电路基板的光学定位结构制造技术

本发明专利技术提供了一种电路基板的光学定位结构，包括有一透光区形成在该电路基板的一选定位置。一第一表面识别图型形成在该电路基板的第一表面，并位于该透光区邻近位置，且该第一表面识别图型具有一对应于该透光区的一透光对应区。一第二表面识别图型形成在该电路基板的第二表面，该第二表面识别图型具有至少一对应于该透光区的一镂空区。本发明专利技术提供用单一光学装置就可执行电路基板的上表面及下表面的识别定位，改善传统的定位装置必须用两个独立的光学装置对电路基板进行取像、识别、定位的缺点。

【技术实现步骤摘要】
电路基板的光学定位结构
本专利技术是关于一种电路板的光学识别定位结构，尤其是涉及一种包括有一第一表面识别图型及一第二表面识别图型的电路基板或衬底。
技术介绍
在相关
的产业中，使用一般的传统定位机器来定位电路基板时，需使用定位装置让电路基板的位置一致，由于通常的电路基板都会设计有多个定位圆孔，该定位装置使用定位柱来固定定位圆孔并用多个定位装置的光学装置来观看电路板是否定位于位置上，该光学装置用以识别定位时，也仅能单面识别定位，且该定位装置需将两个以上的光学装置，设置于电路基板表面及反面进行校正对位，且该定位圆孔最少需要有三个点以上才可以保证电路板于定位点上。传统定位装置存在下列缺点：(1)需在电路板的上表面及下表面分别设置至少一个光学装置，使定位装置结构复杂成本过高并且只适用于特定规格的器具。(2)定位装置使用空间过大造成空间上的浪费。(3)定位装置进行识别定位时，需进行多次识别定位的动作，此作业耗时且会有较大的误差，导致产品成品率下降。
技术实现思路
据此，鉴于传统定位装置的缺点，本专利技术的主要目的即是提供用单一光学装置就可执行电路基板的上表面及下表面的识别定位，改善传统的定位装置必须用两个独立的光学装置对电路基板进行取像、识别、定位的缺点。为了实现上述目的，本专利技术电路基板的光学定位结构主要是由设置于电路基板上的光学定位结构对光学装置进行识别定位。其中光学定位结构具有一透光区、一第一表面识别图型、一第二表面识别图型所组成。第一表面识别图型形成在该电路基板的第一表面，并位于该透光区邻近位置。第一表面识别图型具有第一覆层，该第一覆层形成至少一透光对应区。而在该透光对应区外环处形成一外邻区。第二表面识别图型形成在该电路基板的第二表面，该第二表面识别图型具有至少一对应于该透光区处的镂空区，第二覆层形成在该电路基板的第二表面，且第二覆层形成该镂空区，镂空区的直径小于透光对应区的直径。根据本专利技术的光学定位结构，当一第一光源投射向该电路基板的第一表面时，该光学装置在该电路基板的该第一表面一预定高度位置处，以该第一表面识别图型作为该电路基板的第一表面的一第一光学定位点；当一第二光源投射向该电路基板的第二表面时，该第二光源通过该第二表面识别图型的该镂空区及该透光区，而在该电路基板的第一表面呈现出一反映该镂空区的光学亮点，该光学装置在该电路基板的该第一表面一预定高度位置处，以该光学亮点作为该电路基板的第二表面的一第二光学定位点。本专利技术的优点在于：(1)利用单一光学装置对电路基板的第一表面及第二表面进行识别定位，通过减少光学装置的数量，以提高产能及产品成品率进而降低使用者的使用成本。(2)结构简单不需过多的零组件，适用于任何规格的器具。(3)进行识别定位时，只需完成一次识别定位，可节省时间成本并提高效率。本专利技术所采用的具体实施方式，将根据以下的实施例及附图作进一步说明。附图说明图1是显示本专利技术电路基板的光学定位结构的立体示意图。图2是显示本专利技术电路基板的光学定位结构的第一表面扩大图。图3是显示本专利技术电路基板的光学定位结构的第二表面扩大图。图4是显示图2的A-A剖面图。图5是显示第一表面识别图型定位剖面图。图6是显示第一表面识别图型定位图。图7是显示第二表面识别图型定位剖面图。图8是显示第二表面识别图型定位图。图9是显示本专利技术电路基板的光学定位结构第二实施例示意图。图10是显示图9中B-B剖面图。图11是显示光学定位结构的衬底第一表面扩大图。图12是显示光学定位结构的衬底第二表面扩大图。符号说明1、1a光学定位结构11透光区12第一表面识别图型121第一覆层122透光对应区123外邻区124间隔图型区13第二表面识别图型131第二覆层132镂空区2电路基板21第一表面22第二表面23第一端24第二端25导电线路3光学装置4衬底41第一表面42第二表面L1第一光源L2第二光源M第一光学定位点N第二光学定位点具体实施方式请参阅图1至图4，图1是显示本专利技术电路基板的光学定位结构的立体示意图，图2是显示本专利技术电路基板的光学定位结构的第一表面扩大图，图3是显示本专利技术电路基板的光学定位结构的第二表面扩大图，图4是显示图2的A-A剖面图。如图所示，本专利技术电路基板的光学定位结构，凭借所提供的一光学装置3对一电路基板2的第一表面21以及该电路基板2的第二表面22进行识别定位作业，该电路基板2具有一第一端23、一第二端24以及布设在该第一端23与该第二端24之间的导电线路25，其特征在于该光学定位结构1包括有一透光区11、一第一表面识别图型12、一第二表面识别图型13。其中该电路基板2为一软性电路基板。透光区11呈一圆形透光区并形成在该电路基板2的一选定位置，该透光区11位于第一表面识别图型12与第二表面识别图型13之间。第一表面识别图型12形成在该电路基板2的第一表面21，并位于该透光区11邻近位置。第一表面识别图型12具有一第一覆层121，该第一覆层121形成在电路基板2之第一表面21并可用铜箔、铝箔或其它金属或非金属材料制成，该第一覆层121形成至少一透光对应区122，该透光对应区122呈一圆形透光对应区。而在该透光对应区122的外环一预定距离处，形成一外邻区123，该透光对应区122与该外邻区123之间形成一间隔图型区124。在实际制作时，该第一覆层121可通过蚀刻的方式而形成该透光对应区122、该外邻区123，而在该透光对应区122与该外邻区123之间形成一未蚀刻的间隔图型区124。除采用蚀刻方法之外，也可采用例如溅镀、蒸镀等方式。第二表面识别图型13形成在该电路基板2的第二表面22，该第二表面识别图型13具有至少一对应于该透光区11处的镂空区132。第二覆层131可用铜箔、铝箔或其它金属或非金属材料制成并形成在该电路基板2的该第二表面22，而该镂空区132呈一圆形镂空区132，且该圆形镂空区132的直径小于该圆形透光对应区122的直径。在镂空区132也可采用例如蚀刻、溅镀、蒸镀等方式而形成。请参阅图5及图6，图5是显示第一表面识别图型定位剖面图，图6是显示第一表面识别图型定位图。如图所示，第一表面识别图型12形成在该电路基板2的第一表面21，并位于该透光区11邻近位置，且该第一表面识别图型12具有对应于该透光区11的透光对应区122。当光学装置3在该电路基板2的第一表面21的一预定高度位置处，该光学装置3进行光学定位时，将第一光源L1投射向该电路基板2的第一表面21，该透光对应区122的外环预定距离处以蚀刻形成的外邻区123，因第一光源L1投射而形成第一表面识别图型12，该第一表面识别图型12作为该电路基板2之第一表面21的一第一光学定位点M。请参阅图7及图8，图7是显示第二表面识别图型定位剖面图，图8是显示第二表面识别图型定位图。如图所示，第二表面识别图型13形成在该电路基板2的第二表面22，该第二表面识别图型13具有至少一对应于该透光区11的一镂空区132。当第二光源L2投射向该电路基板2的第二表面22时，该第二光源L2通过该第二表面识别图型13的镂空区132及该透光区11，而在该电路基板2的第一表面21呈现出一反映该镂空区132的光学亮点并将光学亮点作为第二表面识别图型13，该光学装置3在该电路基板2的第一表面21本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种电路基板的光学定位结构，用以提供一光学装置对一电路基板的第一表面以及该电路基板的第二表面进行识别定位，该电路基板具有一第一端、一第二端以及布设在该第一端与该第二端之间的导电线路，其特征在于，该光学定位结构包括:一透光区，形成在该电路基板的一选定位置；一第一表面识别图型，形成在该电路基板的第一表面，并位于该透光区邻近位置，且该第一表面识别图型具有一对应于该透光区的一透光对应区；一第二表面识别图型，形成在该电路基板的第二表面，该第二表面识别图型具有至少一对应于该透光区的一镂空区；当一第一光源投射向该电路基板的第一表面时，该光学装置在该电路基板的该第一表面一预定高度位置处，以该第一表面识别图型作为该电路基板的第一表面的一第一光学定位点；当一第二光源投射向该电路基板的第二表面时，该第二光源通过该第二表面识别图型的该镂空区及该透光区，而在该电路基板的第一表面呈现出一反映该镂空区的光学亮点，该光学装置在该电路基板的该第一表面一预定高度位置处，以该光学亮点作为该电路基板的第二表面的一第二光学定位点。

【技术特征摘要】
2013.10.16 TW 1021372591.一种电路基板的光学定位结构，用以提供一光学装置对一电路基板的第一表面以及该电路基板的第二表面进行识别定位，该电路基板具有一第一端、一第二端以及布设在该第一端与该第二端之间的导电线路，其特征在于，该光学定位结构包括:一透光区，形成在该电路基板的一选定位置；一第一表面识别图型，形成在该电路基板的第一表面，并位于该透光区邻近位置，且该第一表面识别图型具有一对应于该透光区的一透光对应区；一第二表面识别图型，形成在该电路基板的第二表面，该第二表面识别图型具有至少一对应于该透光区的一镂空区；当一第一光源投射向该电路基板的第一表面时，该光学装置在该电路基板的该第一表面一预定高度位置处，以该第一表面识别图型作为该电路基板的第一表面的一第一光学定位点；当一第二光源投射向该电路基板的第二表面时，该第二光源通过该第二表面识别图型的该镂空区及该透光区，而在该电路基板的第一表面呈现出一反映该镂空区的光学亮点，该光学装置在该电路基板的该第一表面一预定高度位置处，以该光学亮点作为该电路基板的第二表面的一第二光学定位点；其中，该第一表面识别图型包括:一第一覆层形成在该电路基板的该第一表面；在该第一覆层对应于该透光区处，形成该透光对应区；在该透光对应区的外环一预定距离处，形成一外邻区。2.如权利要求1所述电路基板的光学定位结构，其特征在于，该第一覆层是以金属或非金属材料制成。3.如权利要求1所述电路基板的光学定位结构，其特征在于，该第二表面识别图型包括:一第二覆层形成在该电路基板的该第二表面；在该第二覆层对应于该透光区处，形成该镂空区。4.如权利要求3所述电路基板的光学定位结构，其特征在于，该第二覆层是以金属或非金属材料制成。5.如权利要求1所述电路基板的光学定位结构，其特征在于，该透光区呈圆形；该透光对应区呈圆形；该镂空区呈圆形，且该镂空区的直径小于该透光对应区的直径。6.如权利要求1所述电路基板的光...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏国富，庄子健，
申请(专利权)人：易鼎股份有限公司，
类型：发明
国别省市：中国台湾;71