一种用于硅片散热的散热装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种用于硅片散热的散热装置，散热装置包括相对的两端向外开口的风道，风道中设置有用于放置石英舟的载物台，石英舟用于放置硅片，台面上开设有多个均匀布置的通风孔，风道的相对的两端分别设置有送风系统和排气系统，送风系统和排气系统相配合，在风道中形成穿过通风孔和硅片的表面的散热气流，散热气流的流动方向平行于硅片的表面。送风系统和排气系统同时工作，利于在风道的两个开口形成较大的气压差，利于散热气流流动，散热气流沿风道流动时，直接与硅片的表面接触，节省硅片的冷却时间。散热气流不会对硅片的表面产生垂直的压力，避免气流冲击硅片的表面造成损坏，或导致硅片与石英舟的卡位处遭到破坏。

Radiating device for silicon wafer heat radiation

The utility model provides a heat radiating device used for radiating the heat dissipating device comprises a silicon wafer, opposite ends of duct opens to the outside, the air duct is provided with a table placed quartz boat, quartz boat used for placing the wafer, the table is provided with a plurality of ventilation holes are uniformly arranged, opposite ends are respectively arranged on the air duct air supply and exhaust system, combined with air supply and exhaust system, the formation of surface heat flow through the ventilation hole and wafer surface in the air duct, the cooling air flow direction parallel to the wafer. Ventilation system and exhaust system to work at the same time, the two opening in the air duct to form a larger pressure difference, conducive to heat flow, heat flow along the air flow, direct contact with the surface of the silicon wafer, save the cooling time. The cooling air to the surface of the silicon wafer to produce the vertical pressure, avoid the damage caused by air impact surface of silicon, silicon and quartz or lead screens at the destruction of the boat.

【技术实现步骤摘要】
一种用于硅片散热的散热装置
本技术涉及太阳能电池的
，尤其涉及一种用于硅片散热的散热装置。
技术介绍
太阳能电池是一种有效地吸收太阳辐射能，利用光生伏打效应把光能转换成电能的器件，当太阳光照在半导体P-N结上，形成新的空穴一电子对，在P-N结电场的作用下，空穴由N区流向P区，电子由P区流向N区，接通电路后就形成电流。由于是利用各种势垒的光生伏特效应将太阳光能转换成电能的固体半导体器件，故又称太阳能电池或光伏电池，是太阳能电池阵电源系统的重要组件。太阳能电池主要有晶硅电池、三五族半导体电池、无机电池和有机电池等，其中晶硅太阳能电池居市场主流主导地位。晶硅太阳能电池的电池片的基材一般以硅为底料，再经过其他工艺如扩散处理等最终形成基材，在通过扩散炉扩散后的硅片的出炉温度很高，大概700℃左右，需要经过冷却后再进行其他处理。现有的用于硅片散热的散热装置如图1所示，一般是一个载物台，载物台的台面2′为一个平整的平面，用于放置石英舟，石英舟内放置有完成扩散后出炉的硅片，多片硅片在石英舟内为呈竖直并排堆叠的方式放置。石英舟的上方一般通过排气扇向上排气，带动石英舟处的空气流动，但是由于整个台面2′为敞开式台面，石英舟中由于设置有硅片，气流阻力较大，在向上排气时，大部分的空气会从台面2′的四周并绕过石英舟的外围通过排气扇排气，并未经过石英舟中的硅片，硅片的散热效果不佳，通过需要半个小时以上才能降到合适的温度。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种用于硅片散热的散热装置，绝大部分气流能通过石英舟内部的硅片，加快硅片的散热速度，节省硅片的冷却时间，提高了效率。为达此目的，本技术采用以下技术方案：一种用于硅片散热的散热装置，包括相对的两端向外开口的风道，所述风道中设置有用于放置石英舟的载物台，所述石英舟用于放置硅片，所述载物台的台面上开设有多个均匀布置的通风孔，所述风道的相对的两端之中，一个设置有向所述风道送风的送风系统，另一个设置有将所述风道中的气体抽出的排气系统，所述送风系统和所述排气系统相配合，在所述风道中形成穿过通风孔和硅片的表面的散热气流，所述散热气流的流动方向平行于所述硅片的表面。其中，所述风道靠近两个所述开口的位置均设置有网状固定板，所述送风系统包括进气风扇，多个所述进气风扇均匀固定于靠近其中一个所述开口的所述网状固定板，所述排气系统包括排气风扇，多个所述排气风扇均匀固定于靠近另一个所述开口的所述网状固定板。其中，所述风道一端的所述开口连通有位于所述风道外部的抽气风机，另一端的所述开口连通有位于所述风道外部的送气风机。其中，相邻的所述通风孔之间形成用于支撑所述石英舟的支撑网格，所述石英舟的支撑腿放置于所述支撑网格上。其中，所述风道由多个侧壁合围而成，其中一个所述侧壁上开设有供所述石英舟进出的进出口，所述进出口通过密封门密封。其中，所述风道中设置有温度传感器和与所述温度传感器电连接的处理器，所述温度传感器设置于所述石英舟的沿散热气流的流动方向的后方。其中，所述散热装置还包括显示装置，所述显示装置设置于所述密封门的外部，所述显示装置与所述处理器电连接，以通过所述显示装置显示所述温度传感器探测的温度值。其中，所述散热装置还包括与所述处理器电连接的提醒器，所述提醒器设置于所述密封门的外部。其中，所述送风系统和所述排气系统通过所述处理器控制运行的功率，所述送风系统的送气流量和所述排气系统的抽气流量一致，且所述送风系统的送气流量和所述排气系统的抽气流量均跟随所述温度传感器的检测值的变化而变化。其中，所述送风系统的进风口还连通有空气净化器或保护气体发生器。有益效果：本技术提供了一种用于硅片散热的散热装置，散热装置包括相对的两端向外开口的风道，所述风道中设置有用于放置石英舟的载物台，所述石英舟用于放置硅片，所述台面上开设有多个均匀布置的通风孔，所述风道的相对的两端之中，一个设置有向所述风道送风的送风系统，另一个设置有将所述风道中的气体抽出的排气系统，所述送风系统和所述排气系统相配合，在所述风道中形成穿过通风孔和硅片的表面的散热气流，所述散热气流的流动方向平行于所述硅片的表面。送风系统和排气系统同时工作，利于在风道的两个开口形成较大的气压差，利于散热气流流动，散热气流沿风道流动时，绝大部分散热气流通过通风孔后，无法绕过石英舟，会继续流经石英舟内部的硅片之间的空隙，直接与硅片的表面接触，提高了散热速度，节省硅片的冷却时间，提高了效率。散热气流的流动方向与硅片的表面平行，不会对硅片的表面产生垂直的压力，避免气流冲击硅片的表面造成损坏，或导致硅片与石英舟的卡位处遭到破坏。附图说明图1是现有技术的散热装置的结构示意图。图2是实施例1提供的散热装置的结构示意图。图3是实施例1提供的散热装置剖视图。其中：1-风道，11-侧壁，2-台面，21-通风孔，31-密封门，32-显示装置，33-提醒器，34-控制按钮，2′-台面。具体实施方式为使本技术解决的技术问题、采用的技术方案和达到的技术效果更加清楚，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本技术的技术方案。实施例1参考图2-图3，本实施例提供了一种用于硅片散热的散热装置，包括相对的两端向外开口的风道1，风道1中设置有用于放置石英舟的载物台，石英舟用于放置硅片，载物台的台面2上开设有多个均匀布置的通风孔21，风道1的相对的两端之中，一个设置有向风道1送风的送风系统，另一个设置有将风道1中的气体抽出的排气系统，送风系统和排气系统相配合，在风道1中形成穿过通风孔21和硅片的表面的散热气流，散热气流的流动方向平行于硅片的表面。送风系统和排气系统同时工作，利于在风道1的两个开口形成较大的气压差，利于散热气流流动，散热气流沿风道1流动时，绝大部分散热气流通过通风孔21后，无法绕过石英舟，会继续流经石英舟内部的硅片之间的空隙，直接与硅片的表面接触，提高了散热速度，节省硅片的冷却时间，提高了效率。且散热气流的流动方向与硅片的表面平行，不会对硅片的表面产生垂直的压力，避免散热气流冲击硅片的表面造成损坏，或导致硅片与石英舟的卡位处遭到破坏。气流的具体流动方向不作限定，只要与硅片的表面平行即可。一般而言，硅片呈竖直方向排布在石英舟中，散热气流的流动方向可以是上下方向，风道1的顶端可以设置送风系统，风道1的底端设置排气系统，此时散热气流从风道1的顶端流向底端；散热气流的流动方向也可以是从风道1的底端到顶端上，此时风道1的顶端可以设置排气系统，风道1的底端设置送风系统。相应的，散热气流的流动方向还可以是水平方向或者斜向的方向，只要与硅片的表面平行即可。本实施例的一种实施方式中，风道1靠近两个开口的位置均设置有网状固定板，送风系统包括进气风扇，多个进气风扇均匀固定于靠近其中一个开口的网状固定板，排气系统包括排气风扇，多个排气风扇均匀固定于靠近另一个开口的网状固定板。送风系统和排气系统结构简单，只需要通过进气风扇和排气风扇即可实现，均匀分布的进气风扇和排气风扇可以形成更均匀的散热气流，利于保持石英舟上的不同位置的硅片的温度大致相同，便于硅片的分批冷却。排气风扇和进气风扇的位置可以一一对应设置，散热气流的方向更明确，也可以相互错位设置，使得台面2的各个区域的散热气流更均匀。送风本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于硅片散热的散热装置，其特征在于，包括相对的两端向外开口的风道(1)，所述风道(1)中设置有用于放置石英舟的载物台，所述石英舟用于放置硅片，所述载物台的台面(2)上开设有多个均匀布置的通风孔(21)，所述风道(1)的相对的两端之中，一个设置有向所述风道(1)送风的送风系统，另一个设置有将所述风道(1)中的气体抽出的排气系统，所述送风系统和所述排气系统相配合，在所述风道(1)中形成穿过通风孔(21)和硅片的表面的散热气流，所述散热气流的流动方向平行于所述硅片的表面。

【技术特征摘要】
1.一种用于硅片散热的散热装置，其特征在于，包括相对的两端向外开口的风道(1)，所述风道(1)中设置有用于放置石英舟的载物台，所述石英舟用于放置硅片，所述载物台的台面(2)上开设有多个均匀布置的通风孔(21)，所述风道(1)的相对的两端之中，一个设置有向所述风道(1)送风的送风系统，另一个设置有将所述风道(1)中的气体抽出的排气系统，所述送风系统和所述排气系统相配合，在所述风道(1)中形成穿过通风孔(21)和硅片的表面的散热气流，所述散热气流的流动方向平行于所述硅片的表面。2.如权利要求1所述的散热装置，其特征在于，所述风道(1)靠近两个所述开口的位置均设置有网状固定板，所述送风系统包括进气风扇，多个所述进气风扇均匀固定于靠近其中一个所述开口的所述网状固定板，所述排气系统包括排气风扇，多个所述排气风扇均匀固定于靠近另一个所述开口的所述网状固定板。3.如权利要求1所述的散热装置，其特征在于，所述风道(1)一端的所述开口连通有位于所述风道(1)外部的抽气风机，另一端的所述开口连通有位于所述风道(1)外部的送气风机。4.如权利要求1所述的散热装置，其特征在于，相邻的所述通风孔(21)之间形成用于支撑所述石英舟的支撑网格，所述石英舟的支撑腿放置于所述支撑网格上。5.如...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹铭，衡阳，王鹏飞，陈萍，徐义胜，张春华，郑旭然，邢国强，
申请(专利权)人：苏州阿特斯阳光电力科技有限公司，
类型：新型
国别省市：江苏,32