刷子、背面处理组件和用于清洗衬底的方法技术

本发明专利技术实施例提供了一种用于背面处理(BST)的刷子。刷子包括基座部分和刷部分。刷部分连接到基座部分。刷部分有多个设置在远离基座部分的表面上的槽，槽的至少一个具有至少部分位于表面的边缘的至少一个开口端。本发明专利技术实施例涉及刷子、背面处理组件和用于清洗衬底的方法。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术实施例涉及刷子、背面处理组件和用于清洗衬底的方法。
技术介绍
本专利技术大体涉及到刷子，并且具体地涉及到用于背面处理(BST)的刷子。背面处理通常是在下一个扫描的模块工艺之前的准备衬底的背面的模块工艺。一般来说，刷子用来摩擦和清洗衬底背面的以去除意外地粘结衬底背面上的颗粒。
技术实现思路
根据本专利技术的一个实施例，提供了一种用于背面处理(BST)的刷子，所述刷子包括：基座部分；以及刷部分，连接至所述基座部分，所述刷部分具有设置在远离所述基座部分的表面上的多个槽，其中，所述槽的至少一个具有至少部分地位于所述表面的边缘上的至少一个开口端。根据本专利技术的另一实施例，还提供了一种背面处理(BST)组件，包括；载体头部，配置为保持衬底；刷子，包括：基座部分；和刷部分，具有彼此相对的第一表面和第二表面，所述第一表面配置为接触所述衬底，所述第二表面连接至所述基座部分，所述刷部分具有设置在所述第一表面上的多个槽；以及刷柄，配置为保持所述基座部分。根据本专利技术的又另一实施例，还提供了一种用于清洗衬底的方法，所述方法包括：将刷子的表面接触所述衬底，其中，所述刷子具有位于所述刷子的所述表面上的多个槽；以及旋转所述刷子和所述衬底的至少一个以刷所述衬底，使得通过所述刷子的所述槽从所述衬底去除多个颗粒。附图说明当结合附图进行阅读时，根据下面详细的描述可以最佳地理解本专利技术的各个方面。应该注意，根据工业中的标准实践，各种部件没有被按比例绘制。实际上，为了清楚的讨论，各种部件的尺寸可以被任意增加或减少。图1是根据本专利技术的一些实施例的背面处理(BST)组件的正视图。图2是图1的背面处理组件的底部透视图。图3是图1的刷子的顶视图。图4是图1的刷部分的放大的截面图。图5是根据本专利技术的一些其他的实施例的刷子的顶视图。图6是根据本专利技术的一些其他的实施例的刷子的顶视图。具体实施方式以下公开内容提供了许多不同实施例或实例，用于实现所提供主题的不同特征。以下将描述组件和布置的具体实例以简化本专利技术。当然，这些仅是实例并且不意欲限制本专利技术。例如，在以下描述中，在第二部件上方或上形成第一部件可以包括第一部件和第二部件直接接触的实施例，也可以包括形成在第一部件和第二部件之间的附加部件使得第一部件和第二部件不直接接触的实施例。而且，本专利技术在各个实例中可以重复参考数字和/或字母。这种重复仅是为了简明和清楚，其自身并不表示所论述的各个实施例和/或配置之间的关系。本文中所使用的术语是仅用于描述特定实施例的目的，而不是为了限制本专利技术。如本文中所使用的，除非上下文清楚地表明，否则单数“一”，“一个”和“该”旨在也包括复数形式。应当还理解，当在本专利技术中使用术语“包括”和/或“包含”，或“包括”和/或“包括”或“具有”和/或“有”时，指定阐述的部件、区域、整数、步骤、操作、元件、和/或组件的存在，但不排除附加的一个或多个其他部件、区域、整数、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组的存在。而且，为便于描述，本文可以使用诸如“在...下方”、“在...下面”、“下部”、“在...之上”、“上部”等的空间关系术语，以描述如图所示的一个元件或部件与另一元件或部件的关系。除了图中所示的方位外，空间关系术语旨在包括器件在使用或操作过程中的不同方位。组件可以以其他方式定位(旋转90度或在其他方位)，并且在本文中使用的空间关系描述符可以同样地作相应地解释。除非另有规定，本文使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有如本专利技术所属领域的普通技术人员通常理解的相同的含义。还应该理解，除非本文清楚地限定，否则，诸如常用的字典中限定的那些的术语应该被理解为具有与其在相关领域和本专利技术的内容中的意思一致的意思，并且不应该以理想化和过于正式的形式来解释。参考图1和图2。图1示出了根据本专利技术的一些实施例的背面处理(BST)组件100的正视图。图2是图1的背面处理组件100的底部透视图。如图1和图2所示，背面处理组件100包括载体头部110、刷子120和刷柄130。载体头部110被配置为保持衬底200。刷子120包括基座部分121和刷部分122。刷部分122具有相互对立的第一表面1221和第二表面1222。第一表面1221被配置为接触衬底200。第二表面1222连接至基座部分121。刷部分122具有设置在第一表面1221上的多个槽1223。刷柄130被配置为保持基座部分121。在一些实施例中，衬底200可以是晶圆。然而，这并不旨在限定本专利技术。在实际应用中，预清洗衬底200的背面201以用于一些工艺程序。衬底200的背面201是远离载体头部110的侧，将与刷部分122的第一表面1221接触。在进行一个或多个工艺程序之前，首先通过背面处理组件100的操作清洗衬底200的背面201。在背面处理组件100操作之前，衬底200是首先由载体头部110放置和保持，衬底200的背面201背离载体头部110。另一方面，刷子120的基座部分121通过刷柄130放置和保持，刷子120的刷部分122与衬底200的背面201接触。更具体地，刷部分122的第一表面1221与衬底200的背面201接触。此外，背面处理组件100还包括至少一个旋转机构。旋转机构被配置为旋转载体头部110和刷柄130中的至少一个。在一些实施例中，更具体地，背面处理组件100还包括载体头部旋转机构150。载体头部旋转机构150配置为旋转载体头部110。另一方面，背面处理组件100还包括刷柄旋转机构160。刷柄旋转机构160被配置为旋转刷柄130。当背面处理组件100操作时，载体头部旋转机构150在第一方向D1上旋转旋转载体头部110和衬底200，而刷柄旋转机构160在第二方向D2上旋转旋转刷柄130和刷子120的基座部分121。第二方向D2和第一方向D1相反。以这种方式，刷部分122的第一表面1221摩擦衬底200的背面201，并且去除衬底200的背面201上的颗粒。在实际应用中，例如，当载体头部旋转机构150以顺时针方向(第一方向D1)旋转载体头部110和衬底200时，刷柄旋转机构160以逆时针方向(第二方向D2)旋转刷柄130和刷子120的基座部分121。相反地，当载体头部旋转机构150以逆时针方向(第一方向D1)旋转载体头部110和衬底200时，刷柄旋转机构160则以顺时针方向(第二方向D2)旋转刷柄130和刷子120的基座部分121。此外，载体头部旋转机构150被配置为围绕第一轴Z1旋转载体头部110，而刷柄旋转机构160被配置为围绕第二轴Z2旋转刷柄130。在一些实施例中，第二轴Z2是基本平行于第一轴Z1的。然而，这并不旨在限定本专利技术。更具体地，如上所述，当刷部分122的第一表面1221摩擦衬底200的背面201时，衬底200的背面201上的颗粒被去除并且引导到刷子120的槽1223。在颗粒被引导到槽1223之后，由于刷子120的旋转，颗粒被迫沿着槽1223移动。在一些实施例中，颗粒可以是意外粘结在衬底200的背面201上的尘埃或物质。在实际中，颗粒的尺寸可以是纳米级的。参考图3。图3是图1的刷子120的顶视图。就技术而言，槽1223中的至少一个具有至少部分位于刷部分122的第一表面1221的边缘1221a上的至少一个开口端122本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于背面处理(BST)的刷子，所述刷子包括：基座部分；以及刷部分，连接至所述基座部分，所述刷部分具有设置在远离所述基座部分的表面上的多个槽，其中，所述槽的至少一个具有至少部分地位于所述表面的边缘上的至少一个开口端。

【技术特征摘要】
2015.08.20 US 14/831,5021.一种用于背面处理(BST)的刷子，所述刷子包括：基座部分；以及刷部分，连接至所述基座部分，所述刷部分具有设置在远离所述基座部分的表面上的多个槽，其中，所述槽的至少一个具有至少部分地位于所述表面的边缘上的至少一个开口端。2.根据权利要求1所述的刷子，其中，所述槽的至少一个是条形。3.根据权利要求1所述的刷子，其中，所述槽的至少一个是波形。4.根据权利要求1所述的刷子，其中，所述槽的至少一个是螺旋形。5.根据权利要求1所述的刷子，其中，所述刷部分包括聚乙烯醇的材料。6.根据权利要求1所述的刷子，其中，所述基座部分包括塑料材料。7.一种背面处理(BST)组件，包括；...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾国书，商耀元，
申请(专利权)人：台湾积体电路制造股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71