制造图像传感器的方法技术

本发明专利技术公开一种制造图像传感器的方法，此方法包含：提供基板；在基板的第一区域上形成第一红外线滤光元件；在基板和第一红外线滤光元件上沉积第二红外线滤光元件，其中沉积的第二红外线滤光元件覆盖第一红外线滤光元件；以及降低第二红外线滤光元件的高度至暴露出第一红外线滤光元件，其中降低的第二红外线滤光元件在基板的第二区域上且邻接第一红外线滤光元件。

The method of making image sensor

The invention discloses a method for manufacturing an image sensor, the method includes: providing a substrate; forming a first infrared filter element in the first region of the substrate; the substrate and the first infrared filter element deposited on the second infrared filter element, wherein second infrared deposition filter element covering the first infrared filter element; and to reduce the second infrared filter element the height to expose the first infrared filter element, including second infrared filter element reduced in the second region of the substrate and adjacent the first infrared filter element.

【技术实现步骤摘要】
制造图像传感器的方法
本专利技术涉及一种图像传感器，且特别是涉及制造具红外光检测功能的图像传感器的方法。
技术介绍
图像传感器已广泛使用在各种图像应用和产品上，例如智能型手机、数码相机、扫描器等。另外，具有红外光检测功能的图像传感器可检测红外光和可见光，以得到更多的信息。具有红外光检测功能的图像传感器可应用在例如虹膜辨识、物件检测和类似的安全应用上。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供制造具红外光检测功能的图像传感器的方法，通过本专利技术的方法所制造出的图像传感器相较于现有方法所制造出的图像传感器具有高图像感测准确度。根据本专利技术的上述目的，提出一种制造图像传感器的方法，此方法包含：提供基板；在基板的第一区域上形成第一红外线滤光元件；在基板和第一红外线滤光元件上沉积第二红外线滤光元件，其中沉积的第二红外线滤光元件覆盖第一红外线滤光元件；以及降低第二红外线滤光元件的高度至暴露出第一红外线滤光元件，其中降低的第二红外线滤光元件在基板的第二区域上且邻接第一红外线滤光元件。依据本专利技术的一实施例，上述降低的第二红外线滤光元件的高度等于或低于上述第一红外线滤光元件的高度。依据本专利技术的又一实施例，上述方法还包含：在第一红外线滤光元件和降低的第二红外线滤光元件上形成平坦层；在平坦层上形成第三红外线滤光元件，其中第三红外线滤光元件位于第一红外线滤光元件的上方；以及在平坦层上形成彩色滤光元件，其中彩色滤光元件位于降低的第二红外线滤光元件的上方。依据本专利技术的又一实施例，上述第三红外线滤光元件是红外线通过滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述彩色滤光元件是形成以具有红色光滤光部、蓝色光滤光部和绿色光滤光部。依据本专利技术的又一实施例，上述第一红外线滤光元件是红外线通过滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第一红外线滤光元件是白色滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第二红外线滤光元件是红外线截止滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第一红外线滤光元件是形成以包含光敏感性材料。依据本专利技术的又一实施例，上述基板是提供以在第一区域中具有用以检测红外线光的第一光二极管且在第二区域中具有用以检测可见光的第二光二极管。根据本专利技术的上述目的，另提出一种制造图像传感器的方法，此方法包含：提供基板，其中基板具有第一区域和第二区域；在基板上形成平坦层；在平坦层上形成第一红外线滤光元件，其中第一红外线滤光元件位于基板的第一区域的上方；在平坦层上形成彩色滤光元件，其中彩色滤光元件位于基板的第二区域的上方；在第一红外线滤光元件上形成第二红外线滤光元件；在第二红外线滤光元件和彩色滤光元件上沉积第三红外线滤光元件，其中沉积的第三红外线滤光元件覆盖第二红外线滤光元件；以及降低第三红外线滤光元件的高度至暴露出第二红外线滤光元件，其中降低的第三红外线滤光元件在基板的第二区域上方且邻接第二红外线滤光元件。依据本专利技术的一实施例，上述降低的第三红外线滤光元件的高度等于或低于上述第二红外线滤光元件的高度。依据本专利技术的又一实施例，上述第一红外线滤光元件是红外线通过滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第二红外线滤光元件是红外线通过滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第二红外线滤光元件是白色滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第三红外线滤光元件是红外线截止滤光元件。依据本专利技术的又一实施例，上述第二红外线滤光元件是形成以包含光敏感性材料。依据本专利技术的又一实施例，上述彩色滤光元件是形成以具有红色光滤光部、蓝色光滤光部和绿色光滤光部。依据本专利技术的又一实施例，上述基板是提供以在第一区域中具有用以检测红外线光的第一光二极管且在第二区域中具有用以检测可见光的第二光二极管。根据本专利技术的上述目的，另提出一种制造图像传感器的方法，此方法包含：提供基板，其中基板具有第一区域和第二区域；在基板上形成平坦层；在平坦层上形成彩色滤光元件，其中彩色滤光元件位于基板的第一区域的上方；在平坦层上形成红外线通过滤光元件，其中红外线通过滤光元件位于基板的第二区域的上方；在彩色滤光元件和红外线通过滤光元件上沉积红外线截止滤光元件，其中沉积的红外线截止滤光元件覆盖红外线通过滤光元件；以及降低红外线截止滤光元件的高度至暴露出红外线通过滤光元件，其中降低的红外线截止滤光元件在基板的第一区域上方且邻接红外线通过滤光元件。附图说明图1为本专利技术实施例的图像传感器的剖面示意图；图2A至图2E为本专利技术实施例的制造图像传感器的各种中间阶段的示意图；图3为本专利技术实施例的图像传感器的剖面示意图；图4A至图4E为本专利技术实施例的制造图像传感器的各种中间阶段的示意图；以及图5为本专利技术实施例的图像传感器的剖面示意图。符号说明100、200、300、400、500：图像传感器100B、300B：蓝色像素区100C、300C：彩色像素区100G、300G：绿色像素区100IR、300IR：红外线像素区100R、300R：红色像素区110、210、310、410、510：基板110A、210A、310A、410A、510A：可见光感测区域110B、210B、310B、410B、510B：红外光感测区域121、221、331、431、541：第一红外线滤光元件122、222、341、441、542：第二红外线滤光元件130、230、320、420、520：平坦层141、241、342、442：第三红外线滤光元件142、242、332、432、530：彩色滤光元件142B、242B、332B、432B、530B：蓝色光滤光部142G、242G、332G、432G、530G：绿色光滤光部142R、242R、332R、432R、530R：红色光滤光部150、250、350、450、550：间隔层160、260、360、460、560：微透镜层H221、H222、H441、H442：高度具体实施方式请参照图1，其为本专利技术实施例的图像传感器100的剖面示意图。图像传感器100可为背侧照光式(back-sideilluminated；BSI)或前侧照光式(front-sideilluminated；FSI)互补式金属氧化物半导体(complementarymetaloxidesemiconductor；CMOS)图像传感器、电荷耦合元件(chargecoupleddevice；CCD)图像传感器或其他相似的图像传感器。图像传感器100包含排列为一矩阵的多个感测像素。每一个感测像素具有用以检测可见光的彩色像素区100C和用以检测红外光的红外线像素区100IR。为方便说明，图1仅绘示出一个彩色像素区100C和一个红外线像素区100IR(即一个感测像素)。彩色像素区100C包含用以检测在红色光频带中的入射光的红色像素区100R、用以检测在蓝色光频带中的入射光的蓝色像素区100B和用以检测在绿色光频带中的入射光的绿色像素区100G。图像传感器100包含基板110、第一红外线滤光元件121、第二红外线滤光元件122、平坦层130、第三红外线滤光元件141、彩色滤光元件142、间隔层150和微透镜层160。如图1所示，基板110在每一个感测像素中具有可见光感测区域110A和红外光感测区域110B。在基板110中，三个光二极管(图未绘示)可分别配置在红色像素区100R、蓝本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制造一图像传感器的方法，包含：提供一基板；在该基板的一第一区域上形成一第一红外线滤光元件；在该基板和该第一红外线滤光元件上沉积一第二红外线滤光元件，其中该沉积的第二红外线滤光元件覆盖该第一红外线滤光元件；以及降低该第二红外线滤光元件的高度至暴露出该第一红外线滤光元件，其中该降低的第二红外线滤光元件在该基板的一第二区域上且邻接该第一红外线滤光元件。

【技术特征摘要】
2016.09.11 US 15/261,9971.一种制造一图像传感器的方法，包含：提供一基板；在该基板的一第一区域上形成一第一红外线滤光元件；在该基板和该第一红外线滤光元件上沉积一第二红外线滤光元件，其中该沉积的第二红外线滤光元件覆盖该第一红外线滤光元件；以及降低该第二红外线滤光元件的高度至暴露出该第一红外线滤光元件，其中该降低的第二红外线滤光元件在该基板的一第二区域上且邻接该第一红外线滤光元件。2.如权利要求1所述的方法，其中该降低的第二红外线滤光元件的高度等于或低于该第一红外线滤光元件的高度。3.如权利要求1所述的方法，还包含：在该第一红外线滤光元件和该降低的第二红外线滤光元件上形成一平坦层；在该平坦层上形成一第三红外线滤光元件，其中该第三红外线滤光元件位于该第一红外线滤光元件的上方；以及在该平坦层上形成一彩色滤光元件，其中该彩色滤光元件位于该降低的第二红外线滤光元件的上方。4.如权利要求3所述的方法，其中该第三红外线滤光元件是一红外线通过滤光元件。5.如权利要求3所述的方法，其中该彩色滤光元件是形成以具有红色光滤光部、蓝色光滤光部和绿色光滤光部。6.如权利要求1所述的方法，其中该第一红外线滤光元件是一红外线通过滤光元件。7.如权利要求1所述的方法，其中该第一红外线滤光元件是一白色滤光元件。8.如权利要求1所述的方法，其中该第二红外线滤光元件是一红外线截止滤光元件。9.如权利要求1所述的方法，其中该第一红外线滤光元件是形成以包含一光敏感性材料。10.如权利要求1所述的方法，其中该基板是提供以在该第一区域中具有用以检测红外线光的一第一光二极管且在该第二区域中具有用以检测可见光的至少一第二光二极管。11.一种制造一图像传感器的方法，包含：提供一基板，其中该基板具有一第一区域和一第二区域；在该基板上形成一平坦层；在该平坦层上形成一第一红外线滤光元件，其中该第一红外线滤光元件位于该基板的第一区域的上方；在该平坦层上形...

【专利技术属性】
技术研发人员：谢於叡，陈柏男，杨雅净，
申请(专利权)人：奇景光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾,71