掩膜及其制备方法技术

技术编号:17208758 阅读:154 留言:0更新日期:2018-02-07 20:57
一种掩膜,其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件,所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面,所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边,所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面,所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口,沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端,每一个磁性元件逐渐变细。所述掩膜用于沉积OLED显示面板,可降低或避免Shadow Effect。本申请还提供所述掩膜的制备方法。

Mask and its preparation method

A mask, which comprises a plastic layer and the plastic layer combined with the frame body and a plurality of magnetic elements, the plastic layer includes a first surface and a second surface opposite, the box body is arranged on the first surface of the plastic layer and covering the periphery of the first surface, the first surface of the plurality of the magnetic element is arranged in a plastic layer, the plastic layer is provided with a plurality of openings through the first surface and the second surface, along a magnetic element and the first surface of each magnetic element end pointing to the side away from the first surface of each magnetic element tapering. The mask for deposition of OLED display panel, can reduce or avoid Shadow Effect. The present application also provides a preparation method of the mask.

【技术实现步骤摘要】
掩膜及其制备方法
本专利技术涉及一种掩膜及其制备方法,尤其涉及一种用于沉积OLED显示面板的掩膜及其制备方法。
技术介绍
有机发光二极管(OLED)显示面板的制备通常包括采用气相沉积的方式在衬底(如薄膜晶体管衬底)上形成有机发光材料层的步骤。而沉积有机发光材料层的步骤需要使用一掩膜,所述掩膜设置在衬底(如薄膜晶体管衬底)上,掩膜上开设有多个通孔,蒸发源蒸发的材料通过掩膜上的通孔沉积到衬底(如薄膜晶体管衬底)上。每一个通孔处沉积的材料对应形成OLED显示面板的一个子像素。通常每个通孔的尺寸设计成与每一个子像素的尺寸相当。然而,最终使用该掩膜沉积形成的子像素常常大于设定的子像素的尺寸。例如,当设定的子像素图案的宽度为x,长度为y,若设置掩膜上的通孔的尺寸与子像素图案的尺寸相同,由于使用掩膜和蒸镀工艺在衬底上形成的子像素图案的过程中形成掩膜与衬底之间存在间隙,使得实际制得的子像素图案的宽度会大于x,长度会大于y;此现象称之为shadoweffect。因此,掩膜对OLED显示面板的生产精度以及性能有重要影响。
技术实现思路
鉴于以上内容,有必要提供一种能够降低shadoweffect的掩膜及其制备方法。一种掩膜,其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件,所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面,所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边,所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面,所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口,沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端,每一个磁性元件逐渐变细。一种掩膜的制备方法,其包括如下步骤:提供一金属板,在所述金属板的一表面上形成一塑料层;对所述金属板进行局部蚀刻,蚀刻后的金属板形成为框体,该框体覆盖所述塑料层的周边;在所述塑料层具有所述框体的表面形成间隔设置的多个磁性元件,沿远离塑料层的方向每一个磁性元件逐渐变细;在所述塑料层未被所述框体和所述多个磁性元件覆盖的区域上开设贯穿所述塑料层的多个开口。一种掩膜的制备方法,其包括如下步骤:提供一金属板,在所述金属板的一表面上形成一塑料层,所述金属板的材质为具有磁性的金属或合金;对所述金属板进行局部蚀刻,蚀刻后的金属板形成为框体和间隔设置的多个磁性元件,该框体覆盖所述塑料层的周边,所述多个磁性元件被所述框体所围绕;在所述塑料层未被所述框体和所述多个磁性元件覆盖的区域上开设贯穿所述塑料层的多个开口。所述掩膜具有磁性,沉积过程中掩膜与沉积设备中用于支撑待沉积的衬底的磁板相互吸引,使掩膜与待沉积的衬底之间更紧密的结合,降低或者避免造成ShadowEffect;此外,磁性元件的形状设计利于沉积过程中引导蒸镀材料进入开口时的入射角度,使蒸镀材料沉积到衬底的预定的位置,进一步降低或者避免ShadowEffect。所述掩膜的制备方法工艺简单。附图说明图1是本专利技术较佳实施方式的掩膜的平面示意图。图2是图1沿剖面线II-II剖开的剖面示意图。图3是本专利技术的掩膜的磁性元件的变更例示意图。图4a-4g是本专利技术第一实施方式的掩膜的制备示意剖面图。图5a-5f是本专利技术第二实施方式的掩膜的制备示意剖面图。图6是本专利技术较佳实施方式的掩膜的使用状态示意图。主要元件符号说明如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本专利技术。具体实施方式请一并参阅图1至图2,本专利技术较佳实施方式的掩膜100包括一塑料层10及与该塑料层10结合的框体20。如图2所示,该塑料层10包括相对的第一表面101和第二表面103。所述框体20设置在塑料层10的第一表面101,且覆盖第一表面101的周边并延伸形成一闭合的框。所述塑料层10上开设有贯穿所述第一表面101和所述第二表面103的多个开口11。所述多个开口11相互间隔设置。本实施例中,所述多个开口11成矩阵排布。所述塑料层10本领域常规使用的各种塑料,优选为聚酰亚胺。所述框体20用于支撑所述塑料层10,并提高所述掩膜100的整体强度。所述框体20的材质可为金属或合金,优选具有磁性的金属或合金。沉积OLED显示面板的有机发光材料层时,掩膜与衬底(如薄膜晶体管衬底)均放入沉积设备(如蒸镀机,图未示)中,沉积设备中具有一磁板(图未示),且沉积过程中,所述磁板、所述衬底、所述掩膜为依次层叠放置。如果掩膜100没有磁性,沉积过程中掩膜与衬底容易形成一间隙,进而造成ShadowEffect。当掩膜100具有磁性,沉积过程中掩膜与磁板相互吸引,使掩膜与衬底之间更紧密的结合,降低或避免造成ShadowEffect。虽然当框体20的材质为具有磁性的金属或合金能使掩膜100具有磁性,但框体20仅设置在塑料层10的周边,不能较好的保证塑料层10的其他区域与衬底之间的紧密的结合,因此,为进一步降低所述掩膜100与衬底之间的间隙,所述掩膜100还包括设置于所述塑料层10的第一表面101上的多个磁性元件30。本实施例中,每一个磁性元件30位于相邻的四个开口11之间,所述四个开口11分别位于一矩形的四个顶角。所述框体20围绕所述多个磁性元件30。其它实施例中,所述多个磁性元件30间隔设置于第一表面101未开设开口11的位置即可。每一个磁性元件30的材质为含有磁性粒子的油墨。所述磁性粒子可为本领域常规使用的铁颗粒、镍颗粒和钴颗粒。每一个磁性元件30的材质也可为具有磁性的金属或合金,如铁、钴、镍和因瓦合金。当所述磁性元件30的材质为金属或合金时,优选所述框体20和所述磁性元件30采用相同的材料。如图1、图2所示,每一个磁性元件30包括与所述第一表面101相对的底面31和连接于所述底面31与所述第一表面101之间的至少一个侧面33。优选的,如图1和图2所示,每一磁性元件30呈棱台状,沿第一表面101指向底面31的方向,每一磁性元件30逐渐变细;即每一磁性元件30的平行于第一表面101的截面的面积在沿第一表面101指向底面31的方向逐渐变小。也即,每一个磁性元件30的至少一个侧面33相对塑料层10的第一表面101倾斜(如侧面33与第一表面101的夹角为25-70度),而非垂直。请参阅图6,使用该掩膜100对一衬底80进行蒸镀沉积子像素图案时,所述衬底80和所述掩膜100为层叠放置,且所述衬底80放置于该掩膜100具有第二表面103的一侧;所述蒸镀材料从该掩膜100具有第一表面101的一侧穿过开口11沉积到衬底80上。所述磁性元件30的侧面33设置为相对塑料层10的第一表面101倾斜,有利于沉积过程中引导蒸镀材料沿所述倾斜的侧面33进入开口11,从而可影响蒸镀材料进入开口11时的入射角度,使蒸镀材料沉积到衬底80的预定的位置,进一步降低或避免ShadowEffect。当然,所述磁性元件30的侧面33的倾斜角度、磁性元件的高度等参数需要进行调整设定以使蒸镀材料较好地沉积到衬底80的预定的位置。本实施例中,如图1-2所示,每一个磁性元件30包括与所述第一表面101相对的底面31(正八边形)和连接于所述底面31与所述第一表面101之间的八个侧面33。所述每一个侧面33均相对塑料层10的第一表面101倾斜。可以理解的,所述磁性元件30的形状还可根据需要进行调整,如图3所示,每一个磁性元件30包括四边形的底面31和连接于本文档来自技高网...
掩膜及其制备方法

【技术保护点】
一种掩膜,其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件,所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面,所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边,所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面,所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口,其特征在于:沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端,每一个磁性元件逐渐变细。

【技术特征摘要】
2016.07.29 US 62/3681851.一种掩膜,其包括塑料层及与所述塑料层结合的框体和多个磁性元件,所述塑料层包括相对的第一表面和第二表面,所述框体设置在所述塑料层的第一表面且覆盖第一表面的周边,所述多个磁性元件设置在所述塑料层的第一表面,所述塑料层上开设有贯穿所述第一表面和所述第二表面的多个开口,其特征在于:沿每一个磁性元件与第一表面结合的一端指向每一个磁性元件远离第一表面的一端,每一个磁性元件逐渐变细。2.如权利要求1所述的掩膜,其特征在于:每一个磁性元件的材质为含有磁性粒子的油墨或具有磁性的金属或合金。3.如权利要求1所述的掩膜,其特征在于:所述框体的材质为金属或合金。4.如权利要求3所述的掩膜,其特征在于:所述框体和所述磁性元件的材质均为具有磁性的金属或合金。5.如权利要求3所述的掩膜,其特征在于:每一个磁性元件包括与所述第一表面相对的底面和连接于所述底面与所述第一表面之间的至少一个侧面,所述至少一个侧面相对第一表面倾斜。6.如权利要求1所述的掩膜,其特征在于:...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈仁杰林昌廷吕柏毅
申请(专利权)人:鸿富锦精密工业深圳有限公司鸿海精密工业股份有限公司
类型:发明
国别省市:广东,44

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