The embodiment of the invention provides a substrate bearing mechanism, a method of using the same and a vapor deposition device, relating to the field of evaporation technology. The utility model can solve the problem that the base of the evaporating plate is not firmly fixed because of the deformation of the gravity in the process of evaporation. The supporting member comprises a bearing surface at the front end of the bearing member for carrying the edge of the plate to be evaporated, and the rear end of the carrying member is fixedly connected with the support frame. At least a part of the lower pressing member is arranged above the bearing surface of the bearing member, and the lower pressing member can press the edge of the plate to be pressed on the bearing surface of the bearing member under the lower pressure state. The bearing member is connected with the back end fixed on the supporting frame, bearing parts in the pressing piece is arranged on the pressing piece, at least a part of the bearing surface, under pressure in the pressure state can be steam pressed in the plating substrate edge bearing surface parts, in order to reduce the evaporation to base the edge of the plate by carrying off the risk bearing surface on the.
【技术实现步骤摘要】
一种基板承载机构及其使用方法、蒸镀装置
本专利技术涉及蒸镀
,尤其涉及一种基板承载机构及其使用方法、蒸镀装置。
技术介绍
真空蒸镀是指在真空环境中,将待成膜物质加热蒸发或升华后,使其在低温工件或基片表面凝结或沉积,形成镀层的工艺。在有机显示领域,有机半导体器件如有机发光二极管中的有机功能层大多是使用真空蒸镀的方式进行加工制作,镀膜工艺的好坏是影响有机显示器件功能优劣的关键因素。现有技术中的蒸镀设备通常将待蒸镀基板水平放置在真空腔室内,其中待蒸镀基板的待蒸镀面向下,在待蒸镀基板的待蒸镀面上贴合包含有待蒸镀图案的掩膜版,蒸镀源设置在掩膜版的下方,蒸镀源在激发状态下将蒸镀材料向上蒸发,其中,蒸镀材料通过掩膜版上的待蒸镀图案中可透过的部分在待蒸镀基板上沉积,从而在待蒸镀基板上形成所需的蒸镀图案。由于待蒸镀基板的中心为待蒸镀区域,为了避免对待蒸镀区域的蒸镀图案造成影响,对待蒸镀基板进行承载固定的基板承载机构只能够与待蒸镀基板的外侧边缘相接触,这样一来,待蒸镀基板的中心就可能由于重力的作用发生下垂变形,从而影响到待蒸镀基板与掩膜版之间的对位精度,进而影响到蒸镀图案的正确性和镀膜层的均一性,甚至可能由于待蒸镀基板的边缘固定尺寸过小,导致待蒸镀基板脱落的事故。通过增加基板承载机构在待蒸镀基板边缘的支撑点能够在一定程度上减小下垂变形量,降低待蒸镀基板脱落的可能性,但是并不能解决上述问题,尤其是当待蒸镀基板的尺寸较大时,下垂变形量也会相应增大,现有技术中还可以采用在待蒸镀区域外用粘性胶对待蒸镀基板进行粘贴的方式,将待蒸镀基板背离蒸镀源的一侧与基板承载机构之间粘贴固定,但 ...
【技术保护点】
一种基板承载机构,其特征在于,包括,支撑架;承载件,所述承载件包括位于所述承载件前端的承载面,用于搭载待蒸镀基板的边缘,所述承载件的后端与所述支撑架固定连接;下压件,所述下压件的至少一部分设置于所述承载件的承载面之上,所述下压件在下压状态下可将所述待蒸镀基板的边缘压紧在所述承载件的承载面上。
【技术特征摘要】
1.一种基板承载机构,其特征在于,包括,支撑架;承载件,所述承载件包括位于所述承载件前端的承载面,用于搭载待蒸镀基板的边缘,所述承载件的后端与所述支撑架固定连接;下压件,所述下压件的至少一部分设置于所述承载件的承载面之上,所述下压件在下压状态下可将所述待蒸镀基板的边缘压紧在所述承载件的承载面上。2.根据权利要求1所述的基板承载机构,其特征在于,所述下压件的后端与所述承载件的后端固定连接,所述下压件由弹性材料制成,所述下压件的前端在自由状态下与所述承载件的前端之间留有用于置入所述待蒸镀基板边缘的间隙。3.根据权利要求1或2所述的基板承载机构,其特征在于,所述承载件设置有一个,所述承载件的承载面沿所述支撑架的长度方向延伸为条状;和/或,所述下压件设置有一个,所述下压件沿所述支撑架的长度方向延伸为条状。4.根据权利要求1所述的基板承载机构,其特征在于,在所述承载件的承载面上设置有防滑结构;和/或,在所述下压件与所述待蒸镀基板边缘相接触的表面设置有防滑结构。5.根据权利要求1所述的基板承载机构,其特征在于,还包括驱动装置,所述驱动装置驱动所述下压...
【专利技术属性】
技术研发人员:张峰杰,张鑫狄,
申请(专利权)人:京东方科技集团股份有限公司,
类型:发明
国别省市:北京,11
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