一种用于LED衬底晶片的清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种用于LED衬底晶片的清洗装置，包括主箱体，所述主箱体内分隔有无水乙醇池、酸溶液池和去离子水池，所述无水乙醇池的一侧固定有挡板，所述挡板的一侧设有固定在主箱体内侧壁上的卡环，所述卡环上设有螺纹孔，所述卡环通过螺纹孔螺纹连接有螺杆，所述螺杆的一端与挡板固定连接，所述螺杆的另一端贯穿主箱体并固定有把手，所述挡板的底端设有第一滑块，所述第一滑块的一侧设有紧锁螺杆，所述紧锁螺杆贯穿主箱体套设有第一复位弹簧，所述无水乙醇池远离第一滑块的侧壁设有第一开关，所述酸溶液池内设有过滤板。本发明专利技术可以进行大量的衬底晶片的清洗，操作简单，可以很好的解决没有专门的装置清洗衬底晶片的现状。

A cleaning device for LED substrate wafers

The invention discloses a device for cleaning LED substrate wafer, comprising a main box body, the box body is divided with ethanol pool, pool acid solution and deionized water, ethanol and one side of the pool is fixed with a baffle, one side of the baffle is provided with a clamping ring is fixed on the main body on the side wall of the box and the ring is provided with a thread hole, the clamp ring is connected with a screw thread through the threaded hole, one end of the screw and the baffle plate is fixedly connected with the other end of the screw through the main body and a handle is fixed, the bottom end of the baffle plate is provided with a first slider, one side of the first slide block is provided with a lock screw the fastening screw through the main body is sleeved with a first reset spring, the ethanol pool far away from the side wall of the first slide block is provided with a first switch, the acid solution tank is provided with a filter plate. The invention can carry out a large number of substrate wafers cleaning, simple operation, and can be a good solution to the lack of special devices to clean substrate wafers.

【技术实现步骤摘要】
一种用于LED衬底晶片的清洗装置
本专利技术涉及LED衬底晶片的
，尤其涉及一种用于LED衬底晶片的清洗装置。
技术介绍
现在在人们日常的生活中，LED的使用已经越来越离不开人们的生活，LED衬底晶片大多数为蓝宝石，蓝宝石因其工艺成熟，可以大面积的获得，所以大容量的清洗蓝宝石显得尤为重要，但现在的清洗装置中，没有特定针对蓝宝石的清洗装置，蓝宝石的清洗工艺为，先用加热的无水乙醇清洗三分钟，再转入到加热的酸溶液清洗五到十分钟，酸溶液的比例为，硫酸和磷酸的体积比为3:1，经过酸溶液清洗过后，转入到去离子水中润洗，完成清洗，针对技术的缺点，提出这样一套蓝宝石的清洗装置，该装置可以进行大量的衬底晶片的清洗，操作简单，可以很好的解决没有专门的清洗装置清洗衬底晶片的现状。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决现有技术中存在的现在的清洗装置中，没有特定针对蓝宝石的清洗装置的缺点，而提出的一种用于LED衬底晶片的清洗装置。为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：一种用于LED衬底晶片的清洗装置，包括主箱体，所述主箱体内分隔有无水乙醇池、酸溶液池和去离子水池，所述无水乙醇池的一侧固定有挡板，所述挡板的一侧设有固定在主箱体内侧壁上的卡环，所述卡环上设有螺纹孔，所述卡环通过螺纹孔螺纹连接有螺杆，所述螺杆的一端与挡板固定连接，所述螺杆的另一端贯穿主箱体并固定有把手，所述挡板的底端设有第一滑块，所述第一滑块的一侧设有紧锁螺杆，所述紧锁螺杆贯穿主箱体套设有第一复位弹簧，所述无水乙醇池远离第一滑块的侧壁设有第一开关，所述酸溶液池内设有过滤板，所述过滤板的一侧通过第一转轴与酸溶液池的内壁转动连接，所述过滤板远离第一转轴的底部设有复位杆，所述复位杆的一侧固定连接有卡块，所述酸溶液池的内侧壁上设有与卡块对应的卡口，所述复位杆的底端贯穿酸溶液池固定连接有卡环，所述酸溶液池靠近第一转轴的一侧侧壁设有第二开关，所述第二开关的出口与去离子水池位置对应，所述主箱体的顶部设有进料口，所述进料口的一侧设有固定在主箱体上侧的电机，所述电机的驱动端连接有第二齿轮，所述第二齿轮的两侧均设有与其啮合连接有第一齿轮，所述第一齿轮通过连接轴与主箱体的顶部转动连接，两个所述连接轴的下端贯穿主箱体的顶部并分别向无水乙醇池和酸溶液池内延伸，所述连接轴的下端固定有搅拌棒。优选地，所述挡板与无水乙醇池的内壁设有缓冲装置，所述缓冲装置由第二收缩杆和第二复位弹簧组成。优选地，所述无水乙醇池的下侧设有废液收集池，所述液体收集池内固定有过滤网。优选地，所述无水乙醇池和酸溶液池的内侧壁上均设有加热块。优选地，所述挡板的上侧设有第二滑块，所述无水乙醇池内顶部设有与第二滑块对应的滚槽。优选地，所述酸溶液池的一侧内壁设有与卡块对应的滑轨。优选地，所述酸溶液池的内底部与过滤板之间设有第一收缩杆。与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：主箱体内分隔设有无水乙醇池、酸溶液池和去离子水池，可针对对晶片进行不同工艺的清洗，无水乙醇池和酸溶液池中设有加热块和搅拌棒，当晶片进入到两个清洗池，溶液加热后，溶液中的分子活动速度快，与晶片的接触更加的频繁，加上搅拌棒，避免晶片与晶片之间过度接触，可以很好的让溶液与晶片接触，达到清洗的目的，设置紧锁螺杆，紧锁螺杆的一侧固定第一滑块，紧锁螺杆上设有复位弹簧，当往外拽紧锁螺杆时候，带动第一滑块滑出挡板的底部，无水乙醇会进入到下侧的液体收集池中，液体收集池设置了过滤板，过滤无水乙醇中的杂质，可以重复的使用，松开紧锁螺杆，在复位弹簧的作用下，第一滑块会挡住挡板的下侧，这样可以使操作更加的简单，转动把手带动螺杆上的挡板往前滑动，将晶片推入到酸溶液池中的过滤板上，过滤板上的晶片清洗完成后，通过卡块向上方，卡住上侧的卡口，卡块带动复位杆的过滤板倾斜，打开第二开关，晶片进入去离子水池中，完成清洗。附图说明图1为本专利技术提出的一种用于LED衬底晶片的清洗装置的结构示意图；图2为本专利技术提出的一种用于LED衬底晶片的清洗装置A处放大示意图。图中：1主箱体、2无水乙醇、3酸溶液池、4去离子水池、5挡板、6第一轴承、7螺杆、8把手、9第一滑块、10紧锁螺杆、11第一复位弹簧、12液体收集池、13过滤网、14过滤板、15转轴、16复位杆、17卡块、18进料口、19电机、20第二齿轮、21第一齿轮、22搅拌棒、23缓冲装置、24加热快、25第一收缩杆、26第二收缩杆、27第二复位弹簧、28卡环。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。参照图1-2，一种用于LED衬底晶片的清洗装置，包括主箱体1，主箱体1内分隔有无水乙醇池2、酸溶液池3和去离子水池4，无水乙醇池2的一侧固定有挡板5，挡板5的一侧设有固定在主箱体1内侧壁上的卡环6，卡环6上设有螺纹孔，卡环6通过螺纹孔螺纹连接有螺杆7，螺杆7的一端与挡板5固定连接，螺杆7的另一端贯穿主箱体1并固定有把手8，挡板5的底端设有第一滑块9，第一滑块9的一侧设有紧锁螺杆10，紧锁螺杆10贯穿主箱体1套设有第一复位弹簧11，无水乙醇池2远离第一滑块9的侧壁设有第一开关，酸溶液池3内设有过滤板14，过滤板14的一侧通过第一转轴15与酸溶液池3的内壁转动连接，过滤板14远离第一转轴15的底部设有复位杆16，复位杆16的一侧固定连接有卡块17，酸溶液池3的内侧壁上设有与卡块17对应的卡口，复位杆16的底端贯穿酸溶液池3固定连接有卡环28，酸溶液池3靠近第一转轴15的一侧侧壁设有第二开关，第二开关的出口与去离子水池4位置对应，主箱体1的顶部设有进料口18，进料口18的一侧设有固定在主箱体1上侧的电机19，电机19的驱动端连接有第二齿轮20，第二齿轮20的两侧均设有与其啮合连接有第一齿轮21，第一齿轮21通过连接轴与主箱体1的顶部转动连接，两个连接轴的下端贯穿主箱体1的顶部并分别向无水乙醇池2和酸溶液池3内延伸，连接轴的下端固定有搅拌棒22。本专利技术中，挡板5与无水乙醇池2的内壁设有缓冲装置23，主要起固定挡板5的作用，无水乙醇池2和酸溶液池3上设有加热块24，加热块24能够加热两个清洗池内的溶液，让溶液与晶片接触频繁，加快清洗的速度，无水乙醇池2顶端内壁设有与挡板5滑动时对应的滑槽，通过转动把手8，滑动挡板5的时候，可以很容易的滑动挡板5，酸溶液池3的一侧内壁设有与卡块17滑动对应的滑轨，通过按下卡块17，让卡块17可以在滑轨中滑动，达到抬起过滤板14的目的，酸溶液池3的池底与过滤板14之间设有第一收缩杆25，抬起过滤板14时缓冲作用。本专利技术中，将晶片放入进料口18，同时让加热块24和电机19同时工作，让晶片在无水乙醇池2搅拌均匀，达到第一次清洗的目的，在无水乙醇池2清洗完毕后，往外拽动紧锁螺杆10，紧锁螺杆10带动第一滑块9滑出挡板5底本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于LED衬底晶片的清洗装置，包括主箱体（1），所述主箱体（1）内分隔有无水乙醇池（2）、酸溶液池（3）和去离子水池（4），其特征在于，所述无水乙醇池（2）的一侧固定有挡板（5），所述挡板（5）的一侧设有固定在主箱体（1）内侧壁上的卡环（6），所述卡环（6）上设有螺纹孔，所述卡环（6）通过螺纹孔螺纹连接有螺杆（7），所述螺杆（7）的一端与挡板（5）固定连接，所述螺杆（7）的另一端贯穿主箱体（1）并固定有把手（8），所述挡板（5）的底端设有第一滑块（9），所述第一滑块（9）的一侧设有紧锁螺杆（10），所述紧锁螺杆（10）贯穿主箱体（1）套设有第一复位弹簧（11），所述无水乙醇池（2）远离第一滑块（9）的侧壁设有第一开关，所述酸溶液池（3）内设有过滤板（14），所述过滤板（14）的一侧通过第一转轴（15）与酸溶液池（3）的内壁转动连接，所述过滤板（14）远离第一转轴（15）的底部设有复位杆（16），所述复位杆（16）的一侧固定连接有卡块（17），所述酸溶液池（3）的内侧壁上设有与卡块（17）对应的卡口，所述复位杆（16）的底端贯穿酸溶液池（3）固定连接有卡环（28），所述酸溶液池（3）靠近第一转轴（15）的一侧侧壁设有第二开关，所述第二开关的出口与去离子水池（4）位置对应，所述主箱体（1）的顶部设有进料口（18），所述进料口（18）的一侧设有固定在主箱体（1）上侧的电机（19），所述电机（19）的驱动端连接有第二齿轮（20），所述第二齿轮（20）的两侧均设有与其啮合连接有第一齿轮（21），所述第一齿轮（21）通过连接轴与主箱体（1）的顶部转动连接，两个所述连接轴的下端贯穿主箱体（1）的顶部并分别向无水乙醇池（2）和酸溶液池（3）内延伸，所述连接轴的下端固定有搅拌棒（22）。...

【技术特征摘要】
1.一种用于LED衬底晶片的清洗装置，包括主箱体（1），所述主箱体（1）内分隔有无水乙醇池（2）、酸溶液池（3）和去离子水池（4），其特征在于，所述无水乙醇池（2）的一侧固定有挡板（5），所述挡板（5）的一侧设有固定在主箱体（1）内侧壁上的卡环（6），所述卡环（6）上设有螺纹孔，所述卡环（6）通过螺纹孔螺纹连接有螺杆（7），所述螺杆（7）的一端与挡板（5）固定连接，所述螺杆（7）的另一端贯穿主箱体（1）并固定有把手（8），所述挡板（5）的底端设有第一滑块（9），所述第一滑块（9）的一侧设有紧锁螺杆（10），所述紧锁螺杆（10）贯穿主箱体（1）套设有第一复位弹簧（11），所述无水乙醇池（2）远离第一滑块（9）的侧壁设有第一开关，所述酸溶液池（3）内设有过滤板（14），所述过滤板（14）的一侧通过第一转轴（15）与酸溶液池（3）的内壁转动连接，所述过滤板（14）远离第一转轴（15）的底部设有复位杆（16），所述复位杆（16）的一侧固定连接有卡块（17），所述酸溶液池（3）的内侧壁上设有与卡块（17）对应的卡口，所述复位杆（16）的底端贯穿酸溶液池（3）固定连接有卡环（28），所述酸溶液池（3）靠近第一转轴（15）的一侧侧壁设有第二开关，所述第二开关的出口与去离子水池（4）位置对应，所述主箱体（1）的顶部设有进料口（18），所述进料口（18）的一侧设有固定在主箱体（1）上侧的电机（19），所述电机（19...

【专利技术属性】
技术研发人员：戴龙岩，
申请(专利权)人：惠州市烁达德高光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44