The invention relates to a QLED device and a preparation method. The QLED device includes a substrate, an anode, a hole injection layer, an inorganic semiconductor layer, a quantum dot luminescent layer, an electron injection layer, and a cathode, which are made of metal oxide nanoparticles. The QLED device uses metal oxide nanoparticles as the hole injection layer, and introduces a layer of inorganic semiconductor thin film that is consistent with the quantum dot shell component between the quantum dots luminescence layer and the hole transmission layer, which ensures the good cavity injection between the inorganic semiconductor layer and the quantum dot luminescent layer, thus effectively improving the hole hole. Injection layer to inorganic semiconductor thin film injection transmission. The preparation of quantum dot light-emitting diodes using all inorganic materials can effectively improve the stability of the devices.
【技术实现步骤摘要】
QLED器件及其制备方法
本专利技术涉及QLED
,特别是涉及一种QLED器件及其制备方法。
技术介绍
半导体量子点具有光色纯度高、发光量子效率高、发光颜色可调、使用寿命长等优良特性。这些特点使得以量子点材料作为发光层的量子点发光二极管(QLED)在固态照明、平板显示等领域具有广泛的应用前景,受到了学术界以及产业界的广泛关注。近年来,通过量子点材料合成工艺的改善以及器件结构的优化,QLED的性能有了大幅提升,但由于量子点材料的能级较深,电离势较大,使得现有的空穴传输层与量子点发光层之间的界面存在一个较大的空穴注入势垒,导致空穴注入较为困难,而相对的电子注入较为容易,从而引起QLED发光层中载流子不平衡,严重限制了QLED器件的性能。因此,提高空穴的注入,平衡发光层中的载流子,对于提高QLED器件的性能尤为关键。此外,量子点由于是无机物,因此相对于OLED有机材料而言,其稳定性更佳,因此采用全无机材料制备QLED器件利于提高其器件稳定性。
技术实现思路
基于此,本专利技术的目的是提供一种能提供空穴注入的QLED器件。具体的技术方案如下:一种QLED器件,包括依次层叠设置的基板、阳极、空穴注入层、无机半导体层、量子点发光层、电子注入层以及阴极;所述空穴注入层的材质为金属氧化物纳米粒。在其中一个实施例中,所述金属氧化物纳米粒选自NiO、MoO3、MoS2、Cr2O3、Bi2O3、p型ZnO或p型GaN中的一种或几种。在其中一个实施例中,所述无机半导体层的组分与所述量子点发光层的量子点材料的壳层组分相同。在其中一些实施例中,所述量子点材料为Ⅱ﹣Ⅵ族化合物半导体核 ...
【技术保护点】
1.一种QLED器件,其特征在于,包括依次层叠设置的基板、阳极、空穴注入层、无机半导体层、量子点发光层、电子注入层以及阴极;所述空穴注入层的材质为金属氧化物纳米粒。
【技术特征摘要】
1.一种QLED器件,其特征在于,包括依次层叠设置的基板、阳极、空穴注入层、无机半导体层、量子点发光层、电子注入层以及阴极;所述空穴注入层的材质为金属氧化物纳米粒。2.根据权利要求1所述的QLED器件,其特征在于,所述金属氧化物纳米粒选自NiO、MoO3、MoS2、Cr2O3、Bi2O3、p型ZnO或p型GaN中的一种或几种。3.根据权利要求1所述的QLED器件,其特征在于,所述无机半导体层的组分与所述量子点发光层的量子点材料的壳层组分相同。4.根据权利要求1所述的QLED器件,其特征在于,所述量子点材料为Ⅱ﹣Ⅵ族化合物半导体核壳结构、Ⅲ﹣Ⅴ族化合物半导体核壳结构或Ⅳ﹣Ⅵ族化合物半导体核壳结构。5.根据权利要求4所述的QLED器件,其特征在于,所述量子点材料选自CdS/ZnS、CdSe/ZnS、CdSe/CdS/ZnS、PbS/ZnS或PbSe/ZnS。6.根据权利要求1所述的QLED器件,其特征在于,所述无机半导体层的厚度为5nm-20nm。7.根据权利要求1-6任一项所述的QLED器件,其特征在于,所述电子注入层的材质选自ZnO、TiO2...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈亚文,宋晶尧,付东,
申请(专利权)人:广东聚华印刷显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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