本发明提供一种基板处理方法，用以处理基板，前述基板具有：第一主表面，具有第一周缘部；第二主表面，与前述第一主表面为相反侧的面且具有第二周缘部；以及外周端，连接前述第一周缘部以及前述第二周缘部。基板处理方法包含：保护膜形成工序，对前述第一...

本发明的目的在于能通过使刷子作用于衬底的面瞬时依循衬底的倾斜，不对衬底的洗净面造成损伤而进行洗净。本发明涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置。在洗净部(77)位于衬底的周缘部的情况下，根据周缘部的倾斜，外周刷(515)相对于中央刷(...

本发明的基板清洗装置具备：一对上侧保持装置，其保持基板的外周端部；下表面刷，其与基板的下表面接触而将基板的下表面清洗；以及控制装置，其在下表面刷清洗基板的下表面中央区域的期间，使向上方推压清洗工具的上推力变化。

本发明涉及一种基板处理方法及基板处理装置及处理液。基板处理方法具备处理液供给工序、固化膜形成工序及升华工序。在处理液供给工序中，将处理液供给至基板。处理液包含升华性物质及溶剂。在固化膜形成工序中，溶剂自基板上的处理液中蒸发。在固化膜形成...

本发明的基板处理装置(100)具有基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括：时间变化获取部(22b)，基于在处理液供给部(130)向基板(W)供给处理液的期间由成分存...

本发明的目的在于能通过考虑刷子的面内的压力分布，而提高衬底的面内的清洁度的均一性。本发明涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置以及刷子的推压力控制方法。控制部以基于面内压力分布检测部(SPD)的压力分布，根据衬底的径向上的刷子(99)...

基板处理装置包含：基板保持构件，将基板保持为规定的处理姿势；聚合物膜形成构件，将含有光致产酸剂以及聚合物的聚合物膜形成于被所述基板保持构件保持的基板的第一主表面，光致产酸剂通过光的照射而生成酸；光射出构件，射出光，并对被所述基板保持构件...

本发明的基板处理装置(100)具有：基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括：时间变化获取部(22b)，基于在从处理液供给部(130)开始向基板(W)供给处理液之后至...

提供一种基板处理方法，用以处理具有第一主表面以及第一主表面的相反侧的第二主表面的基板。以使基板的第一主表面的周缘区域露出并覆盖内侧区域的方式形成聚合物膜，该内侧区域在第一主表面中比周缘区域靠内侧且与周缘区域邻接(聚合物膜形成工序)。在聚...

本发明提供一种对涂敷膜的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)具备腔室(10)、支撑部(20)、冷却部(40)、第一升降部(100)、减压机构(30)和控制部(80)。支撑部(20)在腔室内支撑基板(9)。冷却...

本发明提供使抗蚀剂的剥离能力提高的技术。基板处理方法具有：保持工序(S1)，使保持部(1)保持设置有抗蚀剂的基板(W)；第一等离子体处理工序(S2)，对被保持部(1)保持的基板(W)照射等离子体；液膜形成工序(S3)，在进行第一等离子体...

控制部将在清洗处理部中在清洗处理的后半阶段使用过的排出液供给到清洗处理部，将在清洗处理部中在清洗处理的后半阶段使用过的排出液供给到清洗处理部。将在清洗处理部中使用过的排出液在清洗处理部中再利用，将在清洗处理部中使用过的排出液在清洗处理部...

本发明的基板处理方法中，对具有含复数个构造物(23)的图案(PT)的基板(W)进行处理。基板处理方法包括悬浮液供给步骤(S3)、纯水排除步骤(S4)与粒子升华步骤(S5)。悬浮液供给步骤(S3)中，通过将混合存在纯水(251)与复数个升...

本发明涉及研磨方法及基板处理装置。研磨方法具备：使基板W以水平姿态旋转的旋转工序；通过向基板W的背面供给蚀刻液而将在基板W的背面形成的膜除去的蚀刻工序；和研磨工序，其中，在将基板W的背面的膜除去后，使具有分散有磨粒的树脂体的研磨工具96...

本发明提供一种在铅垂方向上具有短的长度的基板处理装置。基板处理装置(1)具备基板保持部(41)、护罩(51)、刷子(61)、马达(81)和臂(71)。基板保持部(41)将基板(W)以水平姿势保持。护罩(51)配置在基板保持部(41)的侧...

本发明涉及研磨装置、基板处理装置以及研磨方法。研磨装置具备研磨单元22。研磨单元22具备：在将基板W保持为水平姿态的状态下使基板W旋转的保持旋转部35；对基板W进行加热的热板45；以及包含分散有磨粒的树脂体的研磨工具96，该研磨工具96...

本发明提供一种基板清洗刷及基板清洗装置。基板清洗刷包括清洗部，在基板的清洗中使用。清洗部具有在清洗基板时能够与基板接触的清洗面。在清洗面上形成切缝。清洗部通过切缝被划分成多个清洗块。在清洗面与基板接触时，通过清洗部的弹性变形，各清洗块和...

基板处理装置1具备：使基板W相对于载具出入的分度器机器人；在对基板W进行加热的同时研磨基板的背面的研磨单元22；以及将从分度器机器人搬送来的基板W搬送到研磨单元的基板搬送机器人。研磨单元22具备：在将基板W保持为水平姿态的状态下使基板W...

本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理装置及衬底处理液。本发明的衬底处理方法是一种对衬底W的图案形成面进行处理的衬底处理方法，且包括如下步骤：供给步骤，向所述图案形成面供给包含升华性物质及溶剂的衬底处理液；固化步骤，使所述供给步骤中供给至...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，能够抑制因位置偏离而引起的基板的处理不良的产生。所述基板清洗装置包含腔室、第一处理部及第二处理部。腔室形成包含第一处理位置及第二处理位置的处理空间。第一处理部对在腔室内配置于第一处理位置的基板进...