专利查询
首页
专利评估
登录
注册
中芯国际集成电路制造上海有限公司专利技术
中芯国际集成电路制造上海有限公司共有12325项专利
化学机械研磨机台的改良型喷头结构制造技术
本实用新型提供一种化学机械研磨机台的改良型喷头结构。现有的喷头结构具有固定的喷嘴,只能从一个位置向研磨垫上喷洒研磨液,容易造成研磨垫局部磨损过快以及无法根据需要调节研磨液流量分布的问题。本实用新型的化学机械研磨机台的改良型喷头结构,包括...
一种改进型化学机械研磨液容器制造技术
本实用新型提供了一种改进型化学机械研磨液容器,其包括:容器本体,设置于容器本体下部并且和容器本体相连的出液管道,设置于容器本体上部并且深入容器本体内部的入液管道,所述的入液管道为环形结构,所述环形结构入液管道上设置有若干朝向容器内壁的喷...
抛光设备的清洗装置制造方法及图纸
一种抛光设备的清洗装置,包括: 二喷孔设于该抛光设备的清洗装置的两侧;及 一洗剂入口设于该抛光设备的清洗装置; 其中所述的二喷孔形成的二信道与所述的洗剂入口所形成的一信道相连接。
铝金属的化学机械研磨方法技术
一种金属的化学机械研磨方法,该方法包括: 形成金属图案于一底材之上; 形成一绝缘层于所述金属图案之上; 以化学机械研磨法研磨该绝缘至该金属表面,该化学机械研磨法所采用的研磨剂包含一易吸附于该金属上的表面活性剂;及 ...
研磨液再利用装置及其系统制造方法及图纸
一种研磨液再利用装置及其系统,应用于化学机械研磨制程,该系统包含研磨液循环管路、至少一连接该研磨液循环管路的研磨液供给单元、若干个连接该研磨液循环管路的研磨液再利用装置、及若干个分别连接该研磨液再利用装置的化学机械研磨单元;该装置包括:...
对镜结构进行化学机械抛光的方法技术
一种对镜结构进行化学机械抛光的方法,这种镜结构可以用于LCOS、DLP显示器、及光学器件等。该方法包括提供一个半导体衬底,例如硅晶圆。该方法形成一个覆盖在半导体衬底之上的第一介电层,并且形成一个覆盖在该介电层之上的铝层。该铝层具有大于2...
电子显微镜检测样品用的研磨工具制造技术
制造显微镜检测样品用的T-形研磨工具,包括:底座A,具有T形结构;上螺丝A1、左螺丝A2、右螺丝A3、锁紧螺丝A4;样品底座A5;左螺丝A2和右螺丝A3对称地设置在T-形底座一横的两端,上螺丝A1设置在T-形底座一竖的末端;锁紧螺丝A4...
故障报警装置及故障报警方法制造方法及图纸
一种故障报警装置,包括:运行指令捕捉装置,用于捕捉化学机械抛光设备开始运行的指令;工作状态信号捕捉装置,用于捕捉化学机械抛光设备是否处于设定工作状态的工作状态信号;计时报警装置,在运行指令捕捉装置捕捉到化学机械抛光设备运行的指令且工作状...
一种改进型抛光垫调节器工艺制造技术
本发明提供了一种改进型抛光垫调节器工艺,涉及化学机械抛光工艺。采用现有的抛光垫调节器工艺无法有效清除抛光垫表面的抛光液结晶,且抛光垫的使用寿命较短。本发明的改进型抛光垫调节器工艺,先采用高压水或抛光液冲洗和修整抛光垫表面以去除抛光液结晶...
化学机械研磨机台的维护方法技术
本发明公开了一种化学机械研磨机台的维护方法。现有的化学机械研磨机台通过分步执行研磨消耗品更换与维护、新研磨垫磨合和刷子磨合步骤来实现常规维护,其花费时间较长,大大降低了机台的使用效率。本发明的维护方法在完成研磨消耗品更换与维护后,同时执...
一种改善晶片研磨不足厚度偏厚的方法及装置制造方法及图纸
一种改善晶片研磨不足厚度偏厚的方法及装置,通过在控制阀组和Godzilla系统之间增加两个控制阀,从而使Godzilla系统由第一研磨盘、第二研磨盘、第三研磨盘共同控制,即Godzilla系统只有在第一研磨盘、第二研磨盘、第三研磨盘都停...
流体流速稳定装置及研磨液供给装置制造方法及图纸
本发明公开了一种流体流速稳定装置,该装置包括缓冲体和壳体,所述缓冲体顶部具有流体入口,所述壳体底部具有流体出口,所述壳体内具有调整体,所述调整体包括上端固定的弹性连接部件,以及与弹性连接部件的下端相连的阀塞,且所述弹性部件以及阀塞与所述...
化学机械研磨装置及清洗研磨垫、研磨头的方法制造方法及图纸
本发明提供一种化学机械研磨装置及清洗研磨垫(pad)、研磨头(head)的方法,所述装置在芯片研磨平台(platen)外侧套设可沿其外壁上下升降的套筒,当研磨芯片时,将所述套筒降低,露出研磨垫,研磨头承载芯片在研磨垫上进行正常的研磨;当...
一种抛光垫修整头制造技术
一种抛光垫修整头,包括可旋转式气管接头(7)、同步带轮(8)、键(5)、支撑体(9)、轴承(10)、转动环(6),转动环(6)上安装有两个轴承(10), 其特征在于,还包括第二转动块(14)、第一气缸缸体(15)、第一气缸活塞(16)、...
一种芯片测试卡定位台制造技术
本实用新型涉及一种芯片测试卡定位台,用于在芯片测试卡圆孔加工过程中定位芯片测试卡,该定位台具有一放置所述芯片测试卡的工作基准面,该工作基准面上设有与所述芯片测试卡相适配的定位槽,只要将芯片测试卡置入该定位槽中,适当对芯片测试卡施加压力,...
氩弧焊机用的电磁隔离屏蔽罩制造技术
本发明公开一种氩弧焊机用的电磁隔离屏蔽罩,包括罩在氩弧焊机外面的电磁隔离屏蔽罩,和加在焊把线和接地线外围的电磁隔离屏蔽套。电磁隔离屏蔽罩是用紫铜网构成。使用了按照本发明的氩弧焊机电磁隔离屏蔽罩后对氩弧焊机所产生的强电磁感应具有明显的隔离...
清除芯片以及铅锡合金凸点表面助焊剂的方法技术
本发明提供了一种清除芯片以及铅锡合金凸点表面助焊剂的方法,包括如下步骤:使用水基清洗试剂清洗芯片以及铅锡合金凸点;使用去焊剂清洗芯片以及铅锡合金凸点,清除残留助焊剂。采用本发明提供的方法清洗铅锡合金焊料回流之后的芯片以及铅锡合金凸点,避...
一种火灾探测器的清洗装置制造方法及图纸
本实用新型提供一种火灾探测器的清洗装置,它包括一清洗罩,吹扫进气管、排气管、高压气体输送单元;清洗罩将火灾探测器罩住,吹扫进气管安装在清洗罩内部的一侧,排气管安装在清洗罩内的另一侧;吹扫进气管的一端接所述高压气体输送单元,另一端向上朝向...
排气罩制造技术
一种排气罩,围置于密闭反应室的开口周围以收集并排出废气,其特征是:该排气罩包括:一个中空套管(1100)、以及与该中空套管相连通的管路(1200),该管路(1200)的另一端与真空抽吸装置相连接,在该中空套管(1100)的内壁上设有至少...
晶片清洗方法技术
本发明公开了一种晶片清洗方法,包括步骤:令晶片进行第一旋转;从所述晶片中心上方及位于所述晶片中段上方的第一位置组向所述晶片喷洒去离子水;停止所述第一旋转;令所述晶片进行第二旋转;从位于所述晶片中段上方及所述晶片边缘内侧上方的第二位置组向...
首页
<<
611
612
613
614
615
616
617
>>
尾页
科研机构数量排行前10
华为技术有限公司
110928
珠海格力电器股份有限公司
86046
中国石油化工股份有限公司
71522
浙江大学
67345
中兴通讯股份有限公司
62438
三星电子株式会社
60882
国家电网公司
59735
清华大学
47854
腾讯科技深圳有限公司
45684
华南理工大学
44628
最新更新发明人
威海迈尼生物科技有限公司
13
中山市亿派电器有限公司
1
顾家家居股份有限公司
477
广州王老吉大健康产业有限公司
40
济南格艾特仪器设备有限公司
15
杭州上冲实业有限公司
32
西安三瑞超鼎新能源科技有限公司
27
楚能新能源股份有限公司
2212
上海谙邦半导体设备有限公司
67
中材天安天津工程有限公司
42