体制造装置制造方法及图纸
提供一种能够在保持图案形状的状态下清洗至图案底部的清洗方法。在保持为真空状态的处理容器(100)内对晶片(W)上的膜上形成有规定图案的晶片(W)进行清洗的方法,包括:利用所希望的清洁气体对通过蚀刻处理形成有规定图案的晶片(W)上的膜进行...
温度测量用基板以及热处理装置制造方法及图纸
本发明涉及一种温度测量用基板以及热处理装置,对被处理基板(W)实施热处理的热处理装置(2)中所使用的温度测量用基板(50)具备:基板主体(62);振动器(64),其具有压电元件(68),并且设置在基板主体中;以及天线部(66),其与振动...
等离子体处理装置及等离子体处理方法制造方法及图纸
本发明提供一种等离子体处理装置及等离子体处理方法,能够增大主气体流路与多个支气体流路的气体流导之比。等离子体处理装置(100),其激发气体来对被处理体进行等离子体处理,并具备:处理容器(100);供给预期的气体的气体供给源(905);分...
等离子体处理装置制造方法及图纸
本发明提供一种等离子处理装置,其具备:处理容器;工作台;电介质部件;导入微波的单元;喷射器;和电场屏蔽部。处理容器在其内部划分形成处理空间。工作台设置在处理容器内。电介质部件面对工作台设置。导入微波的单元经由电介质部件将微波导入处理空间...
涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法制造方法及图纸
本发明提供涂敷处理装置、涂敷显影处理系统和涂敷处理方法。该涂敷处理装置在利用旋涂法涂敷涂敷液而形成膜时,能够控制基板面内的任意位置的膜厚,并且能够减少基板面内的膜厚偏差。该涂敷处理装置(23)通过向旋转的基板的表面供给涂敷液并使供给来的...
温度测定装置、温度校正装置及温度校正方法制造方法及图纸
本发明提供一种温度测定装置、温度校正装置及温度校正方法。在使用热处理机构将基板热处理于特定温度的热处理装置中,通过简单的方法来适当校正所述热处理机构的温度。温度校正装置的温度检测工具(10)包括载置在热处理板上的被处理晶片(70)、以及...
基板的配线方法和半导体制造装置制造方法及图纸
本发明提供一种基板的配线方法,其能够将Cu埋入至在基板上形成的配线用图案的底部。该基板的配线方法是在保持为真空状态的处理容器(100)内对形成有配线用图案的基板进行配线的方法,其特征在于:包括用所期望的清洗气体清洗晶片上的配线用图案的前...
基板清洗方法和基板清洗装置制造方法及图纸
本发明提供一种基板清洗方法,其能够清除基板上附着的异物,且防止基板和该基板上形成的膜的劣化。向附着有异物(22)且配置在几乎真空气氛中的晶片(W)以0.3MPa~2.0MPa中的任一压力喷雾清洗气体形成包含多个气体分子(20)的团簇(2...
加热装置和退火装置制造方法及图纸
加热装置具有LED模块(54),该LED模块(54)包括:金属制的散热基板(72);在散热基板上直接形成的绝缘层(74);排列在绝缘层上构成配线图案的多个配线元件(76);在多个配线元件上分别设置的多个LED元件(70);和将相邻的所述...
等离子体处理装置和等离子体处理方法制造方法及图纸
在电介质板(28)和盖部件(13)的支撑部(13a)之间具有环状的O型环(29a),并且在该O型环(29a)的外周侧设置有用于在处理容器(1)的上部配置的盖部件(13)的支撑部(13a)和电介质板(28)之间形成缝隙(d)的垫片(60)...
静电卡盘装置制造方法及图纸
本发明提供一种静电卡盘装置,在静电卡盘装置的粘合剂层的侧面被侵蚀时,能够均匀地修补该侵蚀部分。一种静电卡盘装置,其在金属底座上至少具有粘合剂层和吸附层,其特征在于:在上述粘合剂层的侧面卷绕有线状的粘合剂,上述线状的粘合剂为与上述粘合剂层...
装载单元以及处理系统技术方案
本发明提供装载单元以及处理系统,该装载单元使保持有多张基板的基板保持件相对于处理容器升降,其具备:装载用筐体、使基板保持件升降的升降电梯机构、关闭处理容器的开口部的闸门部、用于进行基板的移载的基板移载机构、以包围升降电梯机构并包围其移动...
热处理装置制造方法及图纸
本发明提供热处理装置,其具备:反应管,其沿第一方向延伸;支承体,其收容于上述反应管内,并可沿着上述第一方向多层地支承多张基板;多条气体供给管,它们以沿着上述第一方向隔开间隔地排列的方式设置于上述反应管的侧面,并向上述反应管的内部供给气体...
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