基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种在铅垂方向上具有短的长度的基板处理装置。基板处理装置(1)具备基板保持部(41)、护罩(51)、刷子(61)、马达(81)和臂(71)。基板保持部(41)将基板(W)以水平姿势保持。护罩(51)配置在基板保持部(41)的侧方。马达(81)使刷子(61)旋转。臂(71)支承刷子(61)和马达(81)。臂(71)使刷子(61)和马达(81)移动。当臂(71)将刷子(61)配置到处理位置(Qa)时，刷子(61)与基板保持部(41)所保持的基板(W)接触。当臂(71)将刷子(61)配置到处理位置(Qa)时，马达(81)的至少一部分配置在比护罩(51)的上缘(52)低的位置。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及基板处理装置。基板例如为半导体晶片、液晶显示器用基板、有机el(electroluminescence，电致发光)用基板、fpd(flat panel display，平板显示器)用基板、光显示器用基板、磁盘用基板、光盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、太阳能电池用基板。

技术介绍

1、日本国特开平8-243518公报公开了一种处理基板的基板处理装置。日本国特开平8-243518公报的基板处理装置具备基板保持部、护罩、刷子、马达和臂。基板保持部以水平姿势保持基板。护罩配置在基板保持部的侧方。马达使刷子旋转。臂支承刷子和马达。臂使刷子和马达移动。臂将刷子配置到处理位置。当臂将刷子配置到处理位置时，刷子与基板保持部所保持的基板接触。

技术实现思路

1、在以往的基板处理装置中，臂将马达支承在上方。臂在比刷子高的位置处支承马达。马达的高度位置明显比刷子的高度位置高。因此，臂较大。具体而言，臂在铅垂方向上的长度大。因此，基板处理装置大。具体而言，基板处理装置的高度高。基板处理装置在铅垂方向上的长度大。<本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

9.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

10.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

5.如权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，

9.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

10.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

11.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：安武阳介，石川道明，大野拓也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：