一种薄膜衬底清洗装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及了一种薄膜衬底清洗装置，包括基座和基座盖，基座盖布置若干筛孔，基座盖由其上设置的提杆与基座可拆卸连接；基座下表面向上凹进形成底槽，所述底槽与基座上表面开有若干圆通孔，且在基座下边缘设置有开口。本实用新型专利技术的薄膜衬底清洗装置有如下的优点和积极效果：能使衬底在超声清洗和沸煮过程中不会发生翻转和漂浮脱离圆通孔，并且清洗液能在上盖筛孔、圆通孔和基座底槽间形成有效流动，防止污渍的二次污染；圆通孔结构可使薄膜衬底与该装置接触面减小并在清洗结束时清洗液能快速的流出孔槽，提高了衬底的清洁度；基座盖的提手能方便的将整个装置从清洗液中取出。（*该技术在2023年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜衬底清洗装置
本技术涉及一种薄膜衬底的清洗、干燥装置，特别涉及一种衬底在清洗液中防止发生翻转和漂离槽孔的装置。
技术介绍
目前，实验室中经常用到不同尺寸的薄膜衬底，如单晶硅衬底，ITO玻璃衬底，SrTiO3单晶衬底，MgO单晶衬底等等，在使用前往往需要进行清洗、沸煮等多道程序。在清洗、沸煮和吹干过程中，一些衬底由于表面积大，质量轻，容易发生翻转、漂浮，从而损伤或者污染衬底表面，影响衬底清洗效果。因此，急需一种装置能适合不同尺寸的薄膜衬底，并将其限定在一个相对狭小的空间中进行清洗和干燥，同时应尽量减小薄膜衬底与该装置的接触面，提高衬底的清洁度。
技术实现思路
本技术的目的在于:针对上述存在的问题，提供一种使薄膜衬底在清洗干燥中不发生翻转和漂浮，并且清洁度更高的清洗装置。本技术的薄膜衬底清洗装置，包括基座1、底槽2、圆通孔3、边沿凸出圈4、基座盖5、筛孔6、提杆7、提杆螺纹接头8、基座螺纹孔9。所述基座盖5布置若干筛孔6，所述基座盖5由其上设置的提杆7与基座I可拆卸连接；使其防止漂浮和便于整个装置从清洗液中取出。所述提杆7贯穿基座盖5中心在其下端形成提杆螺纹接头8与基座I上设置的基座螺纹孔9形成螺纹连接。基座I下表面向上凹进形成底槽2，所述底槽2与基座上表面开有若干圆通孔3，且在基座下边缘设置有开口 ；使圆通孔里沉积的污溃通过底槽与外围流动，防止衬底的二次污染。所述圆通孔3的尺寸为上圆面与侧边的夹角在35° — 75°之间，圆台下端开口直径4-8mm，上端开口直径10-20mm ;防止了衬底翻转，减少了衬底与内壁的接触面有助于提高清洗的洁净度。所述基座I和基座盖5的制备材料为耐腐蚀材料。该装置各部件均采用等耐腐蚀的材料制备(如聚四氟乙烯或有机玻璃)。综上所述，由于采用了上述技术方案，本技术的优点是:1、薄膜衬底在清洗过程中因斜靠或平躺在圆通孔内壁，防止了衬底翻转；2、薄膜衬底与圆通孔内壁的接触只有四个顶角，减少了与内壁的接触面有助于提高清洗的洁净度，同时，在清洗结束时，清洗液能快速的从圆通孔中流出；3、基座底槽的设计使圆通孔里沉积的污溃通过底槽与外围流动，防止衬底的二次污染；4、基座盖防止了薄膜衬底在清洗、沸煮过程中发生漂浮；5、基座盖所连接的提杆能方便地将整个夹具从清洗液中取出。【附图说明】本专利技术将通过例子并参照附图的方式说明，其中:图1是本技术的立体图；图2是本技术的主视图；图3是圆通孔放置薄膜衬底的平躺内壁示意图；图4是圆通孔放置薄膜衬底的斜靠内壁示意图；附图标记:1-基座，2-底槽，3-圆通孔，4-边沿凸出圈，5-基座盖，6-筛孔，7_提杆，8-提杆螺纹接头，9-基座螺纹孔，10-薄膜衬底。【具体实施方式】本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。本说明书(包括任何附加权利要求、摘要和附图)中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。[0021 ] 薄膜衬底清洗装置，参照图1和图2，包括基座1、底槽2、圆通孔3、边沿凸出圈4、基座盖5、筛孔6、提杆7、提杆螺纹接头8、基座螺纹孔9。本技术中的一个优选方案为:所述基座I圆柱体，所述提杆7与基座I为可拆卸方式连接，通过提杆螺纹接头8和基座螺纹孔9以螺纹连接方式连接，所述装置各组件均采用等耐腐蚀的材料制备(如聚四氟乙烯或有机玻璃)。本技术在使用时，根据薄膜衬底大小选择适合的圆通孔，以薄膜衬底上顶点离圆台上表面2 - 4mm为宜，然后将上盖中心的提杆螺纹接头连接基座，并旋紧吻合盖面，清洗完后，提杆可方便的将基座提起。本技术在薄膜衬底的清洗、沸煮、干燥等过程中，有效的保证了衬底的不翻转、漂浮，圆通孔和底槽的结构也更有效的提高了薄膜衬底清洗的洁净度。上述仅为本技术的具体实施方法，但本技术的设计构思并不局限于此，一切不脱离本技术的精神和范围的技术方案及其修改，其均应涵盖在本技术的权利要求范围内。本技术并不局限于前述的【具体实施方式】。本专利技术扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜衬底清洗装置，包括基座（1）和基座盖（5），所述基座盖（5）布置若干筛孔（6），所述基座盖（5）由其上设置的提杆（7）与基座（1）可拆卸连接，其特征在于：基座（1）下表面向上凹进形成底槽（2），所述底槽（2）与基座上表面开有若干圆通孔（3），且在基座下边缘设置有开口。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜衬底清洗装置，包括基座(I)和基座盖(5)，所述基座盖(5)布置若干筛孔(6)，所述基座盖(5)由其上设置的提杆(7)与基座(I)可拆卸连接，其特征在于:基座(I)下表面向上凹进形成底槽(2)，所述底槽(2)与基座上表面开有若干圆通孔(3)，且在基座下边缘设置有开口。2.如权利要求1所述的薄膜衬底清洗装置，其特征在于:所述圆通孔(3)的尺寸为上圆面与侧边的...

【专利技术属性】
技术研发人员：何泓材，罗斐斐，王宁，钱能，杨奎，朱家昆，
申请(专利权)人：电子科技大学，
类型：实用新型
国别省市：