本技术提供一种透明基板蒸镀用吸附装置，其用于显示屏幕的掩膜蒸镀，包括用于支撑透明基板边缘的基板边缘支承机构以及用于吸附透明基板上表面的静电吸附单元；还包括：中部支撑机构，其适于阻止透明基板受重力作用向下产生弯曲变形；其中，中部支撑机构配...

本发明公开了一种可实时监测贴合压力和平面度的静电吸盘系统，属于显示屏制备技术领域，包括驱动机构和电脑，其特征在于：还包括真空腔室、上静电吸盘、下静电吸盘、上静电吸盘控制器和下静电吸盘控制器，所述真空腔室上设置有第一真空馈通法兰、第二真空...

本实用新型涉及静电吸附领域，其具体公开一种静电吸附装置及静电吸附系统，静电吸附装置包括基板和布置在所述基板上的电极层，在所述基板上布置空间不足的区域内形成至少一对被间隔开的电极端部；所述基板上配置有：电极桥，其用于桥接一对电极端部；以及...

本实用新型涉及静电吸附领域，其具体公开一种静电吸附装置及静电吸附系统，静电吸附装置包括基板和布置在所述基板上的电极层，在所述基板上布置空间不足的区域内形成至少一对被间隔开的电极端部；所述基板上配置有：电极桥，其用于桥接一对电极端部；以及...

本申请公开了一种用于吸附异形工件的曲面吸盘及工件吸附设备，适于应用在真空环境中，包括支撑座，所述支撑座具有用于吸附异形工件的吸附界面，所述吸附界面上接合有可分离地粘接异形工件的吸附件；其中，所述支撑座上接合有分离机构，所述分离机构适于在...

本实用新型涉及蒸镀技术领域，其具体公开一种OLED显示面板用蒸镀设备，包括机体和用于喷发蒸镀材料的喷嘴，所述机体上形成有蒸镀室，所述喷嘴设置在蒸镀室内；所述机体上配置有：接渣板，其靠近所述喷嘴设置，以用于收集下落的蒸镀材料；其中，所述接...

本申请公开了一种凸面镜片贴膜装置，包括箱体，所述箱体开设有用于传送薄膜的运输通道，还包括：驱动机构，设置于所述箱体内，用于驱动凸面镜片

本申请公开了一种异形曲面静电吸盘，一种异形曲面静电吸盘，包括支撑座、静电吸附件和粘接层，所述静电吸附件通过粘接层接合在支撑座上；所述支撑座具有用于接合静电吸附层的贴合界面，所述贴合界面配置为弧形曲面；所述静电吸附件具有至少两个拼接单元，...

本申请公开了一种半导体覆膜装置及贴膜设备，该装置包括基座，所述基座设有膜材传输通道，还包括：控制器；远红外加热器，其朝向所述膜材传输通道以对膜材辐射加热；第一温度传感器，其朝向所述远红外加热器以感知远红外加热器的温度；以及第二温度传感器...

本申请公开了一种应用于大尺寸面板吸附的静电吸盘，包括基座，设有容纳槽和贴合面；静电吸附件,可移动设于容纳槽内用于对面板进行静电吸附；驱动机构，设置于基座上且与静电吸附件连接用于驱动静电吸附件在容纳槽内移动；控制器，与驱动机构和静电吸附件...

本申请公开了一种高精度蒸镀对位系统及蒸镀设备，包括：玻璃基板支撑架，其支撑玻璃基板的边缘部，以在所述玻璃基板的中部形成上蒸镀区；以及掩膜板支撑架，其支撑金属掩膜板的边缘部，以在所述金属掩膜板的中部形成下蒸镀区；所述玻璃基板支撑架的上方配...

本实用新型涉及吸附技术领域，其具体公开一种多用途透明吸附载台，包括真空吸附部和静电吸附部，所述静电吸附部设置在真空吸附部的下方；所述真空吸附部包括透明基座和形成在透明基座内的真空通道；所述静电吸附部包括透明电极层和透明介电层，所述透明电...

本实用新型涉及半导体生产领域，其具体公开一种真空搬运电子产品用除静电设备，一种真空搬运电子产品用除静电设备，应用于搬运电子产品的真空搬运工具，包括：紫外光发生装置，其用于产生能够照射产品的紫外光，以及；照射控制装置，其用于控制紫外光照射...

本实用新型涉及工装治具领域，其具体公开一种防止跳片的真空作业系统，包括第一真空腔和位于该第一真空腔内的吸附治具，所述吸附治具内形成有用于吸附工件的第二真空腔；其特征在于，所述第二真空腔和第一真空腔之间借由至少一泄压阀连通，所述泄压阀配置...

本实用新型涉及工装治具领域，其具体公开一种真空吸附治具，包括本体和密封接头，所述本体具有抽气口，所述密封接头配置为在去除连通所述本体的真空泵后能够保持治具内的真空，且在受外力操作时能够允许空气进入本体内以解除真空；包括：安装座，其密封地...

本实用新型公开了一种翻盖连杆压接式POGO导通装置，涉及显示面板测试导通零部件技术领域，包括上翻盖和下底座，上翻盖和下底座之间铰接连接，还包括连杆、转动固定块、按压条和按压扣，连杆的一端与一个转动固定块内侧的一端固定连接，连杆的另一端与...

本实用新型涉及屏幕组件贴合用装置领域，尤其涉及一种屏幕组件贴合用吸附装置，一种屏幕组件贴合用吸附装置，其包括静电吸附部和真空吸附部，所述静电吸附部包括基材层、介电层和夹设在两者之间的电极片；所述真空吸附部具有气体通道，该气体通道贯穿静电...

本实用新型涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种防短路的点型蒸发源，一种防短路的点型蒸发源，包括金属壳体、加热框架和坩埚；所述加热框架固定在金属壳体的内侧壁上；所述坩埚配置在加热框架所限定的范围内；所述加热框架包括：加热件，用于加热并气化坩埚内...

本实用新型涉及等离子体声场设备领域，尤其涉及一种低温等离子体产生设备，包括：真空箱，其内部具有可产生等离子体的反应腔；气压控制单元，其包括气泵，该气泵与反应腔连接以控制反应腔内部气压；供气单元，其与反应腔连接以向反应腔内充入反应气体；供...

本实用新型涉及静电吸附领域，尤其涉及一种电容式静电吸附装置及静电吸附系统，其包括基座、电极片和覆盖层，所述电极片设于基座上方且覆盖层覆盖于电极片；它还包括电容器，该电容器被配置为储存电能以用于电极片供电。本实用新型的静电吸附装置可在脱离...