【技术实现步骤摘要】
一种薄膜衬底清洗装置
本技术涉及一种薄膜衬底的清洗、干燥装置,特别涉及一种衬底在清洗液中防止发生翻转和漂离槽孔的装置。
技术介绍
目前,实验室中经常用到不同尺寸的薄膜衬底,如单晶硅衬底,ITO玻璃衬底,SrTiO3单晶衬底,MgO单晶衬底等等,在使用前往往需要进行清洗、沸煮等多道程序。在清洗、沸煮和吹干过程中,一些衬底由于表面积大,质量轻,容易发生翻转、漂浮,从而损伤或者污染衬底表面,影响衬底清洗效果。因此,急需一种装置能适合不同尺寸的薄膜衬底,并将其限定在一个相对狭小的空间中进行清洗和干燥,同时应尽量减小薄膜衬底与该装置的接触面,提高衬底的清洁度。
技术实现思路
本技术的目的在于:针对上述存在的问题,提供一种使薄膜衬底在清洗干燥中不发生翻转和漂浮,并且清洁度更高的清洗装置。本技术的薄膜衬底清洗装置,包括基座1、底槽2、圆通孔3、边沿凸出圈4、基座盖5、筛孔6、提杆7、提杆螺纹接头8、基座螺纹孔9。所述基座盖5布置若干筛孔6,所述基座盖5由其上设置的提杆7与基座I可拆卸连接;使其防止漂浮和便于整个装置从清洗液中取出。所述提杆7贯穿基座盖5中心在其下端形成提杆螺纹接头8与基座I上设置的基座螺纹孔9形成螺纹连接。基座I下表面向上凹进形成底槽2,所述底槽2与基座上表面开有若干圆通孔3,且在基座下边缘设置有开口 ;使圆通孔里沉积的污溃通过底槽与外围流动,防止衬底的二次污染。所述圆通孔3的尺寸为上圆面与侧边的夹角在35° — 75°之间,圆台下端开口直径4-8mm,上端开口直径10-20mm ;防止了衬底翻转,减少了衬底与内壁的接触面有助于提高清洗的洁净度。所述基座 ...
【技术保护点】
一种薄膜衬底清洗装置,包括基座(1)和基座盖(5),所述基座盖(5)布置若干筛孔(6),所述基座盖(5)由其上设置的提杆(7)与基座(1)可拆卸连接,其特征在于:基座(1)下表面向上凹进形成底槽(2),所述底槽(2)与基座上表面开有若干圆通孔(3),且在基座下边缘设置有开口。
【技术特征摘要】
1.一种薄膜衬底清洗装置,包括基座(I)和基座盖(5),所述基座盖(5)布置若干筛孔(6),所述基座盖(5)由其上设置的提杆(7)与基座(I)可拆卸连接,其特征在于:基座(I)下表面向上凹进形成底槽(2),所述底槽(2)与基座上表面开有若干圆通孔(3),且在基座下边缘设置有开口。2.如权利要求1所述的薄膜衬底清洗装置,其特征在于:所述圆通孔(3)的尺寸为上圆面与侧边的...
【专利技术属性】
技术研发人员:何泓材,罗斐斐,王宁,钱能,杨奎,朱家昆,
申请(专利权)人:电子科技大学,
类型:实用新型
国别省市:
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