有源阵列基板、显示面板及其制造方法技术

技术编号:15010279 阅读:70 留言:0更新日期:2017-04-04 15:37
本发明专利技术提供一种有源阵列基板、显示面板及其制造方法,其中显示面板包括基板、有源阵列、配向层、保护层、对向基板以及显示介质层。有源阵列设置在基板上。配向层覆盖有源阵列以及基板。保护层设置在配向层上,其中保护层全面覆盖配向层。对向基板设置在基板的对向。显示介质层设置在基板与对向基板之间,且保护层位于显示介质层与配向层之间。本发明专利技术另提供一种显示面板的制造方法以及有源阵列基板。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是有关于一种有源阵列基板、显示面板及其制造方法
技术介绍
由光配向制程所形成的配向层是以线性偏极化光照射光配向材料以进行配向。然而,光配向材料在配向时若未反应完全,其很有可能在后续制程中受到制程环境的影响而改变配向方向或降低配向能力,导致应用此配向层的显示面板的显示品质下降。为了改善上述问题,现有技术在液晶层中加入光反应型单体,并在显示面板的有源阵列基板与对向基板组立之后,通过紫外光照射,使光反应型单体与配向层的表层产生链结,并使配向层反应完全。然而,在配向层反应完全之前,其他紫外光制程可能会影响配向层的配向能力。例如是在有源阵列基板与对向基板的组立制程时,需通过高能量的紫外光照射用以接合有源阵列基板与对向基板的框胶以使其固化。在照射时,需设置遮罩(mask)曝露出框胶并遮蔽液晶层,以避免高能量的紫外光影响到光反应型单体与配向层后续的配向效果。然而,当遮罩偏移或遮蔽不完全时,位于周边的光反应型单体以及配向层的其中至少一者的反应波段若与上述高能量的紫外光的波段重叠都会影响到配向方向,而造成周边缺陷(mura)。虽然可通过改变光反应型单体的反应波段,以避免光反应型单体受到高能量的紫外光的影响,但还是难以避免配向层中未反应完全的侧链对高能量的紫外光产生反应。即便使用上述用以配向的线性偏极化光来固化框胶,由于线性偏极化光经过液晶层后会改变其偏极化方向,因此接触到线性偏极化光的侧链也无法沿预定的配向方向排列。有鉴于上述,如何降低配向层受制程环境的干扰,而具有良好的配向能力,实为目前研发人员亟欲解决的问题之一。
技术实现思路
本专利技术提供一种有源阵列基板、显示面板及其制造方法。本专利技术的一种显示面板的制造方法,其包括以下步骤:于基板上形成有源阵列;于基板上形成配向层,其中配向层覆盖有源阵列以及基板;于配向层上形成保护层,其中保护层全面覆盖配向层;以及使基板与对向基板接合,其中基板与对向基板之间形成有显示介质层,且保护层位于显示介质层与配向层之间。本专利技术的一种显示面板,其包括基板、有源阵列、配向层、保护层、对向基板以及显示介质层。有源阵列设置在基板上。配向层覆盖有源阵列以及基板。保护层设置在配向层上,其中保护层全面覆盖配向层。对向基板设置在基板的对向。显示介质层设置在基板与对向基板之间,且保护层位于显示介质层与配向层之间。本专利技术的一种有源阵列基板,其包括基板、有源阵列、配向层以及保护层。有源阵列设置在基板上。配向层覆盖有源阵列以及基板。保护层设置在配向层上,其中保护层全面覆盖配向层。基于上述,本专利技术在配向层上设置可与配向层的表层产生链结的保护层,以进一步稳固配向层的配向方向,并可避免配向层在配向后受到后续制程环境的干扰。因此,本专利技术的配向层可具有良好的配向能力,而应用此配向层的显示面板可具有良好的显示品质。附图说明图1A至图1D是本专利技术的一实施例的一种显示面板的制造流程的剖面示意图。附图标记说明:100:显示面板;110:基板;120:有源阵列;130:周边线路结构;140:配向层;150:保护层;160:对向基板;170:显示介质层;180:框胶;A1:有源区;A2:周边区;AR:有源阵列基板。具体实施方式图1A至图1D是本专利技术的一实施例的一种显示面板的制造流程的剖面示意图。请参照图1A,于基板110上形成有源阵列120。基板110的材料可以是玻璃、石英、聚酯类、聚碳酸酯类或其它适合的材料。基板110可划分有有源区A1以及周边区A2。周边区A2位于有源区A1的至少一侧,且例如环绕有源区A1,但不限于此。有源阵列120设置在基板110上,且位于有源区A1中。有源阵列120例如包括未示出的多条扫描线、多条数据线、多个有源元件以及多个像素电极。扫描线与数据线交错设置而划分出阵列排列的多个像素单元。各像素单元中设置有至少一与相应的扫描线以及数据线电性连接的有源元件以及与有源元件电性连接的像素电极。各有源元件可包括一栅极、一栅绝缘层、一通道层、一源极以及一漏极。此外,有源阵列120还可包括覆盖这些有源元件的绝缘层。绝缘层具有多个开口,这些开口分别曝露出其中一漏极的部分区域,使得这些像素电极可分别通过其中一开口与对应的漏极电性连接。依据显示面板种类的不同,像素电极的一侧可进一步设置至少一共用电极,且当像素电极与共用电极皆设置在基板110上时,像素电极与共用电极可通过一介电层而分隔开来。举例而言,当显示面板为边缘电场切换(FringeFieldSwitching,FFS)式显示面板时,像素电极与共用电极例如呈上下配置的关系,且位于上方的电极曝露出至少部分位于下方的电极,以在平行于基板110的方向上形成水平电场。另一方面,当显示面板为共平面切换(In-PlaneSwitching,IPS)式显示面板时,像素电极与共用电极例如呈左右配置的关系,且两者在平行于基板110的方向上呈交替排列。如图1A所示,可进一步于基板110上形成周边线路结构130。周边线路结构130位于周边区A2中,且例如包括未示出的信号线、接地线或其他线路等。请参照图1B,于基板110上形成配向层140,其中配向层140覆盖有源阵列120以及基板110。在本实施例中,配向层140进一步覆盖周边线路结构130。配向层140例如为连续状薄膜,且其材料为聚酰亚胺(polyimide,PI)。形成配向层140的方法例如包括以下步骤。首先,将聚酰亚胺材料整面地涂布在有源阵列120、周边线路结构130以及基板110上。接着,烘烤聚酰亚胺材料,以使其固化,其中配向层140的烘烤温度例如介于摄氏150度至摄氏250度之间,但不限于此。然后,以一线性偏极化紫外光照射烘烤后的聚酰亚胺材料,以进行配向并形成配向层140。配向层140的配向方向平行于线性偏极化紫外光的偏极化方向。在本实施例中,线性偏极化紫外光例如是正向入射基板110,且线性偏极化紫外光的偏极化方向平行于通电后像素电极与共用电极之间所产生的水平电场。请参照图1C,于配向层140上形成保护层150。如此,即初步完成有源阵列基板AR。有源阵列基板AR包括基板110、有源阵列120、周边线路结构130、配向层140以及保护层150,其中有源阵列120设置在基板110上,周边线路结构130设置在基板110上有源阵列120以外的区域(即周边区A2)本文档来自技高网
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【技术保护点】
一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:于一基板上形成一有源阵列;于该基板上形成一配向层,其中该配向层覆盖该有源阵列以及该基板;于该配向层上形成一保护层,其中该保护层全面覆盖该配向层;以及使该基板与一对向基板接合,其中该基板与该对向基板之间形成有一显示介质层,且该保护层位于该显示介质层与该配向层之间。

【技术特征摘要】
2014.08.13 TW 1031277781.一种显示面板的制造方法,其特征在于,包括:
于一基板上形成一有源阵列;
于该基板上形成一配向层,其中该配向层覆盖该有源阵列以及该基板;
于该配向层上形成一保护层,其中该保护层全面覆盖该配向层;以及
使该基板与一对向基板接合,其中该基板与该对向基板之间形成有一显
示介质层,且该保护层位于该显示介质层与该配向层之间。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法,其特征在于,该保护
层的材料包括光反应型材料或热反应型材料。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制造方法,其特征在于,光反应
型材料选自式(1)至式(6)所组成的群组:
其中l、m及n分别为大于或等于1的整数,且X为选自式(7)以及式(8)
所组成的群组,而Y为选自式(9)至式(11)所组成的群组:
其中A为碳数大于0的烷基、卤烷基或氧烷基,且A为直链型或支链型,
R1至R11各自选自由氢、卤素、甲基、氰基以及亚克力基所组成的群组。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制造方法,其特征在于,形成该
保护层的方法包括涂布、烘烤以及紫外光固化,且该保护层的烘烤温度介于
摄氏50度至摄氏150度之间。
5.根据权利要求4所述的显示面板的制造方法,其特征在于,形成该
配向层的方法包括涂布、烘烤以及照射一线性偏极化紫外光,且该线性偏极
化紫外光的波长不同于形成该保护层的紫外光的波长。
6.根据权利要求2所述的显示面板的制造方法,其特征在于,热反应
型材料选自式(12)至式(14)所组成的群组:
其中α为选自苯环、双酚以及式(15)所组成的群组,β为选自苯环、双酚、
式(15)以及式(16)所组成的群组,而γ为选自苯环、双酚以及式(17)所组成的
群组:
其中Q以及W各自选自氢、卤素、甲基、氰基或为碳数大于或等于0
的烷基、卤烷基或氧烷基,且Q以及W各自为直链型或支链型,R12及R13
各自选自由氢、卤素、甲基以及氰基所组成的群组。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制造方法,其特征在于,形成该
保护层的方法包括涂布以及烘烤,且该保护层的烘烤温度介于摄氏50度至摄
氏150度之间。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制造方法,其特征在于,接合该
基板与该对向基板的方法包括于该基板与该对向基板之间形成一框胶,该框
胶环绕该显示介质层且设置在该保护层与该对向基板之间。
9.一种显示面板,其特征在于,包括:
一基板;
一有源阵列,设置在该基板上;
一配向层,覆盖该有源阵列以及该基板;
一保护层,设置在该配向层上,其中该保护层全面覆盖该配向层;
一对向基板,设置在该基板的对向;以及
一显示介质层,设置在该...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴宏昱连詹田
申请(专利权)人:中华映管股份有限公司
类型:发明
国别省市:中国台湾;71

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